研究テーマ概要

研究専攻課題について

このプログラムでは、次世代・全光超高速通信に適合する非線形光学材料の研究及びデバイス基礎構造の実現に向けての課題を解決することを主目的としています。また量子サイズ効果による半導体の光学的性質についても、イオン注入法の特色を生かすという観点から取り組むこととしています。これらの研究に実際に参画することを通じて、物質工学の専門家として必要な資質、すなわち、研究開発の起承転結を行う能力を体得して頂きます。

研究テーマは：
絶縁体中の金属ナノ粒子構造のイオン注入法による生成・制御
イオン注入下での速度論的析出過程のその場計測・評価
ポンププローブ法による超高速非線形光学特性の計測・評価
高エネルギー複合照射による材料の創製及び その非平衡材料物性
超高速光スイッチングのデバイス化の基礎技術
イオン注入による半導体ナノ粒子の量子サイズ効果
イオン・フォトン複合照射によるナノ粒子構造の生成・制御
ナノ粒子生成の速度論的モデリング及び光学デバイス設計

対象となる材料は：
金属イオン: Cu, Au, Ni, etc.
非金属イオン: Si, C
基板材料: SiO2, LiNbO3, MgAl2O4, TiO2, MgO, Al2O3等が候補となります。

これらの項目を組み合わせて、面白い物理が得られそうな具体的な専攻テーマを決定することになります。

見学及び相談等は歓迎致しますので、e-メイルで ご連絡下さい。
応募に際しての詳細は下記にご連絡ください。

〒305-0003 つくば市桜 3-13
物質・材料研究機構量子ビームセンターイオンビームグループ　武田良彦
Tel： 029-863-5476, Fax： 029-863-5571 TAKEDA.Yoshihikonims.go.jp