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施設・装置

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装置仕様

	生体分子調製エリア

メーカー名：   形式：   使用目的：   　装置仕様

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レーザースキャナー（マイクロアレイスキャナー）

メーカー名： アジレントテクノロジー 形式： SureScan 4900DA 使用目的： 主にマイクロアレイ解析のデータ読み取りに用います。 　装置仕様 サンプル standard microscope slide 走査範囲 max 22 x 71.5 mm Excitation 532 nm and 635 nm Emission filters Optimized for Cy3 and Cy5

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表面プラズモン共鳴バイオセンサー

メーカー名： GE Healthcare 形式： BIACORE-X100 使用目的： プローブ表面に固定した分子とプローブ溶媒分子間の相互作用を測定します。 　装置仕様 ベースラインノイズ 0.1RU(RMS)未満 データ取得間隔 1Hz 測定温度 25℃

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リアルタイム定量PCR

メーカー名： ロシュ 形式： ライトサイクラー480SystemII 使用目的： 遺伝子量および遺伝子発現レベルの定量、遺伝子欠損の検出、遺伝子多型の検出、PCR産物の同定に使用します。 　装置仕様 温度制御範囲 37℃～95℃ その他 励起波長（nm）： 440, 465, 498, 533, 618 検出波長（nm）： 488, 510, 580, 610, 640, 660

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ゲルイメージャー

メーカー名： クラボウ 形式： Dolphin-Doc 使用目的： DNA、RNA、タンパク質など生体分子の電気泳動パターンの撮影、解析に使用します。また、コロニーカウントやマイクロタイターアッセイにも使用可能です。 　装置仕様　UVトランスイルミネーター（312nm)

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グラジエントPCR

メーカー名： タカラバイオ 形式： TaKaRa PCR Thermal Cycler Dice GradientTP600 使用方法： DNA断片を増幅する条件の検討に用います。またDNA断片の増幅にも用います。 　装置仕様 設定温度 4℃～99.9℃（0.1℃単位） グラジエント 設定可能範囲 40～75℃（温度幅6～20℃）

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PCR

メーカー名： タカラバイオ 形式： TaKaRa PCR Thermal Cycler Dice Standard TP650 使用目的： DNA断片を増幅するのに用います。 　装置仕様 設定温度 4℃～99.9℃（0.1℃単位）

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微量分光光度計

メーカー名： サーモサイエンティフィック 形式： NanoDrop 2000 使用目的： 試料の吸収スペクトルを測定します。 　装置仕様 測定波長範囲 190～840nm 最小試料量 0.5μL

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卓上電子顕微鏡TM4000PlusII

メーカー名： 日立ハイテクノロジーズ 形式： Miniscope TM4000PlusII 使用目的： 簡便に電顕観察(反射電子像・二次電子像)を実施します。 　装置仕様 　　 倍率 10倍～100,000倍 加速電圧 5kV、10kV、15kV、20kV 画像信号 反射電子、二次電子、合成(反射電子＋二次電子) 真空モード 導電体(反射電子のみ)、通常、帯電軽減 その他 EDXによる元素分析が可能。

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卓上電子顕微鏡TM3000

メーカー名： 日立ハイテクノロジーズ 形式： Miniscope TM3000 使用目的： 簡便に電顕観察(反射電子像)を実施します。 　装置仕様 倍率 15倍～30,000倍 加速電圧 5kV、15kV 観察(真空)モード 通常、帯電軽減 その他 EDXによる元素分析が可能。反射電子像観察のみで、二次電子像観察はできません。

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セルアナライザー

メーカー名： SONY 形式： スペクトル型セルアナライザーSP6800 使用目的： 細胞の特性を高精度に分離解析します。 　装置仕様 搭載レーザー 488nm/638nm 分光方式 プリズムアレイ分光法 蛍光スペクトル測定範囲 500nm-800nm（32チャンネル） 検出可能粒子サイズ 0.5～40μm　（ビーズ）

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セルソーター

メーカー名： SONY 形式： セルソーター SH800 使用目的： 細胞の特性を分離解析します。 　装置仕様 搭載レーザー 405, 488, 561, 638(nm) チャンネル数 1 × 前方散乱光（FSC） 1 × 側方散乱光（BSC） 6 × 蛍光検出（FL）

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	バイオイメージングラボ

レーザーマイクロダイセクションシステム

メーカー名： ライカマイクロシステムズ 形式： LMD7000 使用目的： 組織切片や生細胞から分析したい目的の領域を、ダイオードレーザーで高速切り抜き・回収するシステムです。 　装置仕様　 　電動正立顕微鏡　ダイオードUVレーザー(355nm)、 　スキャニングステージ 対物レンズ 1.25ｘ6.3ｘ10ｘ.20ｘ40ｘ 観察法 明視野、10ｘ以上は位相差・微分干渉対応 サンプルセット枚数 3枚まで可 回収チューブ 4本まで可 その他 細胞自動認識ソフトウェア、生細胞カッティングモジュール

