独立行政法人 物質・材料研究機構
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ナノ集積
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  グループ紹介
 
ナノ集積ライン統括マネージャーご挨拶
統括マネージャー 小出康夫
統括マネージャー
小出康夫
ナノ集積ラインでは、全国の独法・大学・企業のナノテクノロジー研究者に対して、最先端のナノテクノロジー「超微細加工」に関する施設、設備、および高度な技術支援を提供し、イノベーションにつながる研究成果の創出を目指すことを目的としています。

ナノ集積ラインは、プロセス評価エリア、成膜エリア、ドライエッチングエリア、熱処理エリア、塗布・現像エリア、露光エリア、および描画エリアの7つのエリアから構成された450m2のクリーンルームを主要施設として平成19年度に設置されました。
本ラインには世界最高水準の微細プロセッシング・ナノスケール観察・測定評価設備が完備されており、専門家スタッフの技術支援の基に、半導体材料、酸化物材料、誘電体材料、磁性材料、金属材料、複合材料等様々な材料のナノからマイクロスケール、更にはミリスケールにわたる3次元的な微細加工の支援を行います。

更に、ナノ集積ラインはソフトマテリアルラインとも連携することにより、自然科学から生命科学にわたる学際的融合研究や独法・大学・企業間の共同研究を積極的に促進します。異なる分野の研究者間あるいは独法・大学・企業の研究者間の積極的な交流を通して、新しい視点、思わぬ発見、更にはイノベーションにつながる場となることを期待しています。
 
施設紹介
成膜エリア(クラス1000)
ドライエッチングエリア(クラス1000)
成膜エリア(クラス1000)
 
ドライエッチングエリア(クラス1000)
プロセス評価エリア(クラス10000)
 
イエロールーム(クラス100)
プロセス評価エリア(クラス10000)
 
イエロールーム(クラス100)
クリーンルーム概要
総床面積約450m2 (メンテナンスエリア含む)のダウンフロー方式クリーンルーム
プロセス工程に合わせた洗浄度クラス、エリア分け
 
クラス100 (110m2) : 描画エリア,露光エリア,塗布・現像エリア
クラス1000 (200m2) : 成膜エリア,熱処理エリア,ドライエッチングエリア
クラス10000 (80m2) : プロセス評価エリア
30台の最先端微細加工プロセス装置を配備
 
シリコン、化合物半導体、酸化物、磁性材料など様々な材料に適応可能
   
一般実験室概要
切削・研磨用プロセス装置を配備
電気伝導特性評価装置を配備
   
メンバー紹介
職員
統括マネージャー
小出 康夫
Yasuo KOIDE, Dr.
主席研究員
杉本 喜正
Yoshimasa SUGIMOTO, Dr.
主任エンジニア
池田 直樹
Naoki IKEDA, Dr.
主任エンジニア
津谷 大樹
Daiju TSUYA, Dr.
任期制職員
NIMSポスドク研究員
渡辺 英一郎
EiichiroWATANABE, Dr.
NIMS特別研究員
中島 清美
Kiyomi NAKAJIMA
研究業務員
落合 雅幸
Masayuki OCHIAI
研究業務員
大里 啓孝
Hirotaka OOSATO
研究業務員
研究業務員
瓜阪 悦子
Etsuko URISAKA
派遣職員
浜田 修史
Shushi HAMADA
派遣職員
谷川 俊太郎
Shuntaro TANIGAWA
 
 
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