A19：HAXPESNanoGREEN棟 E-505室
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メーカー名 |
Omicron Nano Technology，ULVAC-PHI（光源） |
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型式 |
特型 |
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用途 |
硬X線源を用いたX線光電子分光 |
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概要 |
この装置では，硬X線励起によって放出された光電子を分析することによって，表面元素を検出することが可能である。この装置は集束Cr Kα線を装備しており，通常のXPSより深い領域（10 ㎚以上）の元素を分析することが可能である。本装置は，Ar雰囲気のグローブボックスと直結されており，大気非暴露搬送が可能である。 |
装置仕様
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単色化Cr X線源出力 |
5.4 keV φ200 ㎛ビームで50 W以上 |
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エネルギー分解能 |
70meV以下（ﾊﾟｽエネルギー100eV，6keV光電子に対して） |
使用上の注意
- 操作が高難度であるため，担当研究者との共同研究ベースでのご利用をご検討ください。
- 超高真空機器につき，揮発成分により装置内を汚染する可能性のある試料は原則測定できません。揮発成分のある試料につきましては事前にご相談下さい。（硫化物を含む試料は測定不可）
