NIMS微細加工プラットフォーム
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組織概要

 

NIMS微細加工プラットフォームの概要

 NIMS微細加工プラットフォームは,最先端微細加工プロセッシング装置およびナノスケール観察・測定評価装置が完備された450m2のクリーンルームを中心に微細加工を担う共用施設として4年間運用されてきました。ナノネット事業においては,電子材料・素子,光学材料・素子,ナノ・マイクロ構造作製,環境・エネルギー,および医工連携・バイオ工学などの多様な分野への研究支援を実施してきました。NIMS微細加工プラットフォームにおいても,半導体材料,酸化物材料,誘電体材料,磁性材料,金属材料,有機材料,生体材料,および複合材料等,様々な材料のナノからマイクロスケール,更にはミリスケールにわたる3次元的な微細加工や電子・光学素子の作製を支援いたします。自然科学から生命科学にわたる学際的融合研究や産学官連携の共同研究,技術代行,技術補助,技術相談および機器利用を積極的に推進します。

NIMS微細加工プラットフォームの特徴

千現地区 材料信頼性実験棟
30台以上の微細加工・評価・計測装置群をアンダーワンルーフに集約
多種多様な材料加工に対応可能な微細加工装置を整備
専門的な知識,経験を有した専任の支援スタッフよる充実した研究・技術サポート環境
アンダーワンルーフで併設されているNIMS分子・物質合成PF,NIMS微細構造解析PF(一部)との横断的融合研究が実施可能な環境

スタッフ一覧

微細加工PF長 小出 康夫,KOIDE Yasuo, Ph.D.
職員 杉本 喜正,SUGIMOTO Yoshimasa, Ph.D. 池田 直樹,IKEDA Naoki, Ph.D.
津谷 大樹,TSUYA Daiju, Ph.D.  
支援員 渡辺 英一郎,WATANABE Eiichiro, Ph.D. ・・・デバイスプロセス全般、リソグラフィー、電気計測、等
大里 啓孝,OSATO Hirotaka ・・・リソグラフィー、薄膜形成、ドライエッチング、等
谷川 俊太郎,TANIGAWA Shuntaro ・・・マスクレス露光、薄膜形成、ドライエッチング、等
中島 清美,NAKAJIMA Kiyomi ・・・FIB-SEM装置によるTEM試料作製・直接加工、等
※各支援員の詳細な保有技術はこちらを参照ください

NIMS微細加工プラットフォームの沿革

2007年4月 ナノテクノロジー融合センター ナノ集積ラインとして文部科学省「ナノテクノロジー・ネットワーク事業」に参画
2007年12月 千現地区材料信頼性実験棟1階にクリーンルーム(450m2)を新設
クリーンルーム
2008年3月 半導体微細加工装置群(30台以上)を新規整備
半導体微細加工装置群
2008年4月 ナノネット事業における研究支援開始
2012年3月 ナノネット事業終了
2012年7月 文部科学省「ナノテクノロジープラットフォーム事業」微細加工プラットフォームの実施機関として参画

 


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【各種問合せ】
NIMS微細加工プラットフォーム事務局
〒305-0047  茨城県つくば市千現1−2−1
TEL:029-859-2797
FAX:029-859-2309
Email:NIF-office@nims.go.jp