電子顕微鏡ユニット | NIMS

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電子顕微鏡ユニットでサービスを提供する装置群は大きく分類して下記の通りとなります。このページでは、装置の種類ごとに分類して掲載しており、それぞれの装置のARIM/NOF/NIMS内部利用の対象有無を記載していますので、ご参考にしてください。

(走査)透過型電子顕微鏡((S/)TEM)

原子レベル、ナノスケールでの構造解析

　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　
装置 Talos F200X G2
(日本エフイーアイ)		 TENSOR
(Tescan)		 JEM-ARM300F
(日本電子)		 JEM-ARM200F-B
(日本電子)		 Spectra Ultra
(日本エフイーアイ)
外観
概要 マルチモーダル分析電子顕微鏡 4D-STEM特化型走査透過電子顕微鏡 広空間・高分解能分析電子顕微鏡 実動環境対応型電子線ホログラフィー電子顕微鏡 原子レベル元素分布・構造解析用透過電子顕微鏡
設置場所 千現地区
精密計測実験棟 128室		 千現地区
先進構造材料研究棟 114室		 千現地区
先進構造材料研究棟 116室		 千現地区
ファインプロセス実験棟 125室		 千現地区
精密計測実験棟 127室
(操作室105室)
ARIM ○ × × ○ (ARIMページへ ) ×
NOF○×× ○ (NOF ページへ ) ×
内部利用○○ ○ ○ ○
Accel. Voltage200, 80 kV100 kV 300, 200, 120, 80 kV 200, 80, 60 kV 300, 200, 60, 30 kV
EDSSuper-XDual Type (Windowless) Dual Type (2×158mm2) Dual Type (Solid angle 1.96srad=2×0.98srad) Ultra-X (Max. 4.45srad)
EELS-- GATAN ContinuumER GATAN Quantum Gatan Continuum S
その他TEM&STEM / EDS / Tomography / DPCSTEM only / 72,000-Hz-precession-assisted (PED) 4D-STEM / 直接検出方式ハイブリッドピクセルカメラ ASTAR Precession Diffraction Electron holography / Tomography 16-segmented STEM detector (BF/DF/HAADF) / DPC / iDPC / Tomography
　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　 　　　
装置 Talos F200X G2
(日本エフイーアイ)		 JEM-2800
(日本電子)		 JEM-2100F1
(日本電子)		 JEM-2100F2
(日本電子)		 JEM-2100
(日本電子)
外観
概要 200kV透過電子顕微鏡 局所変形観察・解析電子顕微鏡 200kV 電界放出形透過電子顕微鏡 200kV 電界放出形透過電子顕微鏡 200kV 透過電子顕微鏡
設置場所 並木地区
WPI-MANA棟 W-102室		 千現地区
先進構造材料研究棟 115室		 千現地区
精密計測実験棟 126室		 千現地区
精密計測実験棟 117室		 千現地区
精密計測実験棟 119室
ARIM × × ○ (ARIMページへ ) ○ (ARIMページへ ) ○ (ARIMページへ )
NOF× ○ (NOFページへ ) ○ (NOFページへ ) ○ (NOFページへ ) ○ (NOFページへ )
内部 ○ ○ ○ ○ ○
Accel. Voltage200, 80 kV 200 kV 200, 120, 100 kV 200 kV 200, 160, 120, 100, 80 kV
EDSSuper-X Dual Type (2×100mm2) Spot analysis and Elemental mapping Spot analysis and Elemental mapping Spot analysis
EELS- GATAN QuantumER GATAN Enfina GATAN Enfina -
その他TEM&STEM / EDS / Tomography / DPC ASTAR Precession Diffraction STEM: ADF and BF / Tomography STEM: ADF and BF / Tomography -

集束イオンビーム装置(FIB)および走査型電子顕微鏡(SEM)

TEM試料作製や微細加工、ミクロスケールでのSEM観察

　　　 　　　 　　　
装置 Helios 650
(日本エフイーアイ)		 NB5000
(日立ハイテク)		 JIB-4000
(日本電子)		 JEM-9320FIB
(日本電子)		 JEM-9310FIB
(日本電子)		 Scios2
(日本エフイーアイ)
外観
概要 FIB/SEM精密微細加工装置 デュアルビーム加工観察装置 FIB加工装置 FIB加工装置 FIB加工装置 TEM試料作製用集束イオンビーム加工装置
設置場所 千現地区
精密計測実験棟 129室		 千現地区
精密計測実験棟 129室		 千現地区
精密計測実験棟 115室		 千現地区
精密計測実験棟 115室		 千現地区
精密計測実験棟 212室		 千現地区
先進構造材料研究棟 108室
ARIM ○ (ARIMページへ ) ○ (ARIMページへ ) ○ (ARIMページへ ) ○ (ARIMページへ ) ○ (ARIMページへ ) ×
NOF ○ (NOFページへ ) ○ (NOFページへ ) ○ (NOFページへ ) ○ (NOFページへ ) ○ (NOFページへ ) ○ (NOFページへ )
内部 ○ ○ ○ ○ ○ ○
　　　 　　　 　　　
装置 AurigaLaser
(カールツァイス)		 SMF-1000
(日立ハイテクサイエンス)		 JSM-7900F
(日本電子)		 Ethos NX5000
(日立ハイテク)		 TM4000PlusII
(日立ハイテク)
外観
概要 清浄表面組織観察FIB-SEM装置 微細組織三次元マルチスケール解析装置 走査型電子顕微鏡 TEM試料自動作製FIB-SEM複合装置 卓上SEM
設置場所 千現地区
先進構造材料研究棟 109室		 千現地区
先進構造材料研究棟 109室		 千現地区
先進構造材料研究棟 208室		 並木地区
無振動特殊実験棟 107号室		 並木地区
超高圧電子顕微鏡特殊実験棟 110室
ARIM × ○ (ARIMページへ ) × ○ (ARIMページへ ) ○ (ARIMページへ )
NOF ○ (NOFページへ ) ○ (NOFページへ ) ○ (NOFページへ ) ○ (NOFページへ ) ○ (NOFページへ )
内部 ○ ○ ○ ○ ○

特殊ホルダー

ホルダー Model 636 (Gatan) Lightning (DENSsolutions) Model 652 (Gatan) EM-21311HTR (JEOL)
外観
概要 2軸傾斜液体窒素冷却TEM試料ホルダー / 冷却最低温度-150℃ 2軸傾斜バイアス印加・加熱TEM試料ホルダー / 最高加熱温度1300℃、最高印可電圧100V(DC) 試料加熱二軸傾斜試料ホルダー / 加熱最高温度1000℃ 高傾斜試料台 / 傾斜角±70°
設置場所 千現地区
精密計測実験棟 106室		 千現地区
精密計測実験棟 106室		 千現地区
精密計測実験棟 106室		 千現地区
精密計測実験棟 106室

その他のTEM/SEM試料作製装置群

千現地区（千現地区試料作製室（精密計測実験棟103室）の利用案内 ）： 並木地区：

解析ソフトウェア

ソフト HRTEM解析システム 電子線トモグラフィー解析システム DPC解析システム
外観
概要 結晶モデリング、HRTEM画像および電子線回折計算などの解析ツール 3次元画像データ解析ツール 4D-STEMによる電場・磁場構造の解析ツール
設置場所 千現地区
精密計測実験棟 106室		 千現地区
精密計測実験棟 106室		 千現地区
精密計測実験棟 106室
備考 ※ARIM対象外 ※ARIM対象外
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