表面・バルク分析分野 Surface and Bulk Analysis Field
NM-201
多環境場対応型X線単結晶構造解析装置
（XtaLAB Synergy-R/DW Custom）
Single Crystal X-ray Diffractometer for Multiple Environments)
低分子単結晶試料を用いた精密結晶構造解析
1. 高輝度X線発生器搭載（Rigaku FR-X）
2. 超高速・超高精度κゴニオメーター搭載
3. 高感度型X線検出器搭載（HyPix）
4. ２波長X線線源搭載（Mo/Cu）
5. ２種類の低温装置搭載（N2/He）
6. 高温装置搭載
7. 蛍光X線元素分析装置搭載（ELementANalyzer）
NM-209
2波長Pilatus低温単結晶X線回折装置_NSC
(VariMax DW AFC11 with Pilatus)
sXRD_R_DW_LT_Pilatus_NSC
低分子単結晶試料を用いた結晶構造解析
1. 高感度型X線検出器搭載（Pilatus）
2. ２波長X線線源搭載（Mo/Cu）
3. ２種類の低温装置搭載（N2/He）
NM-204
多目的X線回折装置_Cu_SSL
(SmartLab 9 kW)
pXRD_ Multi_Cu_R_SSL
・定性分析
・定量分析
・結晶化度評価
・結晶子サイズ/格子歪評価
・格子定数の精密化
・Rietveld解析
・極点図
・残留応力 など
NM-210
温度可変型粉末X線回折装置_Cu1_NTS
(SmartLab 9 kW with cryostat/furnace)
pXRD_LT/HT_Cu1_R_NTS
・定性分析
・定量分析
・結晶化度評価
・結晶子サイズ/格子歪評価
・格子定数の精密化
・Rietveld解析など
NM-211
高速・高感度型粉末X線回折装置_Cu_ASC_NS3
(SmartLab3)
pXRD_Cu_ASC_NS3
・定性分析
・定量分析
・結晶化度評価
・結晶子サイズ/格子歪評価
・格子定数の精密化
・Rietveld解析
NM-212
卓上型粉末回折計_Cu_ASC_NC1
(MiniFlex600_Cu)
pXRD_Cu_ASC_NC1
・定性分析
・定量分析
・結晶化度評価
・結晶子サイズ/格子歪評価
・格子定数の精密化
・Rietveld解析など
NM-213
卓上型粉末回折計_Cu_ASC_NC2
(MiniFlex600_Cu)
pXRD_Cu_ASC_NC2
・定性分析
・定量分析
・結晶化度評価
・結晶子サイズ/格子歪評価
・格子定数の精密化
・Rietveld解析など
NM-214
卓上型粉末回折計_Cr_SCR
(MiniFlex600_Cr)
pXRD_Cr_SCR
・定性分析
・定量分析
・結晶化度評価
・結晶子サイズ/格子歪評価
・格子定数の精密化
・Rietveld解析など
NM-215
卓上型X線回折計_Cu_SMF
(MiniFlex600_Cu)
pXRD_Cu_SMF
・定性分析
・定量分析
・結晶化度評価
・結晶子サイズ/格子歪評価
・格子定数の精密化
・Rietveld解析
NM-216
薄膜X線回折装置_Cu
TF-XRD_Cu
・微細構造の分析
NM-228
微小部蛍光X線分析装置（ORBIS PC）
Micro Energy Dispersive X-ray Fluorescence Spectrometer（Micro-EDXRF)
・金属・セラミックスなど各種試料の非破壊分析
・微小部分析の定性・定量分析
NM-202
硬X線光電子分光分析装置
(HAX-PES/XPS)(Quantes)
HAX-PES/XPS
各種固体試料（合金・半導体を含む無機化合物・有機物）の表面における
・元素分析
・定量分析
・化学状態分析
NM-225
X線光電子分光分析装置
（XPS-Quantera SXM）
XPS (Quantera SXM)
・金属、半導体、有機物等の表面分析
NM-203
誘導結合プラズマ発光分析装置群
Inductively Coupled Plasma Optical Emission Spectrometers / Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometers
