谷口 尚 フェローらが第55回 市村学術賞 貢献賞を受賞しました

谷口 尚 フェロー、渡邊賢司 (機能性材料研究拠点 主席研究員)が、公益財団法人市村清新技術財団による「第55回 市村学術賞 貢献賞」を受賞しました。

市村清新技術財団は、市村清氏の提唱により、科学技術の振興をはかり、経済社会の発展と国民生活の向上に寄与するために設立されました。
本賞は、学術分野の進展に貢献し、実用化の可能性のある研究に功績のあった技術研究者またはグループに贈呈されます。

谷口フェローらは、二次元原子層の基礎科学とその応用分野に関する広範囲に及ぶ研究に貢献した研究者として、表彰されました。