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ニッケル触媒のアンモニア合成活性、窒素空孔の形成されやすさが鍵

-貴金属を使わない触媒の新たな開発指針に-

東京工業大学
物質・材料研究機構 (NIMS)

東京工業大学 元素戦略研究センターの細野秀雄栄誉教授 (NIMS兼任) 、同センターの叶天南特任助教、北野政明准教授らは、遷移金属窒化物とニッケルを組み合わせた各種触媒のアンモニア合成活性を検討し、遷移金属窒化物の窒素空孔形成エネルギーが触媒活性の指標となることを明らかにした。

概要

東京工業大学 元素戦略研究センターの細野秀雄栄誉教授 (物質・材料研究機構兼任) 、同センターの叶天南 (Tian-Nan Ye) 特任助教、北野政明准教授らは、遷移金属窒化物とニッケルを組み合わせた各種触媒のアンモニア合成活性を検討し、遷移金属窒化物の窒素空孔形成エネルギーが触媒活性の指標となることを明らかにした。

ルテニウムや鉄を触媒としたアンモニア合成反応では、金属の表面で窒素が解離する過程が全体の反応速度を支配しているため、金属表面の窒素吸着エネルギーが触媒活性の指標とされてきた。そのため従来の研究の大半が、温和な条件での合成には、最適な窒素吸着エネルギーを有するルテニウムを触媒として用いてきた。本研究は、ニッケルで水素分子を活性化し、担体窒化物上の窒素空孔で窒素分子を活性化する触媒では、従来の触媒と異なり、窒素空孔の形成エネルギーの小ささ、すなわち窒素空孔の形成されやすさが全体の反応速度を支配していることを明らかにした。特に、窒素空孔形成エネルギーが最小となる窒化セリウム (CeN) とニッケルの組み合わせが最も高いアンモニア合成活性を示し、触媒として最適であることを発見した。

本研究は、窒素空孔形成エネルギーという触媒活性の新たな指標を示すことにより、ルテニウムを使わない触媒開発の道筋をつけたといえる。研究成果は米国科学誌「Journal of the American Chemical Society」のトップ5%論文に選定され、8月7日付 (現地時間) にオンライン公開された。


「プレスリリース中の図 : Ni担持LaNでのアンモニア合成の機構。キーとなる窒素分子の活性化を窒素欠陥が担っており、ニッケルは水素の解離のみを行う。」の画像

プレスリリース中の図 : Ni担持LaNでのアンモニア合成の機構。キーとなる窒素分子の活性化を窒素欠陥が担っており、ニッケルは水素の解離のみを行う。



論文情報

題目 : Contribution of nitrogen vacancies to ammonia synthesis over metal nitride catalysts (金属窒化物触媒上でのアンモニア合成における窒素空孔の寄与)
著者 : Tian-Nan Ye,1 Sang-Won Park,1,2 Yangfan Lu,1 Jiang Li,1 Masato Sasase,1 Masaaki Kitano,Hideo Hosono1,2  ([1]東工大元素戦略研究センター、[2]物質・材料研究機構 MANA)
掲載誌 : Journal of the American Chemical Society
掲載日時 : 2020年8月7日 (現地時間)
DOI : 10.1021/jacs.0c06624(別ウィンドウで開きます)


お問い合わせ先

(研究内容に関すること)

東京工業大学
元素戦略研究センター 栄誉教授
細野 秀雄(ホソノ ヒデオ)
TEL: 045-924-5009
FAX: 045-924-5009
E-Mail: hosono=mces.titech.ac.jp
([ = ] を [ @ ] にしてください)
東京工業大学
元素戦略研究センター 准教授
北野 政明(キタノ マサアキ)
TEL: 045-924-5191
FAX: 045-924-5191
E-Mail: kitano.m.aa=m.titech.ac.jp
([ = ] を [ @ ] にしてください)

(取材申込み先)

東京工業大学
総務部 広報課
TEL: 03-5734-2975
FAX: 03-5734-3661
E-Mail: media=jim.titech.ac.jp
([ = ] を [ @ ] にしてください)
国立研究開発法人 物質・材料研究機構
経営企画部門 広報室
〒305-0047 茨城県つくば市千現1-2-1
TEL: 029-859-2026
FAX: 029-859-2017
E-Mail: pressrelease=ml.nims.go.jp
([ = ] を [ @ ] にしてください)

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