A25：TOF-SIMSNanoGREEN棟 E-102室
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メーカー名 |
ION-TOF |
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型式 |
TOF.SIMS5-AD-GCIB |
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用途 |
試料表面の微量な元素，化合物の同定や深さ方向分析，サブミクロン分解能でのイメージング |
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概要 |
イオンスパッタによって発生した2次イオンを質量分析することで，非常に高感度な分析が可能。スタティックSIMSの条件では，有機化合物の構造情報も得られる。Arガスクラスターイオンビーム（GCIB）併用により低ダメージスパッタリング，有機物の深さ方向分析に対応。 |
装置仕様
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最小ビーム径 |
100 nm （イメージングモード） |
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質量分解能 |
M/ΔM＞10000 （スペクトロスコピーモード） |
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到達真空度 |
6.7x10-8Pa以下 |
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Ar-GCIB |
【エネルギー】2～20keV, 【クラスターサイズ】約2500 |
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ガスフラッド機構 |
O2またはAr使用可（自動圧力コントロール） |
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試料加熱冷却 |
-130～600℃ （専用試料ホルダー使用） |
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大気非暴露搬送 |
専用トランスファーベッセル使用 |
使用上の注意
- 導電性ナノ粒子を含む試料は測定不可です。
- 導電性の異なる材料の積層試料は測定が非常に困難です。
- センシティブな装置につきライセンスは発行していません。
- 非暴露対応トランスファーベッセルは付属していますが，気密性が低くセンシティブな試料については保証できません。
- 超高真空機器につき，揮発成分により装置内を汚染する可能性のある試料は原則測定できません。揮発成分のある試料につきましては事前にご相談下さい。（硫化物を含む試料は測定不可）
