プレスリリース
超高温・大面積ナノ薄膜装置 (超高温LB膜製作装置) の開発に成功
~200℃にも迫るウエットプロセスで高配向有機半導体ナノ薄膜の製造が可能に~
国立研究開発法人物質・材料研究機構 (NIMS)
協和界面科学株式会社
東京大学大学院新領域創成科学研究科、同連携研究機構マテリアルイノベーション研究センター、同物性研究所、産業技術総合研究所、NIMS、協和界面科学株式会社の共同研究グループは、100℃を超える高温でも液体のイオン液体を用いたウエットプロセスである超高温Langmuir-Blodgett法及び、自動で薄膜製造が可能な汎用的な製造装置の開発に成功しました。
プレスリリース中の図 : 100℃以上に耐えるよう新たに開発したLangmuir-Blodgett装置。機能性分子を展開するトラフ (溶液の液だめ) が均質に温まっている様子が確認できた。
概要
今回開発した超高温LB法及び汎用的な製造装置は、LB法の利点である、液面上での精緻な分子の集合体形成というコンセプトを踏襲しつつ、プロセス可能な温度域を大幅に拡張することができます。これまでプロセス温度の制約により検討されていなかったさまざまな分子の集合体形成が可能となり、分子を用いたエレクトロニクスへの応用研究が加速することが期待されます。
本研究は東京大学 (伊藤雅人 大学院生、山下侑 特任研究員 (NIMS博士研究員兼任) 、森泰蔵 助教、竹谷 純一 教授 (NIMS MANA主任研究者兼任 (クロスアポイント) ) 、渡邉峻一郎 准教授) 、NIMS (有賀 克彦 MANA主任研究者 (東大教授兼任 (クロスアポイント) ) 、ならびに協和界面科学株式会社からなる研究チームにより、創発的研究支援事業「コンデンスドプラスチックの電子論と機能性の創成 (JPMJFR2020) 」 (研究代表者 : 渡邉峻一郎) の一環として行われました。
本研究成果は、米国科学雑誌「Langmuir」2021年12月7日版に掲載されました。
発表のポイント
掲載論文
| 雑誌 | Langmuir |
|---|---|
| 題目 | Hyper 100°C Langmuir-Blodgett (Langmuir-Shaefer) Technique for Organized Ultrathin Film of Polymeric Semiconductors |
| 著者 | Masato Ito, Yu Yamashita, Taizo Mori, Masaaki Chiba, Takayuki Futae, Jun Takeya, Shun Watanabe, and Katsuhiko Ariga. |
| 掲載日時 | 2021年12月7日 |
| DOI | 10.1021/acs.langmuir.1c02596 |
(研究内容に関すること)
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新領域創成科学研究科物質系専攻
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E-Mail: ariga.katsuhiko=nims.go.jp
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東京大学大学院
新領域創成科学研究科物質系専攻
准教授
渡邉 峻一郎 (わたなべ しゅんいちろう)
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