施設紹介   装置紹介

装置紹介　蓄電池基盤プラットフォーム

装置番号：A1　装置名：スーパードライルーム 501室

メーカー名： 新菱冷熱工業 型式： 特型 用途： 小型電池試作、電池特性評価、プロセス評価、光学分析など 概要： 給気露点-90℃以下（水分量0.1 ppm以下）を保証する世界最高レベルのドライルーム。次世代蓄電池の試作や非水環境での各種測定を行うことができる。 　装置仕様   床面積 80m2 給気露点 -90℃以下（水分量0.1 ppm以下） 定員 5名（5名入室時の室内露点-40℃以下） 設置装置 小型電池試作装置、ガス透過率測定装置、粘度計、TG/MS、FTIR、レーザーラマン顕微鏡、高速分光エリプソメータ、コンパクトSEM、レーザー顕微鏡 　使用上の注意   ・ 低露点環境維持のため、5名定員で使用をお願いしています。

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装置番号：A2　装置名：小型電池試作装置群 501室、503室、504室

501室 真空乾燥機 メーカー ヤマト科学 用途 真空乾燥 超音波溶接機 メーカー Branson 用途 電池の集電体とタブを溶接 電解液注液ブース メーカー ヤマト科学 用途 電解液の注液 真空シーラー メーカー 宝泉 用途 電池作製のシーリング カシメ機 メーカー 宝泉 用途 コインサイズ(2032用）の電池を封口 ロールプレス メーカー イーガー 用途 電極の調厚及び活物質の高密度化 自動塗工機 メーカー イーガー 用途 電池用電極触媒ペーストをカーボンペーパーや金属箔等に塗布 503室 ミキサー メーカー シンキー 用途 活物質と結着剤、溶剤を均一に分散・混合 乾燥機 メーカー ヤマト科学 用途 乾燥 504室 グローブボックス メーカー VAC 用途 電池の組み立てや解体（Ar雰囲気/露点-75℃以下）

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装置番号：A3　装置名：FTIR（フーリエ変換赤外分光装置） 501室

メーカー名： Thermo　Scientific 型式： Nicolet iS50 用途： 物質の分子構造や未知試料の定性・定量分析 概要： 物質に赤外光を照射し、分子の赤外線吸収を測定することで分子構造の情報を得ることができる装置。波数分解能は0.09cm-1。130スペクトル/secの高速スキャンが可能。赤外顕微鏡およびFT-ラマンを有する。 　装置仕様   波長分解能 0.09cm-1 測定波数範囲 200～12500cm-1 S/N比 5000：1以上 光源 ・高輝度セラミック光源（9600～20cm-1） ・タングステン-ハロゲン光源（27000～2800cm-1） 検出器 ・CsI窓室温型検出器（6400～200cm-1） ・DlaTGS/KBｒ窓検出器（12500～350cm-1） ビームスプリッタ CsI（6400～200cm-1）/CaF2（13500～1200cm-1） 波数精度 2000cm-1付近で0.01cm-1程度

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装置番号：A4　装置名：レーザーラマン顕微鏡 501室

メーカー名： Nanophoton 型式： RamanTouch-VIS-NIR 用途： 化学結合の種類と質の同定、結晶化の程度、結晶格子の歪みなどの測定 概要： 入射光と異なった波長をもつ光（ラマン散乱光）の性質から物質の分子構造と結晶構造を測定する装置。平面方向で350nmの空間分解能。可視光（488nm,532nm）と近赤外光（785nm）のレーザーを搭載。 　装置仕様   レーザー 488nm,100mW/532nm,500mW/785nm,500mW 測定方式 ・ポイント照明による点分析 ・ライン照明による高速ラマンイメージング XY走査方式 ガルバノメーターミラーによるレーザービーム走査方式 Z走査方式 電動ステージ搭載 電子冷却CCD 400x1340pixel 分光器 焦点距離 500mm 回折格子 300, 600, 1200gr/mm. スリット幅 20,30,50,70,100,200μm 繰り返し精度 0.1cm-1 スペクトル分解能 1.2cm-1@785nm, 1200g/mm 対物レンズ x5,x10,x20,x50,x100

