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National Institute for Materials Science
NIMS Open Facility
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表面・バルク分析分野　Surface and Bulk Analysis Field

多環境場対応型X線単結晶構造解析装置
（XtaLAB Synergy-R/DW Custom）
Single Crystal X-ray Diffractometer for Multiple Environments)


低分子単結晶試料を用いた精密結晶構造解析

1. 高輝度X線発生器搭載（Rigaku FR-X）
2. 超高速・超高精度κゴニオメーター搭載
3. 高感度型X線検出器搭載（HyPix）
4. ２波長X線線源搭載（Mo/Cu）
5. ２種類の低温装置搭載（N2/He）
6. 高温装置搭載
7. 蛍光X線元素分析装置搭載（ELementANalyzer）

2波長Pilatus低温単結晶X線回折装置_NSC
(VariMax DW AFC11 with Pilatus)
sXRD_R_DW_LT_Pilatus_NSC

低分子単結晶試料を用いた結晶構造解析

1. 高感度型X線検出器搭載（Pilatus）
2. ２波長X線線源搭載（Mo/Cu）
3. ２種類の低温装置搭載（N2/He）

多目的X線回折装置_Cu_SSL
(SmartLab 9 kW)
pXRD_ Multi_Cu_R_SSL

・定性分析
・定量分析
・結晶化度評価
・結晶子サイズ/格子歪評価
・格子定数の精密化
・Rietveld解析
・極点図
・残留応力 など

温度可変型粉末X線回折装置_Cu1_NTS
(SmartLab 9 kW with cryostat/furnace)
pXRD_LT/HT_Cu1_R_NTS

・定性分析
・定量分析
・結晶化度評価
・結晶子サイズ/格子歪評価
・格子定数の精密化
・Rietveld解析など

高速・高感度型粉末X線回折装置_Cu_ASC_NS3
(SmartLab3)
pXRD_Cu_ASC_NS3

・定性分析
・定量分析
・結晶化度評価
・結晶子サイズ/格子歪評価
・格子定数の精密化
・Rietveld解析

卓上型粉末回折計_Cu_ASC_NC1
(MiniFlex600_Cu)
pXRD_Cu_ASC_NC1

・定性分析
・定量分析
・結晶化度評価
・結晶子サイズ/格子歪評価
・格子定数の精密化
・Rietveld解析など

卓上型粉末回折計_Cu_ASC_NC2
(MiniFlex600_Cu)
pXRD_Cu_ASC_NC2

・定性分析
・定量分析
・結晶化度評価
・結晶子サイズ/格子歪評価
・格子定数の精密化
・Rietveld解析など

卓上型粉末回折計_Cr_SCR
(MiniFlex600_Cr)
pXRD_Cr_SCR

・定性分析
・定量分析
・結晶化度評価
・結晶子サイズ/格子歪評価
・格子定数の精密化
・Rietveld解析など

卓上型X線回折計_Cu_SMF
(MiniFlex600_Cu)
pXRD_Cu_SMF

・定性分析
・定量分析
・結晶化度評価
・結晶子サイズ/格子歪評価
・格子定数の精密化
・Rietveld解析

薄膜X線回折装置_Cu
TF-XRD_Cu

・微細構造の分析

微小部蛍光X線分析装置（ORBIS PC）
Micro Energy Dispersive X-ray Fluorescence Spectrometer（Micro-EDXRF)

・金属・セラミックスなど各種試料の非破壊分析
・微小部分析の定性・定量分析

硬X線光電子分光分析装置
(HAX-PES/XPS)(Quantes)
HAX-PES/XPS

各種固体試料（合金・半導体を含む無機化合物・有機物）の表面における
・元素分析
・定量分析
・化学状態分析

X線光電子分光分析装置
（XPS-Quantera SXM）
XPS (Quantera SXM)

・金属、半導体、有機物等の表面分析

誘導結合プラズマ発光分析装置群
Inductively Coupled Plasma Optical Emission Spectrometers / Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometers

・精密元素分析
・溶液化した未知試料の定性分析
・金属・セラミックス・有機物など溶液化可能なあらゆる試料の精密元素分析
・公定法分析への対応

マルチガス導入グロー放電質量分析システム（VG9000）
(Glow Discharge Mass Spectrometer (GD-MS))
Time-of-flight Secondary Ion Mass Spectrometry (TOF-SIMS))

・金属・セラミックス試料の高感度分析
・薄膜試料の分析が可能
・相対感度係数による高い精確さを有する分析が可能

飛行時間型二次イオン質量分析装置
(PHI TRIFT V nanoTOF)
Time-of-flight Secondary Ion Mass Spectrometry (TOF-SIMS))

・固体試料の最表面に存在する成分原子・分子分析

イオンクロマトグラフシステム
(Ion chromatograph)

・水溶液中（環境水）に含まれる陰イオンの定性・定量分析
・排気ガス中に含まれる硫黄酸化物、窒素酸化物及び塩化水素の定量分析
・鉄鋼用アルミニウムドロス、コンクリート、紙、板紙及びパルプ中の塩化物イオンの定量分析

酸素窒素水素分析装置(ONH836),
炭素硫黄分析装置(CS844)
Oxygen/Nitrogen/Hydrogen Analyzer,
Carbon/Sulfur Analyzer

・金属、セラミックス中のガス成分分析

熱分析装置
（TG/DTA 6200, X-DSC7000）

・熱計測および物性評価

ゼータ電位＆粒径測定装置
（ELSZ-2000ZS）
Zeta-potential/Particle-size analyzer (ELSZ-2000ZS)

・微粒子の物性評価

フーリエ変換赤外分光光度計
（IRAffinity-1S）
FT-IR (IRAffinity-1s)

・材料の透過・吸収スペクトルの測定
・分子レベルの成分分析

紫外可視近赤外分光計（V-770）
UV-Vis-NIR (V-770)

・透過率測定
・反射率測定

分光蛍光光度計（FP-8500DS）
Spectrofluorometer (FP-8500DS)

・光学特性の評価

蛍光分光計（Fluorolog-3）
Spectrofluorometer (Fluorolog-3)

・試料から発生する蛍光を測定

フーリエ変換赤外分光計（FT/IR-6700）
Fourier transform infrared spectrometer (FT/IR-6700)

・分子の回転スペクトルなどの評価
・フーリエ変換赤外分光測定

中低温示差熱分析装置（DSC200F3）
Medium- and low-temperature differential thermal analyzer(DSC200F3)

・熱的な評価
・溶融、構造の相転移、結晶化などの評価

電界放出形電子線プローブ
マイクロアナライザー装置
(JXA-8500F)
Field Emission Electron Probe Micro-Analyzer (FE-EPMA)

・金属、半導体等の表面の元素分析

走査型オージェ電子分光分析装置
(JAMP-9500F)
Scanning Auger Electron Microprobe (CHA Type AES)

・金属、半導体等の表面分析

ショットキー電界放出型走査電子顕微鏡（JSM-7001F）
Schottky FE-SEM (JSM-7001F)

・表面の形状観察、元素分析、結晶方位及び結晶サイズ評価、格子歪評価解析など

電界放出形走査電子顕微鏡（SU8000）
FE-SEM (SU-8000)

・表面の形状観察及び元素分析

電界放出形走査電子顕微鏡（JSM-6500F）
Field Emission Scanning Electron Microscope (JSM-6500F)

・表面の形状観察及び元素分析

走査電子顕微鏡（JSM-6510）
Scanning Electron Mocroscope（JSM-6510）

・表面の形状観察

表面・バルク分析分野　Surface and Bulk Analysis Field

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