NIMSナノ計測センターシンポジウム
半導体表面における構造と物性の新展開
−Si(001)とGe(001)表面を中心として−

印刷用開催案内(PDF) 終了いたしました。ご来聴ありがとうございました。 当日の模様

開催趣旨

Si(001)やGe(001)表面は半導体産業の基盤を形成する材料として多くの研究者が理論及び実験面から詳細な研究を行ってきました。近年、このような基本的な半導体表面において、極低温STMにおけるキャリア注入による周期構造制御、電子線照射による構造変化、非接触原子間力顕微鏡による構造操作とエネルギー散逸、外部表面格子歪みによる階層構造変化など、実験面での新しい知見が相次いでおります。また、それらを説明すべき理論も新しい展開を見せております。このような機会に、半導体低指数表面の興味ある物理現象の解明について活躍されている第一線の研究者に、最近の新しい展開をご講演いただくシンポジウムを企画しました。本シンポジウムにより半導体低指数表面の興味ある諸現象について一層の理解を深めることができれば幸いです。

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