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装置番号：A5　装置名：高速分光エリプソメータ 501室

メーカー名： J.A. WooLLAM 型式： M-2000X 用途： 試料構造、光学定数、バンドギャップ、合金組成、相構造の測定 概要： 光が試料と相互作用することによって起こる偏光の変化を解析することで膜厚や物質の光学定数を測定する装置。回転補償子型エリプソメーター（⊿：0～360°,ψ：0～90°）により精度の良い測定が可能。全波長を同時測定するCCD検出器により高速測定が可能。 　装置仕様   光源 キセノン（Xe）ランプ 光学構成 回転補償子型 波長範囲 210-1000nm, 480波長 入射角 45°～90°

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装置番号：A6　装置名：ガス透過率測定装置 504室

メーカー名： GL Sciences 型式： GTME　2520 用途： フィルムやフィルム素材のガス透過率測定 概要： JIS K 7126-2に準拠した等圧法を採用し、ガスクロマトグラフを用いて混合ガスの測定を行う装置。検出器はTCD,FIDに加え、超高感度検出器PDDの選択が可能。 　装置仕様   検出方法 ガスクロマトグラフ2014シリーズ（島津製作所製） TCD,FID,PDD テストガス 混合、単一ガス キャリアガス 測定ガス及び検出器によりHe,Ar,N2を選択 セル温度 －20℃～80℃ 標準サンプルサイズ φ74mm　最大厚み1mm 透過面積 25cm2　透過径φ56.5mm（標準セル） ガス透過度 0.1～3000cm3/（m2/24h/atm）（単一ガス、PDD時） 300cm3/（m2/24h/atm）～　（単一ガス、TCD時）

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装置番号：A7　装置名：TG/MS（熱重量測定質量分析装置） 501室

メーカー名： TA　Instruments 型式： Discovery 用途： 熱負荷による材料の重量変化と放出されるガス種を同時に測定する。 概要： 熱重量測定装置（TG)に質量分析計（MS)を組み合わせた装置。 　装置仕様   重量測定方法 垂直つりさげ式 温度範囲 室温～1200℃ 昇温速度 0.1～500℃/min.(リニアー),　>2000℃/min.(高速昇温) ファーナス冷却(エア/N2) 1200～35℃,<10min. サンプル重量 750mg ダイナミックレンジ ±100mg 重量正確度 ±0.1% 重量精度 ±0.01% シグナル分解能 0.001μg 感度 <0.1μg 短期ノイズ <0.03μg Baseline Linearity (50-1000℃) <1μg ベースラインドリフト (50～1000℃,20℃/min. 窒素パージ、 ベースライン減算なし) <10μg 分析方法 四重極式質量分析 測定質量範囲 1～300amu 質量分解能 >0.5amu キャピラリー温度 300℃ 感度 100ppb以下 スキャン速度 棒グラフモードで50amu/sec　ピークジャンプモードで64ch/sec 　使用上の注意   ・ 現在、MS(質量分析部)の故障によりTGのみの測定となります。MSの測定再開時期は2019年7月現在未定です。 ・ 測定時に熱を加えるため、有害ガスなどが発生する可能性がある場合には測定できません。

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装置番号：A8　装置名：コンパクトSEM 501室

メーカー名： Agilent 型式： 8500 用途： 試料の表面や構造の観察 概要： ドライルーム内に設置された卓上型FE-SEM。ドライ環境での簡便なSEM観察が可能（分解能10 nm）。加速電圧（0.5kV～2kV）のリアルチューニングにより基本的に導電処理が不要。反射電子検出器も搭載。 　装置仕様   電子銃 ショットキー電界放出形 加速電圧 500～2,000V プローブ電流 0.2～1nA 分解能 ＜10nm（1kV） 倍率 x250～65,000 検出器 SE,BSE,Topo 試料サイズ 100x60mm（max） 試料厚さ 30mm（max） 　使用上の注意   ・ 現在修理中。2019年8月以降、使用可能になる予定です。

