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| 2004.Vol.4 No.8 August |
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| 特 集 “分析評価の最前線” |
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電子線マイクロアナライザによる サブミクロン領域分析の展開 |
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電子線照射試料損傷の高精度評価法の開発 |
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Heプラズマイオン源の開発 |
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高選択的分離法による極微量分析 |
| 機構の動き | |
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機構評価委員会開催 |
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NIMSの特許出願件数が大幅に増大 |
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新ディレクターの紹介 |
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新ユニットの紹介 |
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エンジニア職採用情報 |
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新理事就任 |
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人事異動情報 |
| 表紙写真 | |
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●上： |
Cu中に析出したNi-Si系化合物の観察結果． |
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●下： |
ヘリウム・グロー放電質量分析装置． |
