電子顕微鏡ユニット

装置一覧

 電子顕微鏡ユニットでサービスを提供する装置群は大きく分類して下記の通りとなります。このページでは、装置の種類ごとに分類して掲載しており、それぞれの装置のARIM/NOF/NIMS内部利用の対象有無を記載していますので、ご参考にしてください。

  • (走査)透過型電子顕微鏡((S/)TEM)
  • 集束イオンビーム装置(FIB)および走査型電子顕微鏡(SEM)
  • 特殊ホルダー
  • その他のTEM/SEM試料作製装置群
  • 解析ソフトウェア
  • (走査)透過型電子顕微鏡((S/)TEM)

     原子レベル、ナノスケールでの構造解析                                    
    装置 JEM-ARM200F-G
    (日本電子)
    JEM-ARM300F
    (日本電子)
    JEM-ARM200F-B
    (日本電子)
    Spectra Ultra
    (日本エフイーアイ)
    外観
    概要 実動環境対応物理分析電子顕微鏡 広空間・高分解能分析電子顕微鏡 実動環境対応型電子線ホログラフィー電子顕微鏡 原子レベル元素分布・構造解析用透過電子顕微鏡
    区分 千現A 千現B 千現A 千現A
    設置場所 千現地区
    材料信頼性実験棟 118室
    千現地区
    先進構造材料研究棟 116室
    千現地区
    ファインプロセス実験棟 125室
    千現地区
    精密計測実験棟 127室
    (操作室105室)
    ARIM (ARIMページへ) × (ARIMページへ) ×
    NOF (NOFページへ) × (NOFページへ) ×
    内部
    Accel. Voltage 200, 80 kV 300, 200, 120, 80 kV 200, 80, 60 kV 300, 200, 60, 30 kV
    EDS Solid angle 0.26srad Dual Type (2×158mm2) Dual Type (Solid angle 1.96srad=2×0.98srad) Ultra-X (Max. 4.45srad)
    EELS GATAN Enfinium GATAN ContinuumER GATAN Quantum Gatan Continuum S
    その他 Electron holography / Tomography ASTAR Precession Diffraction Electron holography 2024/7/1~ 運用開始
    ライセンス A / B C A / B A / B
                                       
    装置 Talos F200X G2
    (日本エフイーアイ)
    JEM-2800
    (日本電子)
    JEM-2100F1
    (日本電子)
    JEM-2100F2
    (日本電子)
    外観
    概要 200kV透過電子顕微鏡 局所変形観察・解析電子顕微鏡 200kV 電界放出形透過電子顕微鏡 200kV 電界放出形透過電子顕微鏡
    区分 並木 千現B 千現A 千現A
    設置場所 並木地区
    WPI-MANA棟 W-102室
    千現地区
    先進構造材料研究棟 115室
    千現地区
    精密計測実験棟 126室
    千現地区
    精密計測実験棟 117室
    ARIM × × (ARIMページへ) (ARIMページへ)
    NOF × (NOFページへ) (NOFページへ) (NOFページへ)
    内部
    Accel. Voltage 200, 80 kV 200 kV 200, 120, 100 kV 200 kV
    EDS Super-X Dual Type (2×100mm2) Spot analysis and Elemental mapping Spot analysis and Elemental mapping
    EELS - GATAN QuantumER GATAN Enfina GATAN Enfina
    その他 Tomography ASTAR Precession Diffraction STEM: ADF and BF / Tomography STEM: ADF and BF
    ライセンス A / B C A / B A / B
                                       
    装置 JEM-2100
    (日本電子)
    外観
    概要 200kV 透過電子顕微鏡
    区分 千現A
    設置場所 千現地区
    精密計測実験棟 119室
    ARIM (ARIMページへ)
    NOF (NOFページへ)
    内部
    Accel. Voltage 200, 160, 120, 100, 80 kV
    EDS Spot analysis
    EELS -
    その他 -
    ライセンス A / B

    集束イオンビーム装置(FIB)および走査型電子顕微鏡(SEM)

     TEM試料作製や微細加工、ミクロスケールでのSEM観察                    
    装置 Helios 650
    (日本エフイーアイ)
    NB5000
    (日立ハイテク)
    JIB-4000
    (日本電子)
    JEM-9320FIB
    (日本電子)
    JEM-9310FIB
    (日本電子)
    外観
    概要 FIB/SEM精密微細加工装置 デュアルビーム加工観察装置 FIB加工装置 FIB加工装置 FIB加工装置
    区分 千現A 千現A 千現A 千現A 千現A
    設置場所 千現地区
    精密計測実験棟 129室
    千現地区
    精密計測実験棟 129室
    千現地区
    精密計測実験棟 115室
    千現地区
    精密計測実験棟 115室
    千現地区
    精密計測実験棟 212室
    ARIM (ARIMページへ) (ARIMページへ) (ARIMページへ) (ARIMページへ) (ARIMページへ)
    NOF (NOFページへ) (NOFページへ) (NOFページへ) (NOFページへ) (NOFページへ)
    内部
    ライセンス A / B A / B A / B A / B A / B
                       