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装置番号：A9　装置名：レーザー顕微鏡 501室

メーカー名： KEYENCE 型式： VK-X200 用途： 形状、粗さ状態の観察及び定量分析。３次元表示。 概要： 試料表面をレーザーで走査し、非破壊で高精度な形状・粗さ測定を行う。ピンホール共焦点光学系により焦点位置以外からの反射光を完全に排除し、高精度測定と高解像度観察が可能。高精度3次元測定が可能。 　装置仕様   総合倍率 x200～x24,000 観察・測定用光学系 ピンホールによる共焦点光学系 高さ測定 表示分解能 0.0005μm フレームメモリ ピクセル数 2048x1536,1024x768,1024x64 映像用（モノクロ） 16bit 映像用（カラー） 8bit 高さ測定用 24bit 測定用レーザ光源 波長 バイオレットレーザ 408nm 最大出力 0.95mW 受光素子 PMT（光電子増倍管） 光学観察用 ランプ 100Wハロゲン 光学観察用カラーカメラ 撮像素子 1/3型カラーCCDイメージセンサ 撮影解像度 3072x2304 オート調整 ゲイン、シャッタースピード 　使用上の注意   ・ ドライルーム内にあるため、ドライルームの予約も必要です。

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装置番号：A10　装置名：粘度計 501室

< メーカー名： AntonPaar 型式： Lovis2000ME 用途： 相対粘度、動粘度、粘度の測定 概要： 静止流体中での球の落下時間から測定する落球式粘度計。最大粘度10,000mPa.s、5～100℃の温度範囲に対応。最速30秒で1回の測定実施。 　装置仕様   粘度範囲 0.3～10,000mPa.s 温度範囲 5～100℃ テスト時間 【通常】3分 サンプル量 3.0～5.0ml 傾斜角度 15～80°（1°刻み） せん断速度 0.5～1000s-1（キャピラリーのサイズと傾斜に依存） 　使用上の注意   ・ 装置内部がガラスなので、ガラスを腐食させるような液体の測定はできません。 ・ ステンレスボール、金メッキボールを腐食するような液体の測定はできません。

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装置番号：A11　装置名：充放電試験機 501室

メーカー名： sai，Espec 型式： 580（16ch）+恒温槽 用途： 試作蓄電池セルの基本性能の評価 概要： 5端子式で正・負両極の電位変化をモニタ。1kHzインピーダンス測定も可能な16チャンネルの充放電試験機。同じPCにより恒温槽の温度制御も可能。 　装置仕様   充放電試験器 -2～+10V, 10μA～1Aレンジ, CC,CV,CCCV,CPモード 恒温槽 -60～+150℃

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装置番号：A12　装置名：高精度電気化学測定システム 501室

メーカー名： Solartron,BioLogic 型式： 12608W,SP-200,VSP-300 用途： 交流インピーダンス、直流分極測定 概要： ・12608Wは電気化学測定に必要な交流インピーダンス・直流分極測定を全自動で簡潔に実行できる測定システム ・SP-200は、可搬型ポテンショスタット/ガルバノスタット ・VSP-300は、6チャンネルのモジュール型ポテンショスタット/ガルバノスタット 　装置仕様 12608W（Solartron)   周波数レンジ 10μHz～1MHz 電流レンジ 200nA～2A 電流検出抵抗 0.1Ω/1Ω/10Ω/100Ω/1kΩ/10kΩ/100kΩ/1MΩ 電流検出誤差 1kHz以下0.2％　10kHZ以下で1％　100kHz以下で2％ IR補正回路 電流遮断時間 27μS～1.36mS 周期の％ 0.4％～50％ 正帰還範囲 0～100％Rs リアルパート補正 0～100％Rs I/O RS423/232　110～9600baud GPIB　アドレッサブル VSP-300（BioLogic）   最大電流 ±500mA 制御電圧 ±10V インピーダンス測定周期範囲 10μHz～7MHz 電流レンジ 20A～1μA 電流オートレンジ 有 最小電流分解能 76pA 最小電圧分解能 1μV 外部アナログ入力 2ポート/チャンネル スロット数 16個 SP-200（BioLogic）   最大電流 ±500mA 制御電圧 ±10V インピーダンス測定周期範囲 10μHz～7MHz 電流レンジ 1A～10nA 電流オートレンジ 有 最小電流分解能 76pA 最小電圧分解能 1μV 外部アナログ入力 2ポート

