2011年量子ドットセンターは先端フォトニクス材料ユニットに改組されました。新しいホームページへはこのリンクをクリックしてください。
ナノ成長グループ
ナノフォトニクスグループ
デバイス応用グループ
ナノ物性グループ
プラズモニクスグループ
液滴エピタキシーで作製した2重量子リング
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顕微フーリエ分光法による単一量子ドットの蛍光測定
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InAs量子リングと電子線誘起蒸着法で形成したW配線
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ゲート電圧による2次元電子系のホール抵抗のヒステリシス
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プラズモニクスやメタマテリアルの研究・応用展開
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ご挨拶
迫田和彰 量子ドットセンター長
迫田和彰
センター長

 SiやGaAsなどの半導体は現代のエレクトロニクス社会を支える基幹材料です。高度に精緻化された結晶成長やリソグラフィー技術を駆使して高性能なLSIが製造され,コンピューターなどの電子機器の心臓部として使われています。半導体の大きさをどんどん小さくして電子の波動関数の広がりの大きさと同じくらいにすると,半導体の特性が大きく変化します。直径が数十nmの半導体の粒は量子ドットと呼ばれ,電子の波動関数が小さな体積に閉じ込められる結果,まるで1つの大きな原子のように振舞います。

  量子ドットセンターではこのような半導体ナノ構造を中心に研究を推進し,NIMSが培ってきたナノ構造の創製技術を高度化および融合することにより,ナノテクノロジー基盤技術のさらなる発展を目指しています。また,顕微レーザー分光法や強磁場物性測定などのナノ構造の評価技術や理論研究の発展にも力を注いでいます。関連分野である有機細線,プラズモニクス,フォトニック結晶,ナノフォトニクスの研究も強力に推進しています。

集合写真 千現キャンパスにて,2007年6月11日撮影
千現キャンパスにて,2007年6月11日撮影

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