FIB加工装置
Focused Ion Beam System
JIB-4000 (JEOL)
千現地区 精密計測実験棟 115室FIB（集束イオンビーム）でバルク試料からTEM薄膜試料片を直接製作する装置です。サブミクロン精度で興味のある場所のTEM試料作製が出来ます。FIB内で加工・分離をした試料片をピックアップシステムによりメッシュ上へ接着することも可能です。
*ピックアップシステムが必要な方はそちらもお選びください。
| Ion Source | Ga liquid-metal source |
| Acc. Voltage | 1 to 30 kV (5 kV step variable) |
| Magnification | ×200 to ×300,000 (LOW MAG ×60) |
| Max. Current | 60 nA (@ 30 kV) |
| Best image resolution | 5 nm (@ 30 kV) |
| Tilt angle | -5~+60° (Bulk-specimen 5 axis goniometer stage) ±60° (Side entry goniometer stage) |
| Sample movement | X ±11mm, Y ±15mm (Bulk-specimen 5 axis goniometer stage) X Y ±1.2mm (Side entry goniometer stage) |
| Deposition | Protection layer deposition (Carbon) |
| Attachments | Bulk-specimen holder (Bulk-specimen 5 axis goniometer stage) (Max: 28mm dia. ×7.5mm(thickness)) Bulk-specimen holder (Side entry goniometer stage) (Max: 8×8×1(thickness) mm) TEM-compatible holder (Tip-on holder) Stage Navigation System |
| Images |  |