電子セラミックスグループ
2022.01.13 更新本グループでは、さらに高性能な電子セラミックスの開発とともに、電子セラミックスを生産するための製造技術開発を行っています。それらを通じ、進歩の著しい情報・通信技術、あるいは、省エネルギーのための技術などのさらなる進展に寄与することを目指しています。

ガラスと結晶とからなる複合焼結体の電子顕微鏡写真
(担当 : 瀬川)

セラミックスの界面で観測される整流特性
研究対象
一方、ますます小型化高性能化する電子セラミックスの開発を可能にするため、薄膜合成技術の開発に携わっています。特に、エピタキシー技術に取り組んでいます。

1200℃で加熱した酸化亜鉛結晶表面の原子間力顕微鏡像 (2μm×2μm) 。一段一段が、0.26ナノメートルの結晶の大きさに対応。(担当 : 大澤)

酸化物薄膜中に形成された極性反転界面の断面透過電子顕微鏡写真とモデル図 (担当 : 安達)
主要設備等
パルスレーザー蒸着装置
分子線エピタキシー装置
窒化物合成装置
RFスパッタ成膜装置
雰囲気熱処理炉
プラズマ処理装置
精密研磨装置 等
評価装置 :
昇温熱脱離質量分析装置
ホール効果・DLTS測定装置
フォトルミネッセンスマッピング装置
紫外・可視・赤外分光装置
波長可変・フェムト秒レーザー分光システム
高温ステージ付きXPS・UPS装置
マッピング機能付き蛍光X線分析装置
高分解能走査型電子顕微鏡
顕微ラマン散乱分光装置
カソードルミネッセンス装置 等
演算装置・ソフトウエア :
2ノード・数値演算ワークステーション
電子構造シミュレーションソフトウエア

Nd:YAGレーザーとエキシマレーザーを備えたパルスレーザー蒸着装置。 (安達担当)

遠紫外対応カソードルミネッセンス分光装置 : 遠紫外から近赤外まで無色収差光学系を採用し、198-800nmの発光を測定できる。(担当 : 渡邊)

高温ステージ付きXPS・UPS装置。高温の状態にある試料の電子構造についての情報を得ることが可能。(担当 : 大澤)

雰囲気焼成炉。水素雰囲気、アンモニア雰囲気、水蒸気雰囲気などの各種の雰囲気焼成炉
グループメンバー

(別ウィンドウで開きます)岡田 勝行
(おかだ かつゆき)

(別ウィンドウで開きます)渡邊 賢司
(わたなべ けんじ)

(別ウィンドウで開きます)三重野 正寛
(みえの まさひろ)

(別ウィンドウで開きます)瀬川 浩代
(せがわ ひろよ)

(別ウィンドウで開きます)安達 裕
(あだち ゆたか)

(別ウィンドウで開きます)大垣 武
(おおがき たけし)

(別ウィンドウで開きます)大澤 健男
(おおさわ たけお)

(別ウィンドウで開きます)上田 茂典
(うえだ しげのり)

(別ウィンドウで開きます)飯村 壮史
(いいむら そうし)

(別ウィンドウで開きます)清水 荘雄
(しみず たかお)
お問い合わせ先
- 電子セラミックスグループ
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〒305-0044 茨城県つくば市並木1-1
E-Mail: kinou-inquiry=ml.nims.go.jp([ = ] を [ @ ] にしてください)