磁気記録材料グループ | NIMS

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グループメンバー

グループリーダー 主幹研究員 独立研究者
高橋 有紀子 磯上 慎二 佐々木 悠太
外来研究員 ポスドク ポスドク ポスドク ポスドク 大学院生
(筑波大)
武智涼太 W. Won G. K. Shukla S. Ratha V. Ganesan
H. Sibi
大学院生
(筑波大)
大学院生
(筑波大)
大学院生
(筑波大)
研修生 研修生
(早稲田大)
研修生
(京都大)
砂古口 藍子
K.A. Sivaprasad Malarkodi
M.K. Singh
M.R. Ullerithodi
荒木 大輝 安倉 祐樹
研修生
(京都大)
研修生
(IITG)
研修生
(IITG)
研修生
(長岡技科大)
研修生
(長岡技科大)
研修生
(豊橋技科大)
池田 尉昭 A.D. Singha T. Mitra 畑 歩夢 浅谷 隆一郎 岡本 弥咲子
研修生
(NITR)
研修生
(IITG)
研修生
(IITK)
研修生
(Whitman College)
研修生
(IITV)
S. Tiwari A. Ray A. Srivastava 上野 光喜 S. Pandey
特任エンジニア: テクニカルスタッフ:

過去の在籍メンバー

  • 2025.05.13-2026.05.08 S.K. Mishra、研修生(IITH)
  • 2026.02.09-2026.04.14 A.J. SIMSON、研修生(Anna Univ.)
  • 2025.04.01-2026.02.28 A.R. Dilipan、ポスドク研究員(Resonac HD Singapore Pte. Ltd.)
  • 2023.06.15-2025.06.18 P. Kumar、ポスドク研究員
  • 2022.12.1-2025.3.31 小川 大介、特別研究員(現在、信越化学工業(株)磁性材料研究所)
  • 2019.10.1-2022.12.31 P. Tozman、ICYS Research Fellow(現在、ダルムシュタット工科大学)
  • 2017.6.1-2022.3.31 鈴木 一平、ポスドク研究員(現在、Western Digital Japan)
  • 2020.12.1-2021.12.31 S. Sharma、ポスドク研究員
  • 2019.12.16-2021.6.15 R. Nagalingam、ポスドク研究員(現在、Institute of Chemical Research of Catalonia (ICIQ), Spain)
  • 2017.4.1-2020.9.30 小川 大介、ポスドク研究員
  • 2013.10.1-2020.3.31 J. Wang, ICYS fellow (現在、東北大金研)
  • 2019.6.20-2020.12.20 A. Makurenkova, Intern student, Lomonosov Moscos Satate University
  • 2017.6.1-2017.8.29 E. Anokhin, Intern student, Lomonosov Moscos Satate University
  • 2017.7.24-2017.8.10 M. Nakajima, 久留米工業高等専門学校

集合写真

集合写真
(2026年3月撮影、Group Photo)

集合写真
(2025年10月撮影、Welcome Party Photo)

集合写真
(2025年9月撮影、Farewell Photo)

集合写真
(2025年7月撮影、Welcome Party Photo)

集合写真
(2025年4月撮影、Hanami Party Photo)

集合写真
(2024年11月撮影、Welcome Party Photo)

集合写真
(2024年4月撮影)

集合写真
(2023年7月撮影)

集合写真
(2023年4月撮影、Farewell Group Photo)

集合写真
(2022年12月撮影、Farewell Group Photo)

集合写真
(2022年3月撮影、Farewell Group Photo)

集合写真
(2021年12月撮影、Farewell Group Photo)

集合写真
(2020年5月撮影)

集合写真
(2019年12月撮影)