設備
研究室の装置
詳細は二次元系量子材料グループの設備をご覧ください。
上記以外の主な装置
- 波長700–1000 nmに可変のCWチタンサファイアレーザー
- He-Neレーザー、1550 nm、1310 nm、532 nm、304 nmの固体レーザー
- 可視CCD検出器と分光器
- ヘリウムフロークライオスタット
- モーター駆動顕微鏡ステージ
- 光化学反応セル
実験手法
- フォトルミネッセンス分光
- 時間分解フォトルミネッセンス
- 光子相関 (HBT干渉計)
- 差分反射測定
- ラマン分光
- 光電流分光と空間マッピング
共有施設
NIMS微細加工オープンファシリティ
微細加工クリーンルームを利用して、ナノスケールの電子デバイスを作製できます。
- リソグラフィー: 高精度パターニングのための電子ビームおよびフォトリソグラフィー
- 成膜: スパッタリング、CVD、ALDによる薄膜成膜
- エッチング: 反応性イオンエッチング(RIE)およびイオンミリングによる材料除去
- 特性評価: ナノスケール構造の高分解能イメージングおよび計測