●登録
(国内特許)
発明の名称:
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酸化物超伝導薄膜の製造方法 |
登録日:
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平成13年5月18日 |
登録番号:
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特許第3188912号 |
発明者氏名:
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石井 明、羽多野毅、中村恵吉 |
概要:
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本発明によるビスマス系薄膜等は膜の分解温度よりも充分低い温度で成膜・熱処理を施しており、表面の平滑性を保ったまま、高い超伝導特性を示すことから磁気センサーやマイクロ波応用デバイスなどへの広範なエレクトロニクス分野に応用できる。 |
発明の名称:
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結晶成長観察装置 |
登録日:
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平成13年5月18日 |
登録番号:
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特許第3188913号 |
発明者氏名:
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塚本史郎、小口信行 |
概要:
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本発明により、MBE装置とSTMを完全一体させることにより、従来困難とされてきた原子レベルでの結晶成長実空間観察が可能となり、量子ナノ構造の品質向上のみならず、結晶成長のメカニズム等の解明に大きく貢献することが可能となる。 |
発明の名称:
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ホウ炭化スカンジウム及びその製造方法 |
登録日:
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平成13年5月18日 |
登録番号:
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特許第3188914号 |
発明者氏名:
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田中高穂、イン シ、ライトジャスパー アンドレアス |
概要:
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本発明は、新規なホウ炭化スカンジウムを創出し、その製造方法を提供するものであり、分光素子材料や熱電素子材料として従来公知のYB66軟X線分光素子材料に代替できる優れた新規材料を提供することができる。 |
発明の名称:
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トンネル電流微細加工法 |
登録日:
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平成13年6月29日 |
登録番号:
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特許第2141491号 |
発明者氏名:
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升田博之、長島伸夫、松岡三郎 |
概要:
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本発明の方法により、溶液中でトンネル状態にある非常に限定されたナノメーターオーダーの微細領域の加工が被加工物基体に低エネルギーでひずみを与えることなく、高速かつ速度をコントロールしながら可能となり、また、真空中やガス環境中に較べ、水溶液中等で材料をイオン化することがきわめて容易であり、低コストで種々の材料の微細加工が実現できると期待される。 |
発明の名称:
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ニオブ酸リチウム単結晶と光機能素子 |
登録日:
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平成13年7月27日 |
登録番号:
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特許第3213907号 |
発明者氏名:
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北村健二、古川保典、(ベンカトラマン ゴパラン 他1名)(ロスアラモス研究所との共有特許権) |
概要:
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本発明によれば、分極を反転するために必要とする印加電圧が10kV/mm以下と小さいことで精度よく周期的な分極反転を形成することが可能なニオブ酸リチウム単結晶、およびそれを用いた光機能素子を提供することができる。これを利用することにより、本発明は、レーザー光を利用した光情報処理、光加工技術、光化学反応技術、光計測制御等の分野での光応用技術に広く活用され得る。 |
●登録
(外国特許)
発明の名称:
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パルス励起原子線とパルス紫外光の生成方法およびその装置 |
登録日:
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平成13年3月27日 |
登録番号:
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特許第6207951号 |
登録国:
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アメリカ合衆国 |
発明者氏名:
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山内 泰、倉橋光紀、岸本直樹 |
概要:
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本発明により、機械式チョッパーを組み込む必要がなく、パルス励起原子線やパルス紫外光を得ることができる。すなわち、表面科学を対象とする計測や材料の創製等の分野において有用であり、例えば、物質表面や表面内部数層の電子状態を調べるためのプローブとして、また、表面化学反応により、物質表面の汚染物質の除去や表面への積層化合物の創製において好適に使用できるパルス化された励起原子線と紫外光とを高強度で生成させることができる。 |
発明の名称:
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ビスマス2212超伝導線材の製造方法 |
登録日:
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平成13年6月5日 |
登録番号:
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特許第6240620号 |
登録国:
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アメリカ合衆国 |
発明者氏名:
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北口 仁、ミャオ・ハンピング、熊倉浩明、戸叶一正 |
概要:
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本発明は高温酸化物超伝導線材の臨界電流特性の改善に関するものであり、ビスマス2212系酸化物超伝導体と金属基体からなる複合線材の作成プロセスにおいて、最終熱処理(溶融凝固熱処理)前に予備焼成と冷間加工を行うことにより臨界電流密度を向上させるものである。本発明の線材は各種超伝導マグネット、超伝導ケーブル、磁気遮蔽体などの超伝導機器に使用可能である。 |
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