    装置 JSM-7000F
    (日本電子)
    Scios2
    (日本エフイーアイ)
    AurigaLaser
    (カールツァイス)
    SMF-1000
    (日立ハイテクサイエンス)
    JSM-7900F
    (日本電子)
    外観
    概要 走査型電子顕微鏡 TEM試料作製用集束イオンビーム加工装置 清浄表面組織観察FIB-SEM装置 微細組織三次元マルチスケール解析装置 走査型電子顕微鏡
    区分 千現A 千現B 千現B 千現B 千現B
    設置場所 千現地区
    精密計測実験棟 212室
    千現地区
    先進構造材料研究棟 108室
    千現地区
    先進構造材料研究棟 109室
    千現地区
    先進構造材料研究棟 109室
    千現地区
    先進構造材料研究棟 208室
    ARIM (ARIMページへ) × × (ARIMページへ) ×
    NOF (NOFページへ) (NOFページへ) (NOFページへ) (NOFページへ) (NOFページへ)
    内部
    ライセンス A / B C C C C
                       
    装置 Ethos NX5000
    (日立ハイテク)
    TM4000PlusII
    (日立ハイテク)
    外観
    概要 TEM試料自動作製FIB-SEM複合装置 卓上SEM
    区分 並木 並木
    設置場所 並木地区
    無振動特殊実験棟 107号室
    並木地区
    超高圧電子顕微鏡特殊実験棟 110室
    ARIM (ARIMページへ) (ARIMページへ)
    NOF (NOFページへ) (NOFページへ)
    内部
    ライセンス A / B A / B

    特殊ホルダー

    ホルダー Model 636 (Gatan) Lightning (DENSsolutions) Model 652 (Gatan) EM-21311HTR (JEOL)
    外観
    概要 2軸傾斜液体窒素冷却TEM試料ホルダー / 冷却最低温度-150℃ 2軸傾斜バイアス印加・加熱TEM試料ホルダー / 最高加熱温度1300℃、最高印可電圧100V(DC) 試料加熱二軸傾斜試料ホルダー / 加熱最高温度1000℃ 高傾斜試料台 / 傾斜角±70°
    設置場所 千現地区
    精密計測実験棟 128室
    千現地区
    精密計測実験棟 128室
    千現地区
    精密計測実験棟 128室
    千現地区
    精密計測実験棟 128室

    その他のTEM/SEM試料作製装置群

     千現地区(千現地区試料作製室(精密計測実験棟103室)の利用案内

  • 自動精密切断機 ISOMET Low Speed Saw (Buehler)
  • 精密イオン研磨装置 Model 691 PIPS (Gatan)
  • 楔形研磨装置 Multiprep System (Allied)
  • 精密機械研磨装置 Model 656 Dimple Grinder (Gatan)
  • イオンスライサー EM-09100IS (JEOL)
  • 精密イオン研磨装置 Model 695 PIPS II (Gatan)
  • ウルトラミクロトーム EM UC6 (Leica)
  • ピックアップシステム Pick-up System
  • カーボンコーター Carbon coater JEC -560 (JEOL)
  • オスミウムコーター Osmium coater NL-OPC80A, HPC-1SW
  • 白金コーター Platinum coater JFC-1600 (JEOL)
  • 金コーター Au coater JFC-1500
  • ターボ式真空蒸着装置 High clean vacuum coater SVC-700
  • 超音波ディスクカッター Ultrasonic Disc Cutter Model 601
  • 精密コーティングシステム Model 682 (Gatan)
  •  ※真空蒸着装置の蒸着源はご持参ください。

     並木地区

  • 無損傷電子顕微鏡試料薄片化装置 Model 1040 Nanomill (Fischione)
  • 精密イオン研磨装置 Model 695 PIPS II (Gatan)
  • 精密機械研磨装置 Model 656 Dimple Grinder (Gatan)
  • マルチコーター VES-30T (真空デバイス)
  • 卓上研磨機 ML-180 DoctorLap (マルトー)
  • 小型精密切断器 MS2 MICROSAW (TECHNOORG-LINDA)
  • 解析ソフトウェア

    ソフト HRTEM解析システム 電子線トモグラフィー解析システム DPC解析システム
    外観
    概要 結晶モデリング、HRTEM画像および電子線回折計算などの解析ツール 3次元画像データ解析ツール 4D-STEMによる電場・磁場構造の解析ツール
    設置場所 千現地区
    精密計測実験棟 106室
    千現地区
    精密計測実験棟 106室
    千現地区
    精密計測実験棟 106室
    備考 ※ARIM対象外 ※ARIM対象外