|
はじめに
機能素子の細密化、高速化は、ナノテクノロジーの大きなテーマですが、大量生産に適したリソグラフィー技術では、従来の紫外光、X線や電子線が抱える回折限界や透過性、後方散乱等の原理的限界のブレークスルーが求められています。また、情報の担体を従来の電荷に頼るのには限界があり、スピンで情報を伝達することが提唱されています。これに対し、当グループでは、最もソフトな量子ビームの一つである、準安定原子(He(23S))によって極薄レジスト膜を露光してパターン転写を行う技術開発やその素過程である最表面の脱離現象の研究を進めています。また、準安定原子の電子スピンを偏極、あるいはさらに電離(He+)させることによって、最表面の電子スピンを計測し、表面磁性や誘起スピンに関する研究を行っています。
|