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メーカー名: |
Sigray/Canon MJ株式会社 |
型式: |
QuantumLeap |
用途: |
X線分光法によって電極材料の局所構造・電子状態・配位構造等を分析 |
概要: |
XANES, EXAFS, EDXSといったX線域(内殻電子励起)での分光計測が可能な実験室型のX線吸収・蛍光分光測定装置。 |
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X線源 測定用 |
W, Rhターゲット |
輝度 |
@6keV 10^6/s(XANSE), 10^7/s(EXAFS) |
回折格子 |
Ge(220), Ge(400), Ge(440), HOPG(002),Si(111)m |
検出器 |
Si, 1030x514Pix |
測定域 |
2.4~20KeV、分解能0.5eV |
サンプル領域 |
>40mm、微小スポットサイズ<100μm、in-situ/operando解析可、1D/2Dマッピング |
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ソフトウエアは開発段階のため、利用希望の方はまずはお問い合わせください。 |
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XAFSは透過で測る方が解析が容易いです。透過で測定する場合、濃度・試料が厚すぎるとX線が透過せず、I0とIの比較ができません。
濃度が薄すぎるとI0とIがほぼ同じになって、吸光度を計算できません。試料が薄すぎるとハンドリングが難しく、厚さを均一にできません。
そこで、適切な濃度となるように軽元素の窒化ホウ素粉末で希釈し、最低30分メノウの乳鉢で混ぜた後、ペレット化して測定します。
サンプルの適切な濃度の計算は、こちらをご参考に |
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