NIMS微細加工プラットフォーム
サイトマップ
文字サイズ 標準 拡大   Japanese English

施設・装置 / Facility & Equipment
施設概要 (Facility)   装置紹介 (Equipment)   施設紹介動画

装置紹介

リソグラフィー装置群 (Lithography Equipment)
 
　125kV電子ビーム描画装置 (125kV-EB Writer)
電子ビーム描画装置
メーカー名 エリオニクス
型番 ELS-F125
用途 ナノパターニング
詳細はこちら
 
　高解像度レーザーリソグラフィ装置 (Laser Lithography)
画像準備中
メーカー名 HEIDELBERG
型番 DWL66+
用途 高解像度レーザー描画
詳細はこちら

   高速マスクレス露光装置 (Maskless Lithography)
　画像準備中
メーカー名 NSS
型番 DL-1000 / NC2P
用途 マスクレス露光
詳細はこちら
 
　水蒸気プラズマ洗浄装置 (Water Vapor Plasma Cleaner)
UVオゾンクリーナー
メーカー名 サムコ
型番 AQ-500
用途 ドライ洗浄
詳細はこちら

　UVオゾンクリーナー (UV Ozone Cleaner)
UVオゾンクリーナー
メーカー名 サムコ
型番 UV-1
用途 基板表面改質
詳細はこちら
 

薄膜形成装置群 (Thin Filim Deposition Equipment)
 
　多元スパッタ装置 (i-miller) (Sputter-depo System)
全自動スパッタ装置
メーカー名 芝浦メカトロニクス
型番 CFS-4EP-LL
用途 多種薄膜形成
詳細はこちら
 
　全自動スパッタ装置 (Auto Sputter-depo System)
全自動スパッタ装置
メーカー名 アルバック
型番 J sputter
用途 多種薄膜形成
詳細はこちら

　６連自動蒸着装置 (Automatic E-gun Evaporator)
６連自動蒸着装置
メーカー名 アールデック
型番 ADS-E86
用途 自動金属薄膜形成
詳細はこちら
 
　12連電子銃型蒸着装置 (12 E-gun Evaporator)
12連電子銃型蒸着装置
メーカー名 アールデック
型番 RDEB-1206K
用途 金属薄膜形成
詳細はこちら

　多機能型原子層堆積装置 (Multifunctional ALD System)
多機能型原子層堆積装置
メーカー名 サムコ
型番 AD-230LP
用途 多種ALD薄膜形成
詳細はこちら
 
　プラズマCVD装置 (PECVD System)
プラズマCVD装置
メーカー名 サムコ
型番 PD-220NL
用途 SiO2, SiN薄膜形成
詳細はこちら

　高圧ジェットリフトオフ装置 (Auto Liftoff System)
メーカー名 カナメックス
型番 KLO-150CBU
用途 自動リフトオフ
詳細はこちら
  　


ドライエッチング装置群 (Dry Etching Equipment)
 
　多目的ドライエッチング装置 (CCP-RIE)
多目的ドライエッチング装置
メーカー名 サムコ
型番 RIE-200NL
用途 フッ素ガスでのRIE
詳細はこちら
 
　化合物ドライエッチング装置 (ICP-RIE by chlorine gas)
化合物ドライエッチング装置
メーカー名 サムコ
型番 RIE-101iPH
用途 塩素ガスでのRIE
詳細はこちら

　シリコン深堀エッチング装置 (Silicon Deep RIE)
シリコン深堀エッチング装置
メーカー名 住友精密工業
型番 MUC-21 ASE-SRE
用途 シリコン用RIE
詳細はこちら
 
　酸化膜ドライエッチング装置 (ICP-RIE by fluorine gas)
酸化膜ドライエッチング装置
メーカー名 住友精密工業
型番 MUC-21 RV-APS-SE
用途 SiC, SiN, SiO2のRIE
詳細はこちら

　ICP原子層エッチング装置 (ICP-ALE)
メーカー名 Oxford Instruments
型番 PlasmaPro 100 Cobra 300 ALE
用途 先端的ドライエッチング
詳細はこちら
   

熱処理装置群 (Annealing Equipment)
 
　赤外線ランプ加熱装置 (RTP System)
赤外線ランプ加熱装置（準備中）
メーカー名 アドバンス理工
型番 RTP-6
用途 多目的熱処理プロセス
詳細はこちら
 
　ウエハＲＴＡ装置 (Wafer RTA System)
急速赤外線アニール炉
メーカー名 ハイソル
型番 AccuThermo 610
用途 ウェハの熱処理
詳細はこちら

プロセス評価・観察装置群 (Process Characterization Equipment)
 
　走査電子顕微鏡 (FE-SEM)
走査電子顕微鏡
メーカー名 日立ハイテク
型番 S-4800
用途 加工試料の観察
詳細はこちら
 
　高速広域走査型プローブ顕微鏡 (High-speed SPM)
画像準備中
メーカー名 Oxford Instruments
型番 Jupiter XR
用途 ナノ構造の計測・評価
詳細はこちら

　３次元測定レーザー顕微鏡 (3D Laser Microscope)
３次元測定レーザー顕微鏡
メーカー名 オリンパス
型番 LEXT OLS4000
用途 3次元形状観察
詳細はこちら
 
　顕微式自動膜厚測定システム (Thin-Film Mapping System)
イオンスパッタ
メーカー名 フィルメトリクス
型番 F54-XY-200-UV
用途 反射分光膜厚測定
詳細はこちら

　自動エリプソメータ (Ellipsometer)
３次元測定レーザー顕微鏡
メーカー名 ファイブラボ
型番 MARY-102FM
用途 絶縁膜形成評価
詳細はこちら
 
　触針式プロファイラ (Stylus Profiler)
触診式プロファイラ
メーカー名 ブルカージャパン
型番 Dektak XT-A
用途 段差測定
詳細はこちら

　イオンスパッタ (Ion Sputtering System)
自動エリプソメータ
メーカー名 日立ハイテク
型番 E-1045
用途 SEM等の前処理
詳細はこちら
 
　薄膜応力測定装置 (Thin Film Stress Measurement)
触針式表面段差計
メーカー名 東朋テクノロジー
型番 FLX-2000-A
用途 薄膜応力測定
詳細はこちら
   

切削・研磨装置群 (Cutting & Polishing Equipment)
 
　ダイシングソー (Dicing Saw)
ダイシングソー
メーカー名 ディスコ
型番 DAD322
用途 各種基板の小片化
詳細はこちら
 
　手動スクライバー (Manual Scriber)
自動スクライバー
メーカー名 共和理研
型番 K-604S100
用途 半導体基板の小片化
詳細はこちら

電気特性評価装置群 (Electrical Measument Systems)
 
　室温プローバーシステム (Room Temp. Prober)
室温プローバーシステム
メーカー名 ベクターセミコン
型番 MX-200/B, B1500A
用途 I-V/C-Vの室温特性
詳細はこちら
 
　液体窒素プローバーシステム (LN2 Prober)
極低温プローバーシステム
メーカー名 サーマルブロック
型番 SB-LN2, 4200-SCS
用途 I-Vの温度特性
詳細はこちら

　ワイヤーボンダー (Wire Bonder)
ワイヤーボンダー
メーカー名 West Bond
型番 7476D
用途 配線ボンディング
詳細はこちら
  　


ページの先頭へ

       
【各種問合せ】
NIMS微細加工共用施設 事務局
〒305-0047　茨城県つくば市千現１-２-１
Email：NIF-office(at)nims.go.jp