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装置番号：A13　装置名：単粒子測定システム 101室

メーカー名： KEYENCE,BioLogic,Micro Support 型式： 特型 用途： 電池電極は、活物質以外に結着材や導電性付与材等を含む複合材料であるが、活物質だけの基本的電池性能の評価が必要になる場合がある。本システムは、単一の活物質粒子について電気化学特性を測定するシステムである。 概要： 解像度が高く操作性のよい光学顕微鏡と、金属探針を狙った粒子に接触させるためのマニピュレータ、電気化学測定装置から構成されている。 　装置仕様   光学顕微鏡部 KEYENCE製 VHX-2000-DE マニピュレータ部 MicroSupport製 ｸｲｯｸﾌﾟﾛWP-2RH 電気化学特性測定部 Biologic製 SP-200（微小電流オプション） 　使用上の注意   ・ 操作が高難度であるため、担当研究者との共同研究ベースでのご利用をご検討ください。

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装置番号：A14　装置名：ICP/MS（誘導結合プラズマ質量分析計） 503室

メーカー名： Agilent 型式： Agilent 7700 ICP-MS 用途： 微量元素の定性分析、定量分析 概要： 高感度な多元素分析を高いサンプルスループットで実現する元素分析装置。誘導結合プラズマ（ICP）を励起源として用い、発生したイオンを質量分析部（MS）で検出する。LiからUまでの多数の元素を同時に、pptからppmの濃度レベルで測定できる。同位体比測定も可能。 　装置仕様 プラズマ   RFジェネレータ ソリッドステート・デジタルドライブ27MHz RFジェネレータ RF出力レンジ 500W～1600W マスアナライザ   四重極質量分析計 双曲線状四重極 【質量範囲】2～260amu 【最大応答速度】22,638amu（LiからU、干渉ピークがない時） 【アバンダンス感度】低マス側 5ｘ10-7　高マス側 1ｘ10-7 検出器 【最小dwell time】100μs 【ダイナミックレンジ】9桁 　使用上の注意   ・ 試料は水溶液のみです。 ・ 固体サンプルは事前に溶液化してお持ち込みください。(蓄電池PFには酸分解などの前処理施設はありません) ・ フッ酸、有機溶媒は測定できません。

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装置番号：A15　装置名：LC/MS（液体クロマトグラフ質量分析計） 503室

メーカー名： Waters 型式： Xevo G2-S QTof 用途： 四重極型MS、飛行時間型MS、UPLC/MS/MS 概要： 液体クロマトグラフと四重極型MS、飛行時間型MSを組み合わせた装置。質量分解能、定量性能、質量精度、分析のスピードが高い。主に電解液の成分分析・定量分析に用いる。 　装置仕様   質量精度 1ppm 質量範囲 m/z50～に対応 分解能 32,500FWHM 分析部 四重極MSおよび飛行時間MSを直列接続 イオン源 二段階直行型配置 イオン化法 ESI法 LC部 PH2～12に対応 　使用上の注意   ・ ODSカラムを標準としています。これ以外のカラム使用の場合はご持参ください。

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装置番号：A16　装置名：イオンクロマトグラフ 503室

メーカー名： Dionex 型式： ICS-2100 用途： 液体試料中の各種イオンを定量 概要： イオン交換カラムによりイオン成分を分離し、液体試料中の各種イオン（無機陰イオン,無機陽イオン,有機酸,アミン,など）を高感度で定量。2～5mmカラムに対応。カラムヒーター装備。電解再生サプレッサー、溶離液ジェネレータを装備。 　装置仕様   ポンプ デュアルピストンポンプ方式 【流量】0.00～5.00ml/min（0.01毎） 【最大耐圧】35MPa 検出器 デジタル出力レンジ　0～15000μS カラムオーブン 室温+7℃～55℃ 　使用上の注意   ・ 有機溶媒は分離カラムに悪影響があるため、水で100倍以上に希釈しての測定になります。

