News Topics
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2025.11.14
recruit
研究業務員の公募
セラミックス作製の研究業務に意欲的に取り組める方を募集しています -
2025.11.12
highlights
長田 貴弘 / ナノ電子デバイス材料グループが受け入れている小川 健太さんが、仙台で開催された国際会議「IWDTF2025」でアワード(ポスター発表）を受賞しました。
タイトルEffects of Interface Formation Process on Tunneling Current Components of N-type Ti0.3Zn0.7O1.3/P-type Si Stack Structure
代表者小川 健太
著者名Kenta Ogawa, Toyohiro Chikyow, Atsushi Ogura, Takahiro Nagata
学会名IWDTF2025（主催：応用物理学会）
開催日2025.11.05 - 07
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2025.11.07
recruit
エンジニアの公募
大気中・窒素グローブボックス中での原料秤量・混合、合成物の粉末・単結晶X線測定、合成物からの粒子採取、合成物の発光特性の測定、試料管理、その他、蛍光体開発に関係する業務に意欲的に取り組める方を募集しています -
2025.10.28
recruit
ポスドクの公募
シリカガラスを凌駕する優れたガラス材料の開発に意欲的に取り組める方を募集しています -
2025.10.16
recruit
ポスドクの公募
セラミックス創製プロセスにおけるスラリー調製およびその評価、超高温セラミックスの開発に意欲的に取り組める方を募集しています -
2025.10.01
staff reassignment
超ワイドギャップ半導体グループに新しい研究員が着任しました
笹間 陽介が研究員としてグループに着任しました
超ワイドギャップ半導体グループ
笹間 陽介 -
2025.09.29
event
Completed
電子・光機能材料研究センター・マテリアル基盤研究センター合同交流会を行いました
電子・光機能材料研究センター と マテリアル基盤研究センターの合同交流会を行いました。
総勢120名の参加者が集まり、盛会のうちに終了いたしました。
開催日2025.09.26
会場つくば国際会議場
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2025.09.22
papers
岩長 祐伸 / ナノフォトニクスグループらが、実用に資するメタレンズなどのメタ表面に関する包括的な解説を行い、そのなかでメタ表面バイオ蛍光センサの現状と展望を詳述した論文を発表しました。
タイトルMetasurface biosensors: Status and prospects
著者名Iwanaga, Masanobu; Hu, Qi; Tang, Youhong
書誌情報Appl. Phys. Rev., 12(2), 21305-1–21305-24, (2025)
URLhttps://pubs.aip.org/aip/apr/article/12/2/021305/3342510/Metasurface-biosensors-Status-and-prospects
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2025.09.19
recruit
ポスドクの公募
ダイヤモンド中に形成されたNVセンターなどを用いた量子センシング応用にかかる半導体材料の基礎物性研究に意欲的に取り組める方を募集しています -
2025.09.19
highlights
小林 清 / 高機能光学セラミックスグループらの論文が、Electrocemistry 誌の期間(Jul.-Au.,2025)ダウンロード数記録ランキングで３位となりました。
タイトルExtended Distribution of Relaxation TimeAnalysis for Electrochemical ImpedanceSpectroscopy
著者名Kiyoshi KOBAYASHI; Tohru S. SUZUKI
書誌情報Electrochemistry, 90(1), 017004, (2022)
URLhttps://www.jstage.jst.go.jp/article/electrochemistry/90/1/90_21-00111/_article/-char/ja
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2025.09.16
papers
色川 芳宏 / 超ワイドギャップ半導体グループらが、dammy処理適用前後のGaNMOS界面の観察を行った結果、dammy処理によって界面の酸素、窒素原子の規則性が向上していることが明らかになったことに関する論文を発表しました。
題名Observation of Atomic-Scale Structural Changes in Al2O3/GaN Interfacial Layers Prepared with a Dummy-SiO2 Process
著者名Uzuhashi, Jun; Irokawa, Yoshihiro; Nabatame, Toshihide; Ohkubo, Tadakatsu; Koide, Yasuo
書誌情報ECS J. Solid State Sci. Technol., 14(8), 85001-1–85001-4, (2025)
URLhttps://iopscience.iop.org/article/10.1149/2162-8777/adf3e3
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2025.09.09
papers
今井 基晴 / 電子セラミックスグループらが、計算による半導体3d遷移金属シリサイドの電子状態、化学結合評価に関する論文を発表しました
題名Electronic structure and chemical bonding in semiconducting 3d transition-metal silicides CrSi2, Mn4Si7, and β-FeSi2
著者名Imai, Motoharu; Arai, Masao
書誌情報Jpn. J. Appl. Phys., 64(6), 61003-1–61003-6, (2025)
URLhttps://iopscience.iop.org/article/10.35848/1347-4065/ade487
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2025.09.09
papers
今井 基晴 / 電子セラミックスグループらが、実験、計算を使用した系統的なSrSi2の物性評価に関する論文を発表しました
題名Strontium disilicide SrSi2: Narrow band gap semiconductor or Weyl semimetal?
著者名Imai, Motoharu; Udono, Haruhiko; Alinejad, Babak; Nakane, Takayuki; Takahashi, Hiroki; Arai, Masao
書誌情報J. Alloy. Compd., 1032, 181074-1–181074-9, (2025)
URLhttps://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0925838825026350?via%3Dihub
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2025.09.08
event
Materials Research Society 主催 「MRS 2025 Fall Meeting」について
寺地 徳之 / 半導体欠陥制御グループが招待講演で登壇します
開催日2025.11.30 - 12.05
URLhttps://www.mrs.org/meetings-events/annual-meetings/2025-mrs-fall-meeting
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2025.09.05
papers
長田 貴弘 / ナノ電子デバイス材料グループ、知京 豊裕らが、半導体素子の省電力化を目指しn酸化物半導体/p型Siトンネル電界効果トランジスタの界面制御に関する論文を発表しました。
題名Effects of interface formation process on electronic properties of n-type Ti0.3Zn0.7O1.3/p-type Si stack structure
著者名Ogawa, Kenta; Chikyow, Toyohiro; Daimon, Yuki; Ogura, Atsushi; Nagata, Takahiro
書誌情報Jpn. J. Appl. Phys., 64(5), 05SP25-1–05SP25-7, (2025)
URLhttps://iopscience.iop.org/article/10.35848/1347-4065/add0be
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2025.09.05
papers
田村 堅志 / 資源循環材料グループらが、混合溶媒によりPA11を含む多様なナイロン樹脂を室温で効率的に溶解・再生し、充填材も回収可能としたことに関する論文を発表しました。
題名Room‐Temperature Material Recycling/Upcycling of Polyamide Waste Enabled by Cosolvent‐Tunable Dissolution Kinetics
著者名Tanks, Jonathon; Tamura, Kenji
書誌情報Angew. Chem.-Int. Edit., -1–-11, (2025)
URLhttps://mdr.nims.go.jp/datasets/910dc912-2433-4644-8521-017f93cc054a
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2025.09.05
papers
吉武 道子 / ナノ電子デバイス材料グループが、界面反応含む金属ー酸化物界面の結合を予測する汎用的方法の開発、無償ソフトInterChemBondへの実装に関する論文を発表しました。
題名General Prediction of Interface Chemical Bonding at Metal–Oxide Interface with the Interface Reaction Considered
著者名Yoshitake, Michiko
書誌情報Materials, 18(13), 3096-1–3096-17, (2025)
