超高真空スパッタ装置＆多目的スパッタ装置

超高真空スパッタ装置

 試料準備室、中間室、成膜室の三つのチャンバーから構成される高性能スパッタ装置です。 成膜室には10個のスパッタカソード、中間室には2個のスパッタカソードと1個の電子線蒸着源が備わっています。 試料移動は全てロボットでの自動搬送ができるため、シーケンスを用意する事によって全自動での多層膜成長が可能です。

主な研究

新規トンネルバリア材料の探索

ホイスラー合金を用いた巨大磁気抵抗素子の創製

多目的スパッタ装置

 微細加工を含めた多目的用途のスパッタ装置です。マニピュレーターに加熱・水冷機構を有しているため、短時間での熱処理が可能です。

主な仕様

到達真空度　<3×10-7 Pa

メイン排気ポンプ　TMP(330 L/min)

ターゲット交換型RFスパッタ源(3inchターゲットを5個搭載可能)

水冷併用ランプヒーター(基板加熱600℃まで)

主な研究

微細加工

スピン波伝播材料の探索