表面物性計測グループ

物質の物性や新規材料の機能の多くは、多様な環境場下において、表面/界面もしくは表面表層近傍において発現されます。また、材料の創製プロセスにおいては、超高真空やガス雰囲気場、分子線照射場、プラズマや光照射場、電気バイアス印加などの多様な環境場が用いられ、ナノ物体の創製や薄膜の成長に利用される吸着、酸化、還元、エッチングなどの化学プロセスは表界面から表面近傍層において反応が進行します。このように材料の諸特性のキーとなる表面/界面とその近傍層を根源的に理解するための高度な表面敏感計測技術が必要とされています。当グループでは、表界面における構造、状態、物性、機能、反応などを根源的に理解するための極限的な表面敏感計測法の開発を進めています。例えば、低次元ナノ物体の構造と機能を明らかにするために、制御環境場と組み合わせた表面敏感多機能ナノプローブ計測法を開発しています。また、表面スピン状態の解明や状態制御分子されたと表面との反応解析のために、スピン偏極準安定ヘリウムビームや配向分子線技術の開発を進めています。ナノスケール観察とナノ創製加工のためには、高分解能ヘリウムイオン顕微鏡法の開発を推進しています。さらに、グリーンデバイス・材料の表面・界面における構造や機能を明らかにするために、オペランド表面ナノスケール解析技術の開発を進めています。これらの新規表面敏感計測手法を先進材料の研究開発に積極的に展開しています。

専門分野・研究対象

表面の構造、物性、機能の先端計測技術の開発と物質・材料への応用展開

・制御された極限場における原子分解能プローブ顕微鏡法の開発と応用
・表面ナノ物体キャラクタリゼーションのための高分解能原子間力顕微鏡法の開発と応用
・スピン偏極準安定ヘリウムビームによる最表面スピン状態計測法の開発と応用
・状態と配向を制御した分子線の創製技術の開発と表面反応ダイナミクスへの応用
・グリーン/エネルギーデバイスの界面過程解明に資するオペランド表面ナノ計測技術の開発と応用
・ナノスケールイメージングとナノ加工のための高分解能ヘリウムイオン顕微鏡法の開発と応用


お問い合わせ先

表面物性計測グループ
〒305-0047 茨城県つくば市千現1-2-1
E-Mail: amc=ml.nims.go.jp([ = ] を [ @ ] にしてください)
国立研究開発法人物質・材料研究機構
〒305-0047 茨城県つくば市千現1-2-1
TEL.029-859-2000 (代表)
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