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装置番号：A17　装置名：酸素・窒素・水素定量分析装置 504室

メーカー名： HORIBA 型式： EMGA 用途： 試料中の酸素、窒素、水素の定量分析 概要： 不活性ガス雰囲気中で試料を加熱融解させ、発生するガス中の酸素と窒素と水素を分析する装置。検出方式は酸素と水素が非分散型赤外線吸収法、窒素は熱伝導度法。 　装置仕様   測定方法 【酸素】不活性ガス融解-非分散型赤外線吸収法 【窒素】不活性ガス融解-熱伝導度法 【水素】不活性ガス融解-非分散型赤外線吸収法 測定範囲 【酸素】0～5％（m/m） 【窒素】0～3％（m/m） 【水素】0～0.25％（m/m） 試料質量 1.0±0.1g 感度 酸素、窒素：0.0000001％（m/m） ガス抽出炉電力 【インパルス炉出力】0～8.0kW 　使用上の注意   ・ 以下のものは測定できません。 　Na,K,Ca,Mg,Li,Cd：低沸点のため 　ハロゲン含有：装置の金属部が腐食するため 　硫黄含有：試薬が劣化するため

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装置番号：A18　装置名：グロー放電発光分析装置（GD-OES） 504室

メーカー名： HORIBA 型式： GD-Profiler 2 用途： 試料の表面分析/深さ方向分析 概要： Arプラズマにより試料をスパッタリングさせ、スパッタされた原子を原子発光させることで元素分析を行う装置。パルススパッタにより高分解能深さ方向測定が可能。高周波方式グロー放電により、導電性固体のバルク分析が可能。 　装置仕様   検出器 光電子増倍管 分光器 ポリクロメーター(32元素)、モノクロメーター(1波長) 感度（検出下限） 数10ppm～ 測定深さ ～200μm 深さ方向分解能 数nm～ 適用試料 導電性材料・非導電性材料 放電径 φ4mm 　使用上の注意   ・ 非導電性バルク試料は測定できません。 ・ 導電性の異なる材料の積層試料は測定が困難です。

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装置番号：A19　装置名：GC/MS（ガスクロマトグラフ質量分析計） 504室

メーカー名： Agilent 型式： Agilent　5977A　GC/MS 用途： 充放電や高温保存等に伴う有機電解液の変質を定量的に調べる。 概要： GCで分離した各成分をスプリットして一部を質量分析計、一部をFIDで分析することにより定性分析と同時に概略定量が可能。また質量分析計はScan/SIM同時測定が可能。 　装置仕様   質量範囲 10～ 分解能 R>２M 最大スキャン速度 20,000u/sec 排気ポンプ 255L/sec TMP 　使用上の注意   ・ 液体試料のオートサンプラー注入、中極性キャピラリーカラムを標準としています。カラムを変更したい場合はご持参ください。

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装置番号：A20　装置名：電池発生ガス分析装置 504室

メーカー名： JEOL 型式： JMS-700 用途： 既知物質の同定や未知物質の構造決定 概要： イオン化した原子・分子をイオンの質量・イオンの電荷数よって分離、測定する装置。高加速イオン源と高電圧印加コンバージョンダイノード形イオン検出器を装備しているので、正負イオンの高感度測定に極めて有効。60,000 以上の質量分解能を有し、電池セルから発生するガス種の分析にも適用。 　装置仕様   分解能 60,000（10％谷） 感度 ステアリン酸メチル　0.2ng、S/N≧400（CI/EI共用イオン源) 加速電圧 最大　10kV 　使用上の注意   ・

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装置番号：A21　装置名：XRF（蛍光X線分析装置） 505室

メーカー名： SHIMADZU 型式： LAB CENTER XRF-1800 用途： 物質の成分分析や構成比率を分析 概要： この装置では、試料にX線を照射し、試料中の元素から放出される特性X線を検出することによって、250㎛スケールでの元素分析が可能である。 水素、ヘリウム、リチウムおよびベリリウムを除く全元素について、試料表面における元素組成比の決定や元素マッピングが可能である。 　装置仕様   形式 波長分散型 X線管 4kw薄窓，Rhターゲット 試料交換機 8試料ターレット 検出器 SC，FPC 分光結晶 LiF(200)，PET，Ge，TAP，SX98，SX76，SX-54，SX-14 　使用上の注意   ・ 非暴露測定はできません。