・精密元素分析
・溶液化した未知試料の定性分析
・金属・セラミックス・有機物など溶液化可能なあらゆる試料の精密元素分析
・公定法分析への対応
NM-230
マルチガス導入グロー放電質量分析システム（VG9000）
(Glow Discharge Mass Spectrometer (GD-MS))
Time-of-flight Secondary Ion Mass Spectrometry (TOF-SIMS))
・金属・セラミックス試料の高感度分析
・薄膜試料の分析が可能
・相対感度係数による高い精確さを有する分析が可能
NM-205
飛行時間型二次イオン質量分析装置
(PHI TRIFT V nanoTOF)
Time-of-flight Secondary Ion Mass Spectrometry (TOF-SIMS))
・固体試料の最表面に存在する成分原子・分子分析
NM-229
イオンクロマトグラフシステム
(Ion chromatograph)
・水溶液中（環境水）に含まれる陰イオンの定性・定量分析
・排気ガス中に含まれる硫黄酸化物、窒素酸化物及び塩化水素の定量分析
・鉄鋼用アルミニウムドロス、コンクリート、紙、板紙及びパルプ中の塩化物イオンの定量分析
NM-206
酸素窒素水素分析装置(ONH836),
炭素硫黄分析装置(CS844)
Oxygen/Nitrogen/Hydrogen Analyzer,
Carbon/Sulfur Analyzer
・金属、セラミックス中のガス成分分析
NM-217
熱分析装置
（TG/DTA 6200, X-DSC7000）
・熱計測および物性評価
NM-219
フーリエ変換赤外分光光度計
（IRAffinity-1S）
FT-IR (IRAffinity-1s)
・材料の透過・吸収スペクトルの測定
・分子レベルの成分分析
NM-220
紫外可視近赤外分光計（V-770）
UV-Vis-NIR (V-770)
・透過率測定
・反射率測定
NM-221
分光蛍光光度計（FP-8500DS）
Spectrofluorometer (FP-8500DS)
・光学特性の評価
NM-222
蛍光分光計（Fluorolog-3）
Spectrofluorometer (Fluorolog-3)
・試料から発生する蛍光を測定
NM-223
フーリエ変換赤外分光計（FT/IR-6700）
Fourier transform infrared spectrometer (FT/IR-6700)
・分子の回転スペクトルなどの評価
・フーリエ変換赤外分光測定
NM-224
中低温示差熱分析装置（DSC200F3）
Medium- and low-temperature differential thermal analyzer(DSC200F3)
・熱的な評価
・溶融、構造の相転移、結晶化などの評価
NM-207
電界放出形電子線プローブ
マイクロアナライザー装置
(JXA-8500F)
Field Emission Electron Probe Micro-Analyzer (FE-EPMA)
・金属、半導体等の表面の元素分析
NM-208
走査型オージェ電子分光分析装置
(JAMP-9500F)
Scanning Auger Electron Microprobe (CHA Type AES)
・金属、半導体等の表面分析
NM-226
ショットキー電界放出型走査電子顕微鏡（JSM-7001F）
Schottky FE-SEM (JSM-7001F)
・表面の形状観察、元素分析、結晶方位及び結晶サイズ評価、格子歪評価解析など
NM-227
電界放出形走査電子顕微鏡（SU8000）
FE-SEM (SU-8000)
・表面の形状観察及び元素分析
NM-231
電界放出形走査電子顕微鏡（JSM-6500F）
Field Emission Scanning Electron Microscope (JSM-6500F)
・表面の形状観察及び元素分析
NM-232
走査電子顕微鏡（JSM-6510）
Scanning Electron Mocroscope（JSM-6510）
・表面の形状観察