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利用について |
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誰でも利用できますか？ |
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産学官問わず、研究開発目的(*)であれば、どなたでも課題申請可能です。ただし、課題審査がありますので、審査の結果によっては利用できない場合もあります。
(*)利用によって得られた試料・結果等を転売するなどの目的での利用は禁止しています |
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１件の申請で何人まで利用できますか？ |
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利用できるのは申請者本人のみです。利用者本人が申請する必要があります。また、利用者が同じであってもテーマ（課題）が異なる場合は、テーマ毎に申請していただく必要があります。 |
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NIMS所属でも申請が必要ですか。 |
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同様の課題申請は必要ですが、NIMS所属の方はNIMS微細加工プラットフォームではなく、内部向け支援組織での受け入れとなります。 |
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公開とはどのようなものですか。 |
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支援終了後に、A4で1ページの利用報告書の提出が義務付けられています。その報告書が一般に広く公開(*)されます。利用報告書の様式はこちらを参照下さい。
(*)提出後、微細加工プラットフォームポータルサイトにて会員向けに公開。 |
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非公開利用を希望したいのですが、その場合も利用できますか？ |
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ナノテクノロジープラットフォーム事業においては公開利用が必須となっておりますので、同事業の枠組み内での利用はできません。非公開を希望される場合は、同事業とは別に、自主事業として利用いただくことが可能です。ただし、その場合は利用料金等が変わりますので、まずは「利用相談」よりご相談下さい。 |
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初めて利用する場合はまず何をすれば良いですか？ |
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まずは当ホームページの「利用相談」よりご相談下さい。その際、研究内容や加工したい内容、利用希望装置、利用希望形態などをご記入いただけると適切に回答できるかと思います。 |
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学生でも利用できますか？ |
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課題が受理されれば利用できます。ただし、利用料金が発生しますので、指導教官等の同意・許可を必ず得て下さい。 |
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NIMS研究者と共同研究をしています。その場合も申請が必要ですか。 |
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必要です。課題申請を受理されていない方は装置利用および技術支援を受けることができません。 |
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課題申請者だけが支援を受けられるのですか。申請者の共同研究者でも同等の支援を受けられますか？ |
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申請者以外は支援を受けられません。ただし、共同研究者の付き添いでクリーンルーム等に入室することは可能です。 |
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申請者の付き添いでクリーンルームに入室したいのですが、何か手続きは必要ですか。 |
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付き添いの場合も「ユーザー登録」を行なって下さい。 |
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複数の異なる課題で支援を受けたいのですが、課題ごとの申請が必要ですか？ |
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必要です。課題ごとの支援実施になりますので、同一ユーザーであっても実験内容が異なる場合は課題ごとに申請して下さい。 |
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課題審査の結果はどのくらいで届きますか？ |
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通常、１週間以内です（非勤務日を除く）。ただし、審査者が学会等により出張している期間もありますので、その場合は２週間程度かかる場合もあります。ご了承下さい。 |
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ひとつの課題申請で支援を受けられる期間は決まっていますか？ |
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同一年度内であれば制限はありません。ただし、年度末には支援終了となります。 |
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翌年度に同内容の支援を受けたいのですが、その場合も再度課題申請が必要ですか。 |
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必要です。課題申請は年度単位となりますので、継続の案件であっても年度ごとに申請を行なって下さい。 |
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支援形態について |
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機器利用で支援を受けたいのですが、どうすれば良いですか？ |
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支援員により機器利用ライセンスを付与されたユーザーのみが単独利用可能となります。ライセンスを得るためには、はじめに「技術補助」で支援員と装置操作（操作トレーニングを含む）を数回行い、支援員が操作に問題がないと判断した場合、ライセンスが付与されます。 |
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学生単独でも機器利用はできますか？ |
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学生でも機器利用ライセンスを得ることができます。 |
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装置の操作トレーニングを受けたい場合は、どうすれば良いですか？ |
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担当の支援員に操作トレーニングを受けたい旨をメール等で連絡下さい。スケジュールを調整いたします。 |