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装置番号：A22　装置名：XPS（X線光電子分光装置） 505室

メーカー名： ULVAC-PHI 型式： VersaProbe II 用途： H、He以外のすべての元素の定性・定量、化学結合状態の分析 概要： この装置では、X線励起によって放出された光電子を分析することによって、試料表面の組成比および酸化状態を決定することが可能である。Arイオン銃およびArガスクラスターイオン銃を装備しており、深さ分解測定も可能である。トランスファーベッセルを用いて、アルゴン雰囲気からの大気非暴露搬送が可能である。 　装置仕様   X線源 集束Al Kα線（1486.6 eV, スポットサイズ; 10-300㎛） 非集束Mg Kα/Zr Kα線（Mg Kα; 1254 eV, Zr Kα; 2042.4 eV） 最小ビーム径 10㎛以下 最高エネルギー分解能 0.5eV以下（Ag3ｄ 5/2） 最大感度 1,000,000cps（Ag3ｄ 5/2の半地幅1.0eVのとき） 到達真空度 6.7x10-8Pa以下 イオンスパッタリング ArモノマーおよびArガスクラスターイオン銃 試料ステージ 加熱，冷却対応，５軸ステージ 試料搬送 大気非曝露搬送対応 　使用上の注意   ・ 超高真空機器につき、揮発成分により装置内を汚染する可能性のある試料は原則測定できません。揮発成分のある試料につきましては事前にご相談下さい。（硫化物を含む試料は測定不可）

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装置番号：A23　装置名：HAXPES 505室

メーカー名： Omicron Nano Technology、ULVAC-PHI（光源） 型式： 特型 用途： 硬X線源を用いたX線光電子分光 概要： この装置では、硬X線励起によって放出された光電子を分析することによって、表面元素を検出することが可能である。この装置は集束Cr Kα線を装備しており、通常のXPSより深い領域（10 ㎚以上）の元素を分析することが可能である。本装置は、Ar雰囲気のグローブボックスと直結されており、大気非暴露搬送が可能である。 　装置仕様   単色化Cr X線源出力 5.4 keV φ200 ㎛ビームで50 W以上 エネルギー分解能 70meV以下（ﾊﾟｽエネルギー100eV、6keV光電子に対して） 　使用上の注意   ・ 操作が高難度であるため、担当研究者との共同研究ベースでのご利用をご検討ください。 ・ 超高真空機器につき、揮発成分により装置内を汚染する可能性のある試料は原則測定できません。揮発成分のある試料につきましては事前にご相談下さい。（硫化物を含む試料は測定不可）

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装置番号：A24　装置名：XRD（X線回折装置） 505室

メーカー名： Rigaku 型式： SmartLab 用途： 粉末解析、薄膜解析、小角X線散乱 概要： 高輝度X線源 及び In-Planeアームを搭載した試料水平配置高精度ゴニオメータを使用したX線回折装置。窒素等不活性ガス雰囲気中で1100℃まで試料を加熱しながら測定可能な試料ホルダ付属。 　装置仕様   X線源 9kWX線発生装置/Cuターゲット（回転対陰極式） 光学系 ・集中法 ・多層膜平行ビーム法 ・薄膜高分解能平行ビーム法 ・インプレーン光学系 検出器 シンチレーションカウンター/半導体1次元検出器 　使用上の注意   ・ 多機能装置につきライセンスは発行していません。 ・ 装置の立上げ、立下げ操作はPFが行いますので、実際のご使用時間プラス１時間が予約時間（課金時間）となります。

