終了いたしました。ご来場ありがとうございました。
開催日程と開催場所
- 日程：2009年2月3日（火）、4日（水）
場所：機械振興会館（東京都港区芝公園３−５−８）
機械振興会館ホームページ
・東京メトロ日比谷線神谷町駅下車 徒歩8分
・都営地下鉄三田線御成門駅下車 徒歩8分
・都営地下鉄大江戸線赤羽橋駅下車 徒歩10分
・都営地下鉄浅草線・大江戸線大門駅下車 徒歩10分
・JR浜松町駅下車 徒歩15分
参加料
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無料
但し、懇親会は５０００円
参加申し込み・お問い合わせ
- ＜申込方法＞下記のいずれかの方法でお申し込みください。
▼参加申し込みフォーム →コチラ
▼e-mail：ancc(アットマーク)nims.go.jp
（氏名、所属、TEL、e-mailを明記してください）
---お問い合わせ先---
（独）物質・材料研究機構ナノ計測センター先端表面化学分析グループ 木村 隆
TEL 029-859-2726 Fax 029-859-2701
e-mail：KIMURA.Takashi(アットマーク)nims.go.jp
プログラム
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２月３日（火）
| 10:00-10:10 | 開会の挨拶 藤田大介（ナノ計測センター長） |
| 招待講演 | |
| 10:10-11:00 | 「COMPROを利用した薄膜構造解析」 吉原一紘（アルバックファイ株式会社） |
| 11:00-11:50 | 「電子分光スペクトルのバックグラウンド解析」 城 昌利（産業技術総合研究所） |
| 11:50-13:00 | 昼休み |
| 13:00-13:50 | 「電子輸送シミュレータを用いた電子・X線スペクトルの定量的考察」 永富隆清(大阪大学) |
| 13:50-14:40 | 「ToF-SIMS質量較正精度のばらつきの現状」 阿部芳巳（三菱化学科学技術研究センター） |
| 14:40-15:00 | 休憩 |
| 15:00-15:50 | 「磁性薄膜材料解析の現状と将来」 柳内克昭（TDK株式会社） |
| 15:50-16:40 | 「高分解能RBSを援用したXPSによる高精度深さ方向分析」 木村健二（京都大学工学研究科マイクロエンジニアリング専攻） |
| 17:00-19:00 | 懇親会 |
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２月４日（水）
| 招待講演 | |
| 10:00-10:50 | 「ラウンドロビン評価によるXPSスペクトルにおけるピーク検出効率の検討」 鈴木峰晴 （アルバックファイ株式会社） |
| 10:50-11:40 | 「SOMによるデータ処理」 大藪又茂（金沢工業大学） |
| 11:40-12:30 | 「Monte Carloシミュレーションによるナノ材料の二次電子像解釈」 鈴木 誠（（株）日立ハイテクノロジーズ） |
| 12:30-13:40 | 昼休み |
| 一般講演 | |
| 13:40-14:05 | 「CuOおよびSiO2のEDDFの第一原理計算」 篠塚寛志 (物質・材料研究機構) |
| 14:05-14:30 | 「Analysis of loss components for reflection electron energy loss spectra of Si」 金 華(物質・材料研究機構) |
| 14:30-14:55 | 「Ｘ線管高エネルギーＸＰＳにおけるデータ処理」 福島 整 (物質・材料研究機構) |
| 14:55-15:15 | 休憩 |
| 15:15-15:40 | 「EPMAにおける相関分析の展開」 木村 隆 (物質・材料研究機構) |
| 15:40-16:05 | 「非対称パラメータの理論と実際」 吉川英樹 (物質・材料研究機構) |
| 16:05-16:30 | 「Electron Transport Simurationの開発」 田沼繁夫(物質・材料研究機構) |
| 16:30-16:40 | 閉会の挨拶 田沼繁夫(物質・材料研究機構) |