- 名称
- NIMSイブニングセミナー2009後期 (14) 「水溶液法を利用した透明焼結体の製造」
- 開催日
- 2010/01/08 (金)17:00~19:00
- 会場
- 独立行政法人物質・材料研究機構 東京会議室
東京都港区虎ノ門3-2-2 虎ノ門30森ビル2F 201号室
TEL. 03-5408-5690 (代) / FAX. 03-5408-5695 - 主催
- 独立行政法人物質・材料研究機構
- 共催
- 知の市場
- 協賛
- 財団法人総合工学振興会
NIMSイブニングセミナー2009後期 (14) 「水溶液法を利用した透明焼結体の製造」
「物質材料特論1b:物質・材料基盤技術とナノ材料の科学と展開2」
開催日 2010/01/08 (金)
概要
講義内容
| 科目構成 |
「水溶液法を利用した透明焼結体の製造」気孔のないセラミックスの製造
白色の立方晶セラミックスは、焼結で気孔を完全に取り除くと透明になる。透明焼結体は今後更に重要性が増すと考えられるレーザ材料や光シャッター材料、高輝度発光管等への応用が期待されている。経済的で環境フレンドリーである水溶液法をセラミックス粉末の前駆体合成に活用し、常圧焼結で気孔を完全に除去した種々の透明酸化物焼結体製造法を紹介する。母塩の種類とその製造条件の適切な選択、陰イオン系添加物利用が透明化のためのキー技術といえる。 |
|---|
次回内容
| 講義日 |
2010年1月15日(金)17:00~19:00 |
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| 科目構成 |
「ナノフォトニクスの基礎と応用」ナノフォトニクスの基礎と応用
ナノ構造の故に新たな光現象・光制御技術が期待されるナノフォトニクス(量子ドット・フォトニック結晶・表面プラズモン・負の屈折率材料など)の基礎と応用について解説する。 |
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