B11:X線吸収分光装置NanoGREEN棟 E-505室

メーカー名 |
Sigray/Canon MJ株式会社 |
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型式 |
QuantumLeap |
用途 |
X線分光法によって電極材料の局所構造・電子状態・配位構造等を分析 |
概要 |
XANES, EXAFS, EDXSといったX線域(内殻電子励起)での分光計測が可能な実験室型のX線吸収・蛍光分光測定装置。 |
装置仕様
X線源 測定用 |
W, Rhターゲット |
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輝度 |
@6keV 10^6/s(XANSE), 10^7/s(EXAFS) |
回折格子 |
Ge(220), Ge(400), Ge(440), HOPG(002),Si(111)m |
検出器 |
Si, 1030x514Pix |
測定域 |
2.4~20KeV,分解能0.5eV |
サンプル領域 |
>40mm,微小スポットサイズ<100μm,in-situ/operando解析可,1D/2Dマッピング |
使用上の注意
- ソフトウエアは開発段階のため,利用希望の方はまずはお問い合わせください。
- XAFSは透過で測定する方が解析が容易です。透過測定の場合,濃度・試料が厚すぎるとX線が透過せず,I0とIの比較ができません。 濃度が薄すぎるとI0IとIがほぼ同じとなり,吸光度を計算できなくなります。試料が薄すぎると取り扱いが難しく,厚さを均一にすることが困難です。 そこで,適切な濃度となるよう軽元素の窒化ホウ素粉末で希釈し,少なくとも30分メノウ乳鉢で混合した後,ペレット化して測定を行います。
サンプルの適切な濃度の計算は,こちらをご参考にしてください。