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技術補助や技術代行も利用者側で装置予約ができますか。 |
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「機器利用」以外はユーザーによる直接予約はできません。機器利用以外の場合は、担当の支援員に連絡し、スケジュール調整して下さい。 |
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同一課題内で、その時々で支援形態を選択できますか？ |
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選択できます。ただし、機器利用以外はユーザーによる予約はできませんので、担当の支援員とスケジュール調整して下さい。 |
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技術補助と技術代行の差は何でしょうか。 |
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技術補助はユーザーが来所し、支援員の補助を受けながらユーザー自身で装置操作、試料作製を行う形態です。操作トレーニングも技術補助に含まれます。技術代行は、原則ユーザーからの依頼に沿って支援員が装置操作、試料作製を行う形態です。 |
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支援実施について |
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施設・装置の利用可能日時を教えて下さい。 |
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原則，平日9-19時です。深夜，土日，祝日，夏季・冬季休暇，クリーンルームメンテナンス日等は利用できません。ただし，電子ビーム描画装置の長時間描画など危険性のない無人運転はこの限りではありません（利用料金は無人運転中も課金されます）。 |
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消耗品（実験消耗品、薬品、レジスト、成膜ターゲット等）はユーザーで準備する必要がありますか？ |
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多くのユーザーが使用する薬品やレジスト、成膜ターゲットについては準備する必要はありません。ビーカーやピンセット、クリーン服なども各種用意がありますので、ご使用ください。ただし、基板（シリコン基板や化合物半導体基板、石英基板等）はユーザーにてご用意下さい。 |
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施設で保有している薬品を教えて下さい。 |
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アセトン、IPA、NMP、エタノール、硫酸、塩酸、リン酸、硝酸、過酸化水素水、フッ酸、バッファードフッ酸、金エッチャント、銀エッチャント、クロムエッチャント、セミコクリーン、TMAH等 |
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保有しているスパッタリングターゲットを教えて下さい。 |
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【全自動スパッタ装置】Al, Ag, Au, Al2O3, Cr, Cu, ITO, Mo, Ni, Pt, Si, Si3N4, SiO2, Ta, Ta2O5, Ti, TiN, TiO2, W, Zn, ZnO
【UHVスパッタ装置】Au, Pt, Ag, Cu, Al, W, Mo, Ta, Ti, TiN, Ni, Cr, Si, SiO2, TiO2, MgO, ITO, PZT, CaF2 |
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保有している蒸着ターゲットを教えて下さい。 |
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Ti、Cr、Al、Ni、Co、Pt、Au、Ag、Pd、Fe、AuGe、Nb、等 |
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保有しているレジストを教えて下さい。 |
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EBレジスト・・・ZEP520A、PMMA、Copolymer、NEB-22、FEP-171、XR-1541、等
フォトレジスト・・・AZ5214E、AZ P4620、AZ P4903、TSMR-8800 (5cp、12.5cp)、ZPN1150、PMGI (SF9、SF9S、SF6)、LOR (5A、10A)、SU-8 (3005、3010、3025)、KMPR-1000、等 |
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薬品・消耗品・機器等の持ち込みは可能ですか。 |
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まず支援担当者もしくは事務局に問い合わせ下さい。無断での持ち込みは禁止です。 |
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各種装置の条件やレシピを教えてもらうことはできますか。 |
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支援を実施する中で提供することは可能ですので、ご相談下さい。 |
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実験中に装置トラブルが発生した場合はどうすればよいですか。 |
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近くにいる支援員にまず伝えて下さい。 |
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装置トラブルが発生し、実験ができなくなった場合も課金されますか。 |
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トラブル発生の原因に依ります。ユーザーの過失等でトラブルが発生した場合は課金いたしますが、通常の使用の範囲内でトラブルが発生した場合はキャンセルされます。 |
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修理が必要な装置トラブルが発生した場合、修理代を支払う必要はありますか。 |
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過失、故意などユーザーに責務がある場合は修理代を支払っていただきますが、通常の使用の範囲内での装置トラブルに関する修理は修理代を支払う必要はありません。 |
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技術代行で試料作製を依頼した場合はどのくらいで対応してもらえますか。 |
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装置の稼働状況や支援員のスケジュールにも依存しますが、可能な限り迅速に着手しています。また、高度な内容で時間を要する場合は都度進捗状況をお知らせしています。 |
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技術代行で試料作製を依頼した場合、作製レポートなどをもらうことはできますか。 |
