スピントロニクスグループの研究は、成膜および微細加工による試料作製と、試料評価の二つに大きく分けることができます。 ここでは本グループで使用している主要な装置に関して紹介いたします。
上に示した装置写真は当センターで所持している自動クラスター成膜装置です。
NIMS公式ホームページでの紹介
6つの真空チャンバーが中央の基板搬送ロボットチャンバーに房のようにつながった構造(クラスター)を持ち、PCによる自動基板搬送と成膜プロセス制御が可能です。 それぞれのチャンバーではスパッタや電子線蒸着など異なるプロセスで薄膜作製することができます。チャンバー間を行き来することで複雑な多層薄膜を作製することができます。
その他の装置類については、下記の磁性・スピントロニクス材料研究センターホームページをご覧ください。
  • 磁性・スピントロニクス材料研究センターの主要装置一覧へ


  • 電子線蒸着法とスパッタ法について
  • 微細加工プロセスについて

  • 成膜装置

    超高真空クラスター成膜装置①(自動ロボット搬送) 超高真空クラスター成膜装置②(手動搬送) 超高真空クラスター成膜装置③(自動ロボット+手動搬送)
    成膜装置
    多目的スパッタ装置 4元スパッタ装置
    微細加工装置
    電子ビーム露光装置(センター共用) マスクアライナー Arイオンミリング装置
    真空磁場中熱処理装置
    小型(最大磁場:0.2 T) 大型(最大磁場:0.7 T)
    測定装置
    試料振動型磁力計 SQUID磁力計 高磁界マイクロKerr効果測定装置
    測定装置
    マイクロ波プローバー 自動プローバー CIPT
    (TMRウェハ検査装置)
    測定装置
    AFM(原子間力顕微鏡) 3次元任意磁場制御プローバー 小型PPMS

    インデックス

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    関連リンク