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共焦点レーザー顕微鏡

メーカー名： ライカマイクロシステムズ 形式： TCS SP5 使用目的： 蛍光物質にレーザー光を照射し、蛍光を発色させて像を観察する装置。クリアな画像キャプチャーと三次元情報の再構築が可能です。 　装置仕様 対物レンズ タンデム仕様（高速／高解像）10ｘ20ｘ40ｘ63ｘ 高速モード 撮影時 秒/250コマ撮影 高解像モード 撮影時 8000×8000撮影が可能 励起波長 405nm, 458nm, 476nm, 488nm, 514nm, 543nm, 688nm

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ラマン顕微鏡

メーカー名： レニショー 製品名： inVia Reflex 設置説明： ラインレーザー照射による高速ラマンイメージング。繋ぎ目のない連続した広い波数範囲のスペクトル測定。共焦点機構による高い空間分解能。 　装置仕様 レーザー波長 532nm及び785nm 波数分解能 0.3cm-1 空間分解能 水平0.25µm、垂直1µm 対物レンズ 5倍、20倍、50倍、100倍、50倍(長作動距離)、100倍(長作動距離)、63倍(水浸) 回折格子 532nm用: 600g/mm、1800g/mm、3000g/mm 785nm用: 600g/mm、1200g/mm 温度制御 通常室温。温調ステージ使用時-196℃～600℃(現在は300℃まで)。 スペクトルライブラリ 無機、ポリマー。 その他 532nmレーザーのみ偏光測定可能。

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実体顕微鏡デジタルカメラシステム

メーカー名： ライカマイクロシステムズ 形式： S8 APO＋EC3 使用目的： 100％最高級アポクロマート光学系採用、最大ズーム比8：1、最大解像度600Lp/mmのグリノー式実体顕微鏡です。 　装置仕様　グリノー式実体顕微鏡 ズーム比 8:1 観察倍率 10x-80x 対物レンズ アポクロマート1.0x(WD 75mm) カメラ 310万画素デジタルカメラ インターフェース USB2.0、Cマウントアダプタ

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	細胞培養エリア

CO2インキュベーター

メーカー名： 三洋電機 形式： LMD6000 MPP 使用目的： ヒト、マウス、ラット等哺乳動物細胞の培養を行います。 　装置仕様 温度制御範囲 室温＋5℃～55℃

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クリーンベンチ

メーカー名： ヤマト科学 形式： ADS131 使用目的： ヒト、マウス、ラット等哺乳動物細胞培養のための培地調製、細胞接種、培地交換等、細胞培養に関する操作を無菌的に行うために使用します。

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培養顕微鏡

メーカー名： ライカマイクロシステムズ 形式： DMIL-TR/EC3 使用目的： HC光学系採用のルーチン用倒立顕微鏡です。 　装置仕様 観察法 明視野/位相差 対物レンズ 5ｘ10ｘ20ｘ40ｘ カメラ 310万画素デジタルカメラ インター フェース USB2.0、Cマウントアダプタ

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	機器分析エリア

フーリエ変換赤外分光光度計（FT-IR）

メーカー名： 島津製作所 形式： IRTracer-100 使用目的： 分子構造の決定、物質の同定に用います。 　装置仕様 スペクトル範囲 7,800～350cm-1（アタッチメントにより異なる） 分解能 最高0.25cm-1 SN比 最大60000:1 アタッチメント 拡散反射測定用、多重反射ATR用、1回反射ATR用

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MALLS付 GPC-多角度光散乱検出器システム（高性能GPC専用システム）

メーカー名： Shodex 形式： GPC101 使用目的： 高分子の絶対分子量分布の決定に用います。

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レーザーゼータ電位計

メーカー名： 大塚電子 形式： ELSZ-1000Z 使用目的： 粒子の分散安定性を評価できます。 　装置仕様 測定原理 電気泳動光散乱法（レーザードップラー法） サンプル容量 0.7mL～（標準セル）、130uL～（微量ディスポセル） 対応濃度範囲 0.001%～

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レーザー回折式粒度分布測定装置

メーカー名： 島津製作所 形式： SALD-2100 使用目的： 粒度分布は粉粒体独特の特性であり、粉粒体の挙動や性質を決める重要な物性の一つです。そのため、粉粒体を扱う場合、必ず測定する必要があるのが粒度分布です。 　装置仕様 測定範囲 0.03μm～1000μm 光源 半導体レーザ（波長680nm) その他 バッチセルまたはフローセルによる湿式測定が可能です。乾式測定には対応しておりません。

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円偏光二色性分光計

メーカー名： 日本分光 形式： J-725型 使用目的： タンパク質、ペプチドの二次構造測定、有機高分子のキラリティーの確認を行えます。 　装置仕様 測定波長範囲 165～1100nm 測定レンジ 0～5Abs

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強度物性測定器

メーカー名： 英弘 形式： TA-XT2i 使用目的： 触感・テクスチャーを測定します。 　装置仕様 テストベッド 寸法 280ｍｍ x 395mm テストベッド 高さ 660mm キーボード寸法 220mm x 433mm 支点間距離 最大:60mm

