第93回先端計測オープンセミナー
ヘリウムイオン顕微鏡を用いたアクティブ電圧コントラストの研究
日時
2017年2月16日(木) 15 : 30~16 : 30
場所
国立研究開発法人 物質・材料研究機構
千現地区 研究本館8階 中セミナー室
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参加方法及びお問合わせ
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講演者
酒井智香子 (エネルギー・環境材料研究拠点 ナノ材料科学環境拠点(GREEN) 計測分野 ナノ表界面計測グループ
NIMSポスドク研究員)
表題
ヘリウムイオン顕微鏡を用いたアクティブ電圧コントラストの研究
講演要旨
種々のデバイスの微細化が進むにつれ、その特性を評価するためには、より高空間分解能でのイメージング技術が必要となってくる。我々は新しい電位分布計測技術の開発を目的とし、これまでに“高空間分解能を有するヘリウムイオン顕微鏡(HIM)を用いたアクティブ電圧コントラスト画像化法”と“電位を定量的に評価できるケルビンプローブフォース顕微鏡を用いた接触電位差画像化法”を使用し、内部電極に電圧印加を行った積層型セラミックコンデンサ断面の観察を行った。講演では、この2つの手法を組み合わせた、新しい電位分布計測技術の開発[C. Sakai et al., Appl. Phys. Lett. 109 (2016) 051603. ]、また、最近HIM装置に導入した電圧印加機構を用いて行った実験結果を紹介する。
