研究室概要

極限まで微細化した半導体ナノ材料・デバイスの作製法には、半導体薄膜を上から削る方法と、半導体ナノ材料を下から直接結晶成長する方法があり、各々「いいとこ取り」の次世代半導体ナノ集積技術開発とデバイス応用を目指します。

お知らせ

  • 2025.9.2
    研究グループのホームページを公開しました。今後とも、よろしくお願いいたします。研究グループでは、一緒に研究開発を進めてくれる博士研究員や大学院生を募集しています。詳細はこちらをご覧ください。
  • 2025.4.1
    NIMSに着任し、研究グループを立ち上げました。次世代半導体ナノ集積技術を開発すべく、NIMS内外の先生方と密に連携しながら研究を進めて参りたいと思いますので、ご指導・ご鞭撻の程よろしくお願い申し上げます。

国立研究開発法人 物質・材料研究機構(NIMS)

半導体ナノ集積グループ

〒305-0044 茨城県つくば市並木1-1

Semiconductor Nano-integration Group

National Institute for Materials Science

1-1, Namiki, Tsukuba, Ibaraki 305-0044, Japan

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