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動的光散乱（ダイナミック光散乱光度計）

メーカー名： 大塚電子 形式： DLS-8000HAL 使用目的： 粒子の粒径を測定します。 　装置仕様 粒径測定範囲 1.4nm～7μm 重量平均分子量の測定範囲 300～2×107Ｍw 光源 He-Neレーザー（632.8nm） 固体ブルーレーザー（488nm）

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スプレードライヤー

メーカー名： BUCHI 形式： B-290 使用目的： 溶液や懸濁液のような試料を噴霧・液滴化し、熱風を接触させて瞬間的に乾燥することによって粉体を作製・回収する装置です。 　装置仕様 ヒータ 2300W スプレーガス 圧縮空気または窒素　200-１000L/h、5-8bar 最大風量 35m3/h 流量 1.0L/h ノズル直径 0.7mm 平均試験時間 1.0～1.5秒

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プラズマ処理装置

メーカー名： ヤマト科学 形式： PDC200 使用目的： プラズマを使用した表面処理装置です。有機膜、金属酸化膜の除去やプリント基板のドライクリーニングに使用できます。 　装置仕様 プラズマモード RIE 電極構造 平行平板 高周波出力 100～300W 発信周波数 13.56MHz チャンバー材質 アルミ製 反応ガス 酸素 パージガス 窒素または空気

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LC-MS/MS(LXQ)

メーカー名： AMR 形式： ZAPLOUS LC/MSシステム 使用目的： 主に混合タンパク質の酵素消化物やペプチド混合物を対象に質量を測定しタンパク質・ペプチドの同定を行います。さらに二群の混合タンパク質を化学的にラベル化するなどして二群間の各タンパク質を比較定量することもできます。また、タンデム質量分析により、リン酸化などの修飾タンパク質について修飾部位の決定や、糖質の糖鎖結合位置決定など、各種生体高分子の構造解析についても行えます。

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LC-MS/MS (Q-Exactive)

メーカー名： AMR 形式： Zaprous ADV Q-Exactive system 使用目的： 高分解能・精密質量測定が可能なLC-MS/MS 　装置仕様 質量分析装置 サーモ製Q-Exactive　四重極Orbitrap方式 LC ブルカーマイクロム 製ADVANCE UHPLC タンパク質同定用ソフトウェア MASCOT その他 タンパク質同定用データベース毎週更新 ロボットアームによるサンプル自動計測

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GPC

メーカー名： 東ソー 形式： HLC-8220GPC 使用目的： サイズ排除クロマトグラフィーの一種であるゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)を行なうための装置です。 　装置仕様 送液モード パラレル送液 流量設定範囲 1～2,000μl/min 試料注入量 1～1,500μl 温調範囲 室温+10℃～100℃、温度正確さ:±0.5℃ 検出器光源 タングステンランプ ダイナミック レンジ 5×10-4RIU

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ダブルビーム分光光度計

メーカー名： 日立ハイテク 形式： U-2900 使用目的： 化合物の吸収スペクトル解析、種々の化合物溶液の吸光度測定、DNA、RNA、タンパク質など生体分子の溶液の濃度測定などに用います。 　装置仕様 波長範囲 190～1100nm スペクトル バンド幅 1.5nm

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分光蛍光光度計（低温測定付属）

メーカー名： 日立ハイテク 形式： F-7000 使用目的： 蛍光材料の蛍光特性の解析、タンパク質など生体分子の相互作用解析などに用います。 　装置仕様 感度 水のラマン光S/N800以上,、S/N250以上 励起波長 350nm 測定波長範囲 200～750nm

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リサイクル分取GPC

メーカー名： 日本分析工業株式会社 形式： LC-9201 使用目的： 合成化合物の分析、精製分離に用います。 　装置仕様 最大流量 9.9ｍｌ/mL

接触角測定装置

メーカー名： AST PRODUCTS 形式： VCA Optima-XE 使用目的： 液面の接触角を測定する 　装置仕様 機能 静的接触角と動的接触角(経時変化）測定 表面清浄性，濡れの検査 表面処理，コーティング 接着性 ボンディング品質の評価 表面自由エネルギー分析 表面張力測定

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NMR

メーカー名： JEOL 形式： ECS-400（溶液サンプル用） 使用目的： 核磁気共鳴スペクトルを測定し、分子の構造を決定します。 　装置仕様 1H周波数 400MHz プローブ 多核種対応 磁場ドリフト ロック時0.1Ｈｚ／時以下

高温電気炉

メーカー名： ADVANTEC 形式： FUH632DA 使用目的： 金属・セラミックスなどの焼鈍、焼成など。

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	有機・高分子材料創製エリア

真空嫌気型グローブボックス

メーカー名： MBRAWN 形式： Unilab 使用目的： 嫌気条件下での化学反応の実施に用います。

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NIMS分子・物質合成プラットフォーム事務局 〒305-0047　茨城県つくば市千現1-2-1 TEL：029-859-2399