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原則、作製レポートを作成して依頼ユーザーにお送りしています。レポートの内容で不明な点や不備な点がある場合は担当支援員に連絡下さい。 |
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技術代行で期待した結果が得られなかった場合も課金されますか。 |
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結果の善し悪しに関わらず、支援作業に応じた料金を請求いたします。あくまでも研究のための技術代行であるため、事前にうまくいくかどうかは保証できませんので、あらかじめご了承ください。 |
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技術代行は誰でも依頼できますか。 |
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技術代行の受入は優先度を設けさせていただいております。企業利用者や遠方利用者、異分野や高難易度の依頼を優先的に受け付けます。利用者自身で実験可能な方については原則利用者自身で実施して下さい。 |
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課金について |
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課金のシステムを教えて下さい。 |
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装置ごとの予約に応じた時間課金制となっております。実際の利用時間ではなく、予約時間が課金対象となりますので、過度な予約に注意して下さい。尚、予約時間を過ぎた場合は超過時間分も課金されます。 |
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料金を教えて下さい。 |
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ホームページの「利用料金」を参照下さい。 |
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事前に見積書をもらうことは可能でしょうか。 |
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高度な研究支援・技術開発に掛かる工数を積算することは困難なため、原則見積書の発行は行なっておりません。口頭やメール等でおおよその金額をお伝えすることはできますので、問い合わせいただければと思います。 |
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課金の積算額をリアルタイムで知ることはできますか。 |
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研究支援管理システムにログインし、「課題申請・支援履歴」から利用料金の積算額が確認できます。 |
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課金の支払はいつになるのでしょうか。 |
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利用した月毎の積算金額を翌月に請求いたします。事務手続きの都合上、翌月の中旬以降に請求書が発行されます。 |
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課題は継続したいのですが、予算の都合上、一定の金額で請求してもらいたいのですが、可能でしょうか。 |
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原則対応できません。各月ごとの積算額が請求額となります。 |
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複数の課題で支援を受けている場合、課金をまとめて請求してもらうことは可能でしょうか。 |
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原則対応できません。１課題ごとに請求されます。 |
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課金の上限はありますか。 |
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課金上限は設けておりません。 |
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成果の取り扱いについて |
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装置または支援を利用して得られた成果を外部発表する場合に手続きは必要ですか。 |
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必ず研究支援管理システム内の「外部発表登録」より連絡下さい。 |
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「外部発表」には何が含まれますか。 |
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原則、何らかの発表をする場合は全て登録する必要があります。主なものは以下の通りです。
・学術論文／雑誌（投稿中、出版中、出版済、全て対象）
・国際学会／会議（招待講演・一般講演・ポスター発表、全て対象）
・国内学会／会議（招待講演・一般講演・ポスター発表、全て対象）
・特許（国内・国際、特願・特開・特許、全て対象）
・プレスリリース（新聞・雑誌・Web、全て対象）
・その他（卒業・修士・博士論文発表、学内シンポジウム、等全て対象） |
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外部発表の際，謝辞を記載する必要ありますか。 |
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謝辞は必ず記載するようお願いします。記載例は以下の通りです。
【和文】 本研究（の一部）は、文部科学省「ナノテクノロジープラットフォーム」事業（課題番号：JPMXP09F○○NM△△△△）の支援を受けて、NIMS微細加工プラットフォームにおいて実施されました。
【英文】 (A part of) This work was conducted at NIMS Nanofabrication Platform, supported by "Nanotechnology Platform Program" of the Ministry of Education, Culture, Sports, Science and Technology (MEXT), Japan, Grant Number JPMXP09F○○NM△△△△. |
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外部発表の際，謝辞以外にNIMS微細加工PFスタッフの方を共著する必要はありますか。 |
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その判断は原則ユーザーの判断に委ねていますが，試料作製において担当スタッフのサポート（的確な助言やノウハウの提供，技術援助等）の寄与が大きいと思われる場合は是非連名にして下さい。 |
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支援を受けた内容を元に特許出願する場合は，共同出願になりますか。 |
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論文等と同様ですが，原則ユーザーの判断に委ねます。 |
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