磁気記録材料グループ

グループメンバー

NIMS職員			アドバイザー

高橋有紀子 (GL)	磯上慎二	佐々木悠太	園部義明

外来研究員		ポスドク

武智涼太	J.Wang (AIST)	W. Won	G. K. Shukla

ポスドク			大学院生（筑波大）

S. Ratha	A.R. Dilipan	V. Ganesan	H. Sibi	砂古口藍子

研修生 (IITG)	研修生 (早稲田大)	研修生 (京都大)		研修生 (IITH)

H. Singh	荒木大輝	安倉祐樹	池田尉昭	S.K. Mishra

研究業務員：

森由紀江 MORI.Yukie[at]nims.go.jp

過去の在籍メンバー

2022.12.1-2025.3.31 小川大介、特別研究員（現在、信越化学工業（株）磁性材料研究所）

2019.10.1-2022.12.31 P. Tozman、ICYS Research Fellow（現在、ダルムシュタット工科大学）

2017.6.1-2022.3.31 鈴木一平、ポスドク研究員（現在、Western Digital Japan）

2020.12.1-2021.12.31 S. Sharma、ポスドク研究員

2019.12.16-2021.6.15 R. Nagalingam、ポスドク研究員（現在、Institute of Chemical Research of Catalonia (ICIQ), Spain）

2017.4.1-2020.9.30 小川大介、ポスドク研究員

2013.10.1-2020.3.31 J. Wang, ICYS fellow (現在、東北大金研)

2019.6.20-2020.12.20 A. Makurenkova, Intern student, Lomonosov Moscos Satate University

2017.6.1-2017.8.29 E. Anokhin, Intern student, Lomonosov Moscos Satate University

2017.7.24-2017.8.10 M. Nakajima, 久留米工業高等専門学校

集合写真

（2025年4月撮影、Hanami Party Photo）
集合写真

（2024年11月撮影、Welcome Party Photo）
集合写真

（2024年4月撮影）
集合写真

（2023年7月撮影）
集合写真

（2023年4月撮影、Farewell Group Photo）
集合写真

（2022年12月撮影、Farewell Group Photo）
集合写真

（2022年3月撮影、Farewell Group Photo）
集合写真

（2021年12月撮影、Farewell Group Photo）
集合写真

（2020年5月撮影）
集合写真

（2019年12月撮影）