材料分析分野
走査型デュアルＸ線光電子分光分析装置
(HAX-PES/XPS)（Quantes）
各種固体試料（合金・半導体を含む無機化合物・有機物）の表面における
・元素分析
・定量分析
・化学状態分析
誘導結合プラズマ発光分析装置(マルチ型）
(720 ICP-OES)
1.金属・セラミックス・有機物など溶液化可能なあらゆる試料の精密元素分析
2.公定法分析への対応
3.溶液化した未知試料の定性分析
高輝度・高感度型粉末X線回折装置
(SmartLab 9 kW)
定性分析、定量分析、結晶化度評価、結晶子サイズ/格子歪評価、格子定数の精密化、Rietveld解析など
飛行時間型二次イオン質量分析装置
(PHI TRIFT V nanoTOF)
TOF-SIMSは、固体表面に1012 ions/cm2以下の条件でパルス状一次イオンを照射し、試料表面から放出される二次イオンを、飛行時間型質量分析器を用いて質量分析する手法です。専門家スタッフの技術代行のもとに、高質量分解能スペクトル測定、2Dイメージング、深さ方向分析、3D分析が可能で、半導体材料等の無機材料から高分子等の有機材料等、さまざまな材料の解析の支援を行います。
酸素窒素水素分析装置
(ONH836)
金属、セラミックス中のガス成分分析
炭素硫黄分析装置
(CS844)
金属、セラミックス中のガス成分分析
電界放出形電子線プローブ
マイクロアナライザー装置
(JXA-8500F)
電子線プローブマイクロアナライザーは、電子線を試料表面に照射することにより発生する特性X線の波長と強度から構成元素を分析する手法である。FE-EPMAは、FE電子銃搭載の高感度微小領域EPMAで、0.1μmオーダーの元素分析が可能。金属、半導体等の表面の組成分析、元素の二次元分布分析(マップ)が可能。
走査型オージェ電子分光分析装置
(JAMP-9500F)
金属、半導体等の表面分析