Beyond 2nm世代向け半導体技術開発

半導体の微細化がさらなる限界に近づく中、次世代の製造技術基盤をいかに国内で確立するかが、日本の半導体産業における急務となっています。LSTCは、そうした課題に応えるため、最先端半導体に関わる3つのNEDO研究開発プロジェクトを推進する技術研究組合です。

NIMSはその中のテーマ「Beyond 2nm及び短TAT半導体製造に向けた技術開発」に参画し、Siベースの2nm以細向けデバイス・材料・プロセス要素技術および短TAT・クリーンプロセス装置技術の開発を担っています。FEOL・BEOLの両領域にわたる研究者が参画し、材料科学の強みを製造プロセスの革新へとつなげます。