A18：XPS（X線光電子分光装置）NanoGREEN棟 E-505室
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メーカー名 |
ULVAC-PHI |
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型式 |
VersaProbe II |
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用途 |
H，He以外のすべての元素の定性・定量，化学結合状態の分析 |
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概要 |
この装置では，X線励起によって放出された光電子を分析することによって，試料表面の組成比および酸化状態を決定することが可能である。Arイオン銃およびArガスクラスターイオン銃を装備しており，深さ分解測定も可能である。トランスファーベッセルを用いて，アルゴン雰囲気からの大気非暴露搬送が可能である。 |
装置仕様
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X線源 |
集束Al Kα線（1486.6 eV, スポットサイズ; 10-300㎛） |
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最小ビーム径 |
10㎛以下 |
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最高エネルギー分解能 |
0.5eV以下（Ag3ｄ 5/2） |
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最大感度 |
1,000,000cps（Ag3ｄ 5/2の半地幅1.0eVのとき） |
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到達真空度 |
6.7x10-8Pa以下 |
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イオンスパッタリング |
ArモノマーおよびArガスクラスターイオン銃 |
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試料ステージ |
加熱，冷却対応，５軸ステージ |
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試料搬送 |
大気非曝露搬送対応 |
使用上の注意
- 超高真空機器につき，揮発成分により装置内を汚染する可能性のある試料は原則測定できません。揮発成分のある試料につきましては事前にご相談下さい。（硫化物を含む試料は測定不可）
