電子顕微鏡ユニット

装置一覧

 電子顕微鏡ユニットでサービスを提供する装置群は大きく分類して下記の通りとなります。このページでは、装置の種類ごとに分類して掲載しており、それぞれの装置のARIM/NOF/NIMS内部利用の対象有無を記載していますので、ご参考にしてください。

  • (走査)透過型電子顕微鏡((S/)TEM)
  • 集束イオンビーム装置(FIB)および走査型電子顕微鏡(SEM)
  • 特殊ホルダー
  • その他のTEM/SEM試料作製装置群
  • 解析ソフトウェア

    • (走査)透過型電子顕微鏡((S/)TEM)

     原子レベル、ナノスケールでの構造解析 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　
    装置 JEM-ARM200F-G
    (日本電子)    		 JEM-ARM300F
    (日本電子)    		 JEM-ARM200F-B
    (日本電子)    		 Spectra Ultra
    (日本エフイーアイ)
    外観
    概要 実動環境対応物理分析電子顕微鏡 広空間・高分解能分析電子顕微鏡 実動環境対応型電子線ホログラフィー電子顕微鏡 原子レベル元素分布・構造解析用透過電子顕微鏡
    区分 千現Ａ 千現Ｂ 千現Ａ 千現Ａ
    設置場所 千現地区
    材料信頼性実験棟 118室    		 千現地区
    先進構造材料研究棟 116室    		 千現地区
    ファインプロセス実験棟 125室    		 千現地区
    精密計測実験棟 127室
    (操作室105室)
    ARIM ○ × ○ ×
    NOF ○ × ○ ×
    内部 ○ ○ ○ ○
    Accel. Voltage 200, 80 kV 300, 200, 120, 80 kV 200, 80, 60 kV 300, 200, 60, 30 kV
    EDS Solid angle 0.26srad Dual Type (2×158mm2) Dual Type (Solid angle 1.96srad=2×0.98srad) Ultra-X (Max. 4.45srad)
    EELS GATAN Enfinium GATAN ContinuumER GATAN Quantum Gatan Continuum S
    その他 Electron holography / Tomography ASTAR Precession Diffraction Electron holography 2024/7/1~ 運用開始
    ライセンス A / B C A / B A / B
    　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　
    装置 Talos F200X G2
    (日本エフイーアイ)    		 JEM-2800
    (日本電子)    		 JEM-2100F1
    (日本電子)    		 JEM-2100F2
    (日本電子)
    外観
    概要 200kV透過電子顕微鏡 局所変形観察・解析電子顕微鏡 200kV 電界放出形透過電子顕微鏡 200kV 電界放出形透過電子顕微鏡
    区分 並木 千現Ｂ 千現Ａ 千現Ａ
    設置場所 並木地区
    WPI-MANA棟 W-102室    		 千現地区
    先進構造材料研究棟 115室    		 千現地区
    精密計測実験棟 126室    		 千現地区
    精密計測実験棟 117室
    ARIM × × ○ ○
    NOF × ○ ○ ○
    内部 ○ ○ ○ ○
    Accel. Voltage 200, 80 kV 200 kV 200, 120, 100 kV 200 kV
    EDS Super-X Dual Type (2×100mm2) Spot analysis and Elemental mapping Spot analysis and Elemental mapping
    EELS - GATAN QuantumER GATAN Enfina GATAN Enfina
    その他 Tomography ASTAR Precession Diffraction STEM: ADF and BF / Tomography STEM: ADF and BF
    ライセンス A / B C A / B A / B
    　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　
    装置 JEM-2100
    (日本電子)
    外観
    概要 200kV 透過電子顕微鏡
    区分 千現Ａ
    設置場所 千現地区
    精密計測実験棟 119室
    ARIM ○
    NOF ○
    内部 ○
    Accel. Voltage 200, 160, 120, 100, 80 kV
    EDS Spot analysis
    EELS -
    その他 -
    ライセンス A / B
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    集束イオンビーム装置(FIB)および走査型電子顕微鏡(SEM)

