MANAファウンドリは、 文部科学省WPIプログラム(世界トップレベル研究拠点プログラム)の 「国際ナノアーキテクトニクス研究拠点(MANA)」のファシリティーとして2009年4月よりスタートしました。
MANAファウンドリでは、多種に亘る分野で研究している世界中から集まった多国籍の研究者達のために、可能な限り多種多様な物質・材料を取り扱うことが可能な研究設備とファウンドリ技術者による細やかな技術支援を提供することを目的としています。
MANAファウンドリは、描画・フォトリソエリア、ウェットプロセスエリア、エッチングエリア、成膜エリア、ナノ計測エリア、ナノ解析エリア熱処理エリアおよび
切削・配線エリアの8エリアから構成された235m2のクリーンルーム設備を有しています。有機材料、無機材料、金属材料、半導体材料、磁性材料、超伝導材料および複合材料等の多種類の材料とそれらのナノドット、ナノワイヤーおよびナノシート等の多様な構造への電子線描画によるナノギャップ電極パターン形成等の微細加工を含めて、試料の作製から構造観察及び特性評価までの一貫プロセスを提供できます。
MANAファウンドリは、これまでに得た経験や知識を基に提供した技術支援が、ナノレベルでの革新的な材料創製に貢献できることを期待しております。
 
       
  最小ギャップ幅30nmの異種材料電極   ナノワイヤへの精密電極形成   シリコン単結晶の異方性
エッチングによる逆ピラミッドと溝構造
  2層レジスト法によるリフトオフプロセス
 
       
  電子線描画によるライン&スペース構造   ドライエッチングによる升目周期構造   微細構造表面でのナノロッド結晶の成長   ドーム型シリコンの周期構造
 
       
  集束イオンビーム加工装置でシリコン基板から切り出したマイクロサンプル
  集束イオンビーム加工装置によるカンチレバーの作製   集束イオンビーム加工装置による厚さ200nmの円盤   集束イオンビーム加工装置で加工した底面の厚さ200nmの「ナノサイズ植木鉢」