メンバー


村田晃一 ジュニアフェロー MURATA Koichi, Junior Fellow
e-mail: MURATA.Koichi (at) nims.go.jp

筑波大学大学院 数理物質研究科博士後期課程 物質・材料工学専攻
Graduate School of Pure and Applied Science, University of Tsukuba

   

Research (研究テーマ)

「シリコン系量子情報処理プラットフォームに関する研究」
Development of Si-based quantum information processing platform


シリコン結晶をベースとした新奇量子情報処理プラットフォームの実現に向け、
表面ナノ構造をドーパント源として利用するドーピングプロセスの研究を行っています。
To realize Si-based QIP, I study about new doping process using surface nano-structure as dopants.

Publication (投稿論文)

[2] High-density G-centers, light-emitting point defects in silicon crystal
Koichi Murata, Yuhsuke Yasutake, Koh-ichi Nittoh, Susumu Fukatsu, and Kazushi Miki
AIP Advances 1 (2011) 032125

[1] Hybrid laser activation of highly concentrated Bi donors in wire-δ-doped silicon.
Koichi Murata, Yuhsuke Yasutake, Koh-ichi Nittoh, Kunihiro Sakamoto, Susumu Fukatsu, and Kazushi Miki
Applied Physics Express. 3 (2010) 061302 (3 pages).

機関広報誌 "NIMS NOW" 2010年 7-8月号に関連記事を掲載(Link)

Prize (受賞歴)

講演奨励賞 第29回(2010 年秋季)応用物理学会
シリコン結晶中の高濃度δドーピング層ビスマス不純物のハイブリッドレーザアニール法による活性化
(物材機構 1,筑波大院数物 2,東大院総合 3,産総研 4)
村田晃一 1,2, 安武裕輔 3,日塔光一 1,坂本邦博 4,深津 晋 3,三木一司 1,2


Equipment (装置)

シリコン系分子線エピタキシー装置: Si-based MBE system
瞬時レーザアニール装置: High spped laser annealer
フォトルミネスセンス、エレクトロルミネスセンス測定装置: PL & EL measurement system
微細加工装置, 電気的特性装置、他: micro fabrication, electro-transportation system, etc.


Conference (研究発表)


Hobby (趣味)

バドミントン、スノーボード、少林寺拳法、テニス、読書、他
badminton, snowboading, shorinji-kempo, tennis, reading, etc.