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組織制御溶解装置
(Melting-Casting Furnace for Structure Control)

本装置は、溶解、脱酸、凝固、冷却のプロセスを一貫して連続的に実験できるシミュレーターであり、溶解部、凝固部、冷却部よりなっています。

所定の組成に溶湯を作りこみ、合金元素添加、脱酸などを行い、水冷銅鋳型中に鋳造し、スプレーゾーンで冷却することができます。
各プロセスの条件が創製鋼の組織や特性に及ぼす影響を調査することにより、不純物を含有した高品質の鋼を創製するための、上工程における指導原理の確立を図っています。

* 誘導溶解炉
高周波誘導炉で、鉄換算最大35kgの溶解が可能。

Specification
Power : 150kW
Frequency:9kHz
Inner Diameter(Crucible): 180mm
Maximum Capacity :35kg(iron)
Atmosphere: Ar

* 鋳造鋳型
凝固速度を変化させる事が可能。


* 水冷装置
冷水をスプレー噴射し冷却速度を変化させる。

Specification
(Mold)
Capacity: 8kg(iron)
Wall: Water-Cooling Copper
(Heating Device)
Power : 250kW
Frequency: 50kHz
Atmosphere: Ar
Cooling Method: Water spray

せん断付与圧延機
(Shear Added-Rolling Simulator)

板材に対して,圧縮ひずみと同時にせん断ひずみを導入できる圧延装置。通常の圧延,クロスロール圧延,異周速圧延ができます。

 *クロスロール圧延
上下ロールをクロスさせることにより,板厚方向にせん断ひずみを導入できる。クロス角度は最大10°まで可能。

 *異周速圧延
上下のロール速度を変えることにより,板厚方向にせん断ひずみを導入。

Specification
Mill type:Cross 2 high mill
Work roll: 400mm x
300mm
Maximum rolling force:300ton
Drive motor 1 : DC300kW
Drive motor 2 : DC150kW
Maximum rolling speed:30m/min
Cross angle:0 to 10°

多方向圧縮型加工熱処理シミュレータ
(Multidirection Deformation Thermomechanical Treatment Simulator)

多軸加工は,結晶粒の微細化,結晶方位のランダム化に有効な方法である。本装置は,試験片回転機構を備えることによって,加工,回転,加工という動作を連続させることができる。それによって,多軸加工,すなわち加工ごとに異なる方向からの加工が可能となる。

本装置は,以下の3つの機構を備え,圧延・鍛造(試験片回転加工)のシミュレーションを可能にする。

(1) 試験片に対向する2つの油圧アクチエータを用いた加工機構 (最大付加力 25ton,最大速度 2m/s)

(2) 直接通電及び高周波加熱による加熱機構

(3) 試験片を回転させる機構

結晶粒変形追尾装置
(Characterization Equipment for Deformed Crystalline Microstructure)

走査型電子顕微鏡(SEM)と結晶方位解析装置(OIM)とエネルギー分散型X線分析装置(EDS)を組み合わせた多機能組織解析装置。

結晶性の試料に電子顕微鏡から電子線を照射することで形成されるEBSP (Electron Back-Scattering diffraction Pattern)をCCDカメラで連続的に取り込みながらコンピュータ上で方位解析を行うことができる。これによって材料の結晶方位の配向性や微細な結晶構造を調べることが可能となる。また同時にEDSによる分析を行うことで試料中の組成をより詳しく定量的に調べることが可能です。

Orientation Imaging Microscope
(TexScanLaboratory, USA)
DVC 1612 CCD Camera
OIM analysis 3 Software Package
Energy Dispersion Spectroscopy
Hi-Re Sapphire Detector (EDAX)
Genesis Software package

Specification
Scanning Electron Microscope  
LEO1550GEMINI (Carl-Zeiss, Germany)
Shottcky FE-Gun 30kV-1nm Resolution