分子(固体)をDepositionする方法

�@　depoする分子をるつぼに入れ、準備する。

�A　るつぼをchamber#3(導入室)にSETする。(右図のとおり）

�B　depoされるsampleはchamber#2(処理室)にストックしておく。

�C　RP(ロータリーポンプ)もTMP(ターボ分子ポンプ)もON。

�D　Gate Valve #2をCLOSE、Gate Valve #3をOPENする。

�E　冷却水を流す。

�F　膜厚計をchamber#3横の青色BOXとつないで電源をONする。(左図は膜厚計がつながった状態)
　　　膜厚計；PROG → ENT X 数回 → DENS: （depo分子特有値を入力) 、Z-RA: （〃） → PROG → START

�G　chamber#3内に見える膜厚計のセンサー部をdepo sample(るつぼ)上部へダイヤルを回して移動させる。

�H　るつぼをDC POWER SUPPLYとつなぐ。(右図はつながった状態)

�I　るつぼやdepo sampleのガス抜きのため、５A で真空計#3が示す圧力が安定するまで放置。（about for 20min.）

�J　その後 0.5A ずつcurrentを上げていき、真空計#3 & 膜厚計をcheckしながら膜厚計に"0"でない数値が表示される電流値&電圧値を探す。また、その電流・電圧値でのdepo speed（Å/sec.）を測定換算する。

�K　膜厚計センサーをるつぼ上部から離し、chamber#2のdepoされるsampleをchamber#3にdepo分子がdepositionされないような向きでるつぼ上部に移動させる。

�L　depo speedから必要depo timeを換算し、るつぼ上部のsampleをdepo time分るつぼ側へ向けてdepositionする間静置する。deposition終了後直ちにsampleをchamber#2へ戻す。

�M　Gate Valve #2をCLOSEする。

�N　DC POWER SUPPLYをOFF、膜厚計；STOP → OFF、冷却水をCLOSEする。