設備
研究設備
詳細な設備一覧は二次元系量子材料グループの設備をご覧ください。
主要研究機器
- 波長690–950 nmに可変の連続波（CW）チタンサファイアレーザーシステム
- He-Neレーザーおよび固体レーザー（1550 nm、1310 nm、532 nm、304 nm）の複数光源
- 高感度可視CCD検出器と高精度分光器
- 極低低温顕微分光測定用のヘリウムフロークライオスタット
- 自動制御モーター駆動ステージ付き光学顕微鏡
- 自作光化学反応装置
高度な分析手法
- 光学特性分析のための発光分光
- キャリアダイナミクス研究のための時間分解発光
- Hanbury Brown-Twiss（HBT）干渉計を用いた光子相関測定
- 材料特性評価のための差分反射分光
- 構造解析のためのラマン分光
- 空間マッピング機能付き光電流分光
共有研究施設
NIMS微細加工オープンファシリティ
当研究グループは、NIMSの最先端微細加工クリーンルームを利用し、高度なナノスケール電子デバイスの作製が可能です。
施設は以下の包括的な微細加工機能を提供しています：
- 高度なリソグラフィー: 電子ビームおよびフォトリソグラフィーによる高精度パターニング
- 薄膜成膜: スパッタリング、化学気相成長（CVD）、原子層堆積（ALD）による最先端薄膜成長
- 精密エッチング: 反応性イオンエッチング（RIE）およびイオンミリングによる高度な材料加工
- 特性評価装置: ナノスケール構造の高分解能イメージングおよび計測システム