負イオン照射やイオン・レーザー複合照射によるナノ粒子生成制御. (a)イオンのみの照射 (b)イオン照射のあとにレーザー順次照射 (c)イオンとレーザーの同時照射．
イオン照射のみでは全く生成しないイオン線量（過飽和条件）に対して、レーザー順次照射ではわずかに析出するのみですが、イオンとレーザーを同時照射するときに限って、ナノ粒子析出効果が顕著に起きます． この現象は、イオンによる照射欠陥に選択的にフォトンが吸収されるために起きます． イオンとレーザーが同時で、かつレーザー強度がしきい値以上のときのみに起きることから、レーザー描画によりナノ粒子の空間分布を制御することができます．

原子ビームリソグラフィーで加工したSi（111）基板の原子間力顕微鏡像．