主任研究者の藤田 大介 博士らが、第18回国際真空会議において最優秀ポスター賞を受賞しました。評価対象となった講演タイトルは、”High Temperature in situ AFM/STM observation of decomposition and cleaning process of ultrathin SiO2 films on Si(111) surfaces in ultrahigh vacuum”です。