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![]() ![]() (日刊工業新聞2011年1月28日(金) 30面「抵抗記憶素子 集積化のプロセス レアメタル使わず開発」、 化学工業日報2011年1月28日(金) 1面「次世代メモリーReRAM レアメタル不要 アルミ系で構成」、 鉄鋼新聞2011年2月2日(水) 7面「稀少金属不要のメモリー素子」、科学新聞2011年2月4日(金) 4面「レアメタル不使用の集積メモリ オールアルミ系抵抗変化型 集積化プロセス開発」) |
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独立行政法人 物質・材料研究機構 元素戦略プロジェクト「アルミ陽極酸化膜を用いた次世代不揮発性メモリ開発」チーム E-mail: AAA-ReRAM + nims.go.jp CopyRight(C)2007 AAA_ReRAM Project, All right reserved |