メインコンテンツへ移動
国立研究開発法人
物質・材料研究機構
文字サイズ
縮小
拡大
アクセス
お問い合わせ
NIMS概要
NIMS概要 トップ
組織・事業に関すること
法人概要
理事長挨拶
組織
事業・活動
沿革
事業所・拠点
人に関すること
役員
NIMSフェロー
研究者
(別ウィンドウで開きます)
名誉役員
運営に関すること
情報公開
個人情報保護
公正な研究活動の推進
男女共同参画活動
NIMS Alumni Network
(別ウィンドウで開きます)
調達情報
ニュース・広報
ニュース・広報 トップ
ニュース・プレス
ニュース
プレスリリース
新着論文紹介
受賞情報
お知らせ
広報
広報誌 NIMS NOW
NIMSの刊行物
メールマガジン
ムービーライブラリ
イベント・セミナー
名義の使用許可依頼について
NIMSのFAQ
研究
研究 トップ
NIMSの研究内容に関すること
研究成果(プレスリリース)
代表的な研究成果
主要な装置と施設
公募型研究事業への参加
研究体制に関すること
研究センター / 研究系部門
研究組織一覧
研究者情報(SAMURAI)
(別ウィンドウで開きます)
研究データに関すること
研究データベース
ファンディング事業に関すること
戦略的イノベーション創造プログラム(SIP)
共用設備・技術
共用設備・技術 トップ
設備の整備と基盤技術開発に関すること
共用設備の利用
物質・材料研究のハブ機能に関すること
中核的ハブ拠点
事故等調査
物質・材料の知的基盤に関すること
科学情報発信
図書館利用案内
企業 / 大学連携
企業 / 大学連携 トップ
企業連携に関すること
大学・大学院・人材育成に関すること
学術連携に関すること
NIMSベンチャー企業情報
寄付金等の受付
採用情報
採用情報 トップ
定年制職員の募集
任期制職員の募集
特別公募
障害者雇用
職員からのメッセージ
NIMSで研究する魅力
若手研究者雇用支援事業
サイト内検索
サイト内検索
検索
イベント・セミナー
2016年
ホーム
>
広報活動
>
イベント・セミナー
>
2016年
> 第76回先端計測オープンセミナー
第76回先端計測オープンセミナー
開催日: 2016.04.18
終了
日時
2016年4月18日 (月) 10 : 30~11 : 30
場所
国立研究開発法人 物質・材料研究機構 千現地区 研究本館管理棟 1階 第2会議室
交通案内 →
こちら
参加方法及びお問合わせ
事前登録は必要ありません。
当日会場で受付いたします。
お問い合わせは、右記事務局までご連絡ください。
講演者
Chris Park (Carl Zeiss Microscopy GmbH)
講演要旨
Pushing Research Frontiers with Helium and Neon Ion Microscopy & Nanofabrication
Combining a high brightness Gas Field Ion Source (GFIS) with unique sample interaction dynamics, helium and neon ion microscopy provide nanomachining capabilities in the sub-10 nm regime and offer new and complementary insights into the structure and function of nanomaterials. Besides imaging, the helium ion beam can be used for fabricating nanostructures at the sub-10nm length scale. The neon probe size is greater than helium and is measured between 1-2nm. The sputter yield of Ne is about 30X higher than He, and the Ne beam has a shallower penetration depth resulting in lower sub-surface damage. Inert by nature and with a moderate sputtering rate, the neon ion beam presents an attractive alternative to Ga+ FIB for use in applications sensitive to Ga+ implantation and structural damage. In addition to Helium and Neon beams, the Orion NanoFab multi-ion beam platform comes with the option of a state-of-the-art Ga FIB for a versatile nanomachining workstation.
Helium and neon ion microscopy is moving to the forefront as a technology for maskless nanopatterning of 2D materials such as graphene. The helium ion beam has smaller interaction volume and higher surface sensitivity than an FESEM, and is an ideal tool for visualizing single layer sheets. In addition, the helium ion beam provides unparalleled precision for direct-write nanolithography due to a sub-nanometer spot size, minimal surface scattering, and low proximity effects. This talk will focus on application examples of how helium and neon ion beams are being used to push the boundaries of materials engineering research.
2016年一覧に戻る
関連ファイル・リンク
先端材料解析研究拠点
(旧)先端材料計測技術の開発と応用プロジェクトホームページ
イベント・セミナーデータ
イベント・セミナー名
第76回先端計測オープンセミナー
会場
国立研究開発法人 物質・材料研究機構 千現地区 研究本館管理棟 1階 第2会議室
開催日: 時間
2016.04.18
10:30-11:30
参加料
無料
お問合わせ
国立研究開発法人 物質・材料研究機構 先端材料解析研究拠点
Tel:029-851-3354 内線3861
Fax:029-859-2801
E-Mail: amc=ml.nims.go.jp
([ = ] を [ @ ] にしてください)
2024.04
Sun
Mon
Tue
Wed
Thu
Fri
Sat
1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
♣
20
21
22
23
24
25
26
27
28
29
30
このページの先頭へ