施設・装置Facilities
千現地区 共用TEM 試料作製装置群Shared Instruments for TEM sample preparation
[設置部屋] 千現地区 精密計測実験棟103室/Location: Room103, Physical Analysis Laboratories Building
[メーカー] ガタン、日本電子、サンユー電子、日本レーザー電子、メイワフォーシス、Buehler、Allied
切断、機械研磨、イオン研磨、コーティングなどの設備が整っており、各種材料や目的に応じたTEM試料を作製することが出来ます。
※装置はすべて微小な試料調整用の仕様になっているため、大きな試料加工は不向きです。
Facilities such as cutting, mechanical polishing, ion polishing, and coating are in place, and TEM samples can be produced according to various materials and purposes.
※ All instruments are designed for fine sample preparation, so it is not suitable large sample processing.
課金装置（要予約）
自動精密切断機 ISOMET Low Speed Saw (Buehler)
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・低速回転/軽荷重 ・4インチダイヤモンド切断砥石 ・ブレード回転数: 0〜300 rpm |
・Low Speed / light load ・4-inch diamond blade ・Blade speed: 0 to 300 rpm |
精密イオン研磨装置 Model 691 PIPS (Gatan)
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・加速電圧: 0.1～6 kV ・研磨角: ±10°（0.1°ステップ） ・使用ガス: アルゴン ・液体窒素冷却ステージ |
・Acc. voltage: 0.1 to 6 kV ・Milling angle: ±10° ・Gas used: Argon ・Liquid Nitrogen (LN2) Cold Stage |
精密研磨装置 Multiprep System (Allied)
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・試料傾斜角度: 0〜10° ・研磨盤回転速度: 5〜350 rpm ・試料研磨荷重: 0〜600 g ・精密マイクロメーター付き |
・Angular adjustments: 0 to 10 degrees ・Platen rotation speed: 5 to 350 rpm ・Sample load: 0 to 600 g ・Digital dial indicator |
ディンプルグラインダー Dimple Grinder (Gatan)
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・試料研磨ホイール径: 15 mm ・試料研磨荷重: 0〜40 g ・研磨ホイル回転速度: 0〜600 rpm ・初期試料厚さ: 200 µm以下 ・自動停止機構付き |
・Grinding wheel diameter: 15 mm ・Grinding wheel load: 0 to 40 g ・Grinding wheel speed: 0 to 600 rpm ・Initial specimen thickness: less than 200 µm ・Grinding can be stopped at set thickness automatically. |
イオンスライサー Ion Slicer EM-9100IS (JEOL）
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・加速電圧: 1〜8 kV ・研磨角: ±6°（0.1°ステップ） ・使用ガス: アルゴン |
・Acc. voltage: 1 to 8 kV ・Milling angle: ±6°(0.1°step) ・Gas used: Argon |
非課金装置（予約不要）
※Available for only the registered users.
・カーボンコーター Carbon coater JEC -560
・オスミウムコーター Osmium coater NL-OPC80A, HPC-1SW
・白金コーター Platinum coater JFC-1600
・金コーター Au coater JFC-1500
・平面研磨装置 MARUTO Flat polisher
・ターボ式真空蒸着装置 Evaporation deposition equipment SVC-700
※真空蒸着装置の蒸着源はご持参ください。
※Please bring your own target materials for evaporation source.
→ 試料作製室の利用方法について Guidance for Reservation of Sample Preparation Lab