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主要装置
- 超高真空クラスタースパッタ成膜装置
- 時間分解磁気光学カー効果測定装置 TRMOKE
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- 走査型透過電子顕微鏡 Titan G2 80-200
- 局所電極型アトムプローブLEAP5000
- FIB-SEM複合装置
- 独自開発レーザー補助アトムプローブ
微細加工装置
JEOL 電子線描画装置 JBX-6300SM
高加速電圧(100 kV)により、最小線幅7 nmの描画が可能な電子線描画装置です。自動装置補正、自動マーク検出等の機能を備え、再現性の高いナノ構造パターニングができます。主にスピントロニク ス材料のデバイスレベルでの評価を行うためにの加工装置として用いています。
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