     TEM試料作製や微細加工、ミクロスケールでのSEM観察 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　
    装置 Helios 650
    (日本エフイーアイ)    		 NB5000
    (日立ハイテク)    		 JIB-4000
    (日本電子)    		 JEM-9320FIB
    (日本電子)    		 JEM-9310FIB
    (日本電子)
    外観
    概要 FIB/SEM精密微細加工装置 デュアルビーム加工観察装置 FIB加工装置 FIB加工装置 FIB加工装置
    区分 千現Ａ 千現Ａ 千現Ａ 千現Ａ 千現Ａ
    設置場所 千現地区
    精密計測実験棟 129室    		 千現地区
    精密計測実験棟 129室    		 千現地区
    精密計測実験棟 115室    		 千現地区
    精密計測実験棟 115室    		 千現地区
    精密計測実験棟 212室
    ARIM ○ ○ ○ ○ ○
    NOF ○ ○ ○ ○ ○
    内部 ○ ○ ○ ○ ○
    ライセンス A / B A / B A / B A / B A / B
    　　　 　　　 　　　 　　　 　　　
    装置 JSM-7000F
    (日本電子)    		 Scios2
    (日本エフイーアイ)    		 AurigaLaser
    (カールツァイス)    		 SMF-1000
    (日立ハイテクサイエンス)    		 JSM-7900F
    (日本電子)
    外観
    概要 走査型電子顕微鏡 TEM試料作製用集束イオンビーム加工装置 清浄表面組織観察FIB-SEM装置 微細組織三次元マルチスケール解析装置 走査型電子顕微鏡
    区分 千現Ａ 千現Ｂ 千現Ｂ 千現Ｂ 千現Ｂ
    設置場所 千現地区
    精密計測実験棟 212室    		 千現地区
    先進構造材料研究棟 108室    		 千現地区
    先進構造材料研究棟 109室    		 千現地区
    先進構造材料研究棟 109室    		 千現地区
    先進構造材料研究棟 208室
    ARIM ○ × × ○ ×
    NOF ○ ○ ○ ○ ○
    内部 ○ ○ ○ ○ ○
    ライセンス A / B C C C C
    　　　 　　　 　　　 　　　 　　　
    装置 Ethos NX5000
    (日立ハイテク)    		 TM4000PlusII
    (日立ハイテク)
    外観
    概要 TEM試料自動作製FIB-SEM複合装置 卓上SEM
    区分 並木 並木
    設置場所 並木地区
    無振動特殊実験棟 107号室    		 並木地区
    超高圧電子顕微鏡特殊実験棟 110室
    ARIM ○ ○
    NOF ○ ○
    内部 ○ ○
    ライセンス A / B A / B
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    特殊ホルダー

    ホルダー Model 636 (Gatan) Lightning (DENSsolutions) Model 652 (Gatan) EM-21311HTR (JEOL)
    外観
    概要 2軸傾斜液体窒素冷却TEM試料ホルダー / 冷却最低温度-150℃ 2軸傾斜バイアス印加・加熱TEM試料ホルダー / 最高加熱温度1300℃、最高印可電圧100V(DC) 試料加熱二軸傾斜試料ホルダー / 加熱最高温度1000℃ 高傾斜試料台 / 傾斜角±70°
    設置場所 千現地区
    精密計測実験棟 128室    		 千現地区
    精密計測実験棟 128室    		 千現地区
    精密計測実験棟 128室    		 千現地区
    精密計測実験棟 128室
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    その他のTEM/SEM試料作製装置群

     千現地区（千現地区試料作製室（精密計測実験棟103室）の利用案内 ）

  • 自動精密切断機 ISOMET Low Speed Saw (Buehler)
  • 精密イオン研磨装置 Model 691 PIPS (Gatan)
  • 楔形研磨装置 Multiprep System (Allied)
  • 精密機械研磨装置 Model 656 Dimple Grinder (Gatan)
  • イオンスライサー EM-09100IS (JEOL)
  • 精密イオン研磨装置 Model 695 PIPS II (Gatan)
  • ウルトラミクロトーム EM UC6 (Leica)
  • ピックアップシステム Pick-up System
  • カーボンコーター Carbon coater JEC -560 (JEOL)
  • オスミウムコーター Osmium coater NL-OPC80A, HPC-1SW
  • 白金コーター Platinum coater JFC-1600 (JEOL)
  • 金コーター Au coater JFC-1500
  • ターボ式真空蒸着装置 High clean vacuum coater SVC-700
  • 超音波ディスクカッター Ultrasonic Disc Cutter Model 601
  • 精密コーティングシステム Model 682 (Gatan)
    •  ※真空蒸着装置の蒸着源はご持参ください。

     並木地区

  • 無損傷電子顕微鏡試料薄片化装置 Model 1040 Nanomill (Fischione)
  • 精密イオン研磨装置 Model 695 PIPS II (Gatan)
  • 精密機械研磨装置 Model 656 Dimple Grinder (Gatan)
  • マルチコーター VES-30T (真空デバイス)
  • 卓上研磨機 ML-180 DoctorLap (マルトー)
  • 小型精密切断器 MS2 MICROSAW (TECHNOORG-LINDA)
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    解析ソフトウェア

    ソフト HRTEM解析システム 電子線トモグラフィー解析システム DPC解析システム
    外観
    概要 結晶モデリング、HRTEM画像および電子線回折計算などの解析ツール 3次元画像データ解析ツール 4D-STEMによる電場・磁場構造の解析ツール
    設置場所 千現地区
    精密計測実験棟 106室    		 千現地区
    精密計測実験棟 106室    		 千現地区
    精密計測実験棟 106室
    備考 ※ARIM対象外 ※ARIM対象外
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