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グラフェン国際ワークショップ2011を開催

2011.01.17, 18
(2011.02.04 更新)


平成23年1月17日・18日の2日間、茨城県つくば市においてグラフェン国際ワークショツプ2011が開催されました。

「写真 : ノボセロフ氏の講演」の画像

写真 : ノボセロフ氏の講演



平成23年1月17日・18日の2日間、茨城県つくば市においてグラフェン国際ワークショツプ2011 (Graphehe Workshop in Tsukuba 2011 : 物質・材料研究機構 (NIMS) 主催、東京工業大学、筑波大学協力) が開催されました。

会議では、一炭素原子層からなるグラフェンに関し、電子の超高移動度を有するため次世代エレクトロニクスに革新をもたらし、また巨大芳香族分子が新機能を発現する化学のプラットフォームになる期待が高まる中、選択的、大面積、無欠陥のグラフェン膜の成長法の探索と応用展開が議論されました。

会議では、200名以上の参加者のもと、基調講演はコンスタンチン・ノボセロフ教授 (英マンチェスター大学、2010年ノーベル物理学賞受賞) 、カーボン研究では世界的に著名なミルドレッド・ドレッセルハウス教授 (米マサチューセッツ工科大学電気工学・コンピュータ科学科物理学科) 、グラフェンの化学的応用を研究しているマックス・プランク研究所のクラウス・ミューレン教授、国立シンガポール大学のキヤンピン・ロー教授、及び米コロンビア大のフィリップ・キム教授の研究を担っている博士課程のアンドレア・ヤング氏の5名が行いました。また、我が国の本分野での第一線の研究者が16件の最新の研究結果を発表し、熱気ある活発な質疑応答が繰り広げられ、参加者の多くから時機を得た会議の開催と高く評価されました。


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