NIMS · 次世代半導体研究プラットフォーム

NIMS · 次世代半導体研究プラットフォーム 材料から、次世代半導体の パラダイムを創出する

Beyond 2nm世代の材料・プロセス・デバイス技術の統合的研究開発により、
日本の半導体産業の国際競争力を支える。

3つの主要プロジェクト

NIMS内 重点プロジェクト

半導体新材料素子技術

ポストシリコンエレクトロニクスへ向けた新材料・新構造・新原理素子実現のブレークスルー技術の探求

外部プロジェクト NEDO/LSTC

Beyond 2nm世代向け半導体技術開発

Beyond 2nmトランジスタ集積化のための必須技術開発

外部プロジェクト 文科省/JST

次世代エッジAI半導体研究開発事業

社会実装に向けた次世代エッジAI半導体の研究開発

プラットフォーム体制

プラットフォーム体制図
左側にNIMS(物質・材料研究機構)内の5つの研究センター(MANA、電子・光機能材料、磁性・スピントロニクス材料、構造材料、マテリアル基盤)が並び、それらが「人材の結集」として中央の3つの主要プロジェクト(次世代エッジAI半導体、半導体新材料素子技術、Beyond 2nm世代向け技術開発)に連携する体制を示しています。

NIMS内半導体
研究グループ/チーム

ナノアーキテクトニクス材料研究センター

半導体材料分野

  • 第一原理量子物性グループ
  • 半導体機能デバイスグループ
  • 超薄膜エレクトロニクスグループ
  • ニューロモルフィックデバイスグループ
  • 半導体ナノ集積グループ
  • 2次元半導体グループ
  • 半導体ナノ構造物質グループ
  • ナノ光制御グループ
  • イオニクスデバイスグループ
  • 半導体デバイス工学グループ
  • スマートインターフェースチーム

電子・光機能材料研究センター

機能材料分野

  • 超ワイルドギャップ半導体グループ
  • ナノ電子デバイス材料グループ

光学材料分野

  • 半導体欠陥制御グループ
  • 半導体エピタキシャル構造グループ

半導体に関連するあらゆる材料を研究

2D材料
  • hBN
  • MoS2
  • MoSe2
  • WS2
  • WSe2
など
酸化物材料
  • In2O3
  • SnO
  • Ga2O3
  • HfO2
  • HfZrO2
など
化合物材料
  • GaAs
  • InAs
  • InP
など
IV族系材料
  • Diamond
  • SiC
  • Si
  • Ge
  • SiGe
  • GeSn
など
有機系材料
  • C8-BTBT
  • PhC2-BQQDI
  • PTCDI-C8
など
接合、配線、電極材料
  • PdCoO2
  • CoSn
  • LaB6
など