設備

研究室の装置

詳細は二次元系量子材料グループの設備をご覧ください。

上記以外の主な装置

  • 波長700–1000 nmに可変のCWチタンサファイアレーザー
  • He-Neレーザー、1550 nm、1310 nm、532 nm、304 nmの固体レーザー
  • 可視CCD検出器と分光器
  • ヘリウムフロークライオスタット
  • モーター駆動顕微鏡ステージ
  • 光化学反応セル

実験手法

  • フォトルミネッセンス分光
  • 時間分解フォトルミネッセンス
  • 光子相関 (HBT干渉計)
  • 差分反射測定
  • ラマン分光
  • 光電流分光と空間マッピング

共有施設

NIMS微細加工オープンファシリティ

微細加工クリーンルームを利用して、ナノスケールの電子デバイスを作製できます。

  • リソグラフィー: 高精度パターニングのための電子ビームおよびフォトリソグラフィー
  • 成膜: スパッタリング、CVD、ALDによる薄膜成膜
  • エッチング: 反応性イオンエッチング(RIE)およびイオンミリングによる材料除去
  • 特性評価: ナノスケール構造の高分解能イメージングおよび計測

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