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装置番号：A25　装置名：比表面積測定装置 504室

メーカー名： Micromeritics 型式： 3FLEX 用途： 粉体の比表面積、細孔容積の測定 概要： 3ポート搭載で、3試料同時測定可能 メソポア/マイクロポアの測定に対応 各ポートに低圧トランスデューサーが搭載してあり、高精度な測定が可能 　装置仕様   サンプルポート 3、マイクロポート対応は2または3を選択可 最低比表面積 0.01m2/g(窒素使用時)、0.0005m2/g（Krガス使用時） マニホールド温度制御 45℃+/-0.05℃ サンプルセル 9mm、12mm平底型

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装置番号：A26　装置名：粒子径分布測定装置 504室

メーカー名： HORIBA 型式： LA-950V2　MF 用途： 粒子の粒度分布 概要： 粒子群にレーザ光（650nm）とLED（405nm）を照射し、そこから発せられる回折・散乱光の強度分布パターンから計算により粒度分布を求める。多くの粉粒子を一度に、短時間、非破壊、非接触、高精度、高再現性で測定可能。 　装置仕様   測定原理 Mie散乱理論 測定粒子径範囲 0.01～1000μm 分散媒量 35～55ml 光源系 光源 半導体レーザ（650nm）,5.0mW,LED（405nm）,3.0ｍW 検出器 リング状シリコンフォトダイオード、側方・後方シリコンフォトダイオード　計87チャンネル 循環系 分散 超音波プローブ 循環ポンプ 15段階強度可変 注入ポンプ テフロンダイヤフラムポンプ フローセル Tempaxガラス 使用温度・湿度 15℃～35℃、85%RH以下

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装置番号：A27　装置名：環境制御型SPM 206-1室

メーカー名： Bruker AXS 型式： MultiMode 8　+ グローブボックス（MBrown) 用途： 表面粗さ、機械的特性、電気特性の局所評価 概要： 水分および酸素濃度が1ppm未満の雰囲気で、電極材料の活性を損なわずに材料表界面状態をナノスケールで計測する走査型プローブ顕微鏡。大気に曝露できない二次電池材料の充放電時における構造、形状、ポテンシャル等をナノスケールで評価できる。 　装置仕様   測定モード 直接フォース制御可（弾性率、吸着率、エネルギー散逸等） 高速走査 256ポイント×256ライン　1分以内 ステージ移動範囲 XY方向125㎛ x 125㎛ Z方向 5㎛ 試料サイズ 最大　直径15mm、厚み 5mm 　使用上の注意   ・ 操作が高難度であるため、担当研究者との共同研究ベースでのご利用をご検討ください

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装置番号：A28　装置名：TOF-SIMS 102室

メーカー名： ION-TOF 型式： TOF.SIMS5-AD-GCIB 用途： 試料表面の微量な元素、化合物の同定や深さ方向分析、サブミクロン分解能でのイメージング 概要： イオンスパッタによって発生した2次イオンを質量分析することで、非常に高感度な分析が可能。スタティックSIMSの条件では、有機化合物の構造情報も得られる。Arガスクラスターイオンビーム（GCIB）併用により低ダメージスパッタリング、有機物の深さ方向分析に対応。 　装置仕様   最小ビーム径 100 nm （イメージングモード） 質量分解能 M/ΔM＞10000　（スペクトロスコピーモード） 到達真空度 6.7x10-8Pa以下 Ar-GCIB 【エネルギー】2～20keV,　【クラスターサイズ】約2500 ガスフラッド機構 O2またはAr使用可（自動圧力コントロール） 試料加熱冷却 -130～600℃　（専用試料ホルダー使用） 大気非暴露搬送 専用トランスファーベッセル使用 　使用上の注意   ・ 導電性ナノ粒子を含む試料は測定不可です。 ・ 導電性の異なる材料の積層試料は測定が非常に困難です。 ・ センシティブな装置につきライセンスは発行していません。 ・ 非暴露対応トランスファーベッセルは付属していますが、気密性が低くセンシティブな試料については保証できません。 ・ 超高真空機器につき、揮発成分により装置内を汚染する可能性のある試料は原則測定できません。揮発成分のある試料につきましては事前にご相談下さい。（硫化物を含む試料は測定不可）

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装置番号：A29　装置名：TEM/STEM 105室

メーカー名： JEOL 型式： JEM-ARM200F（HR） 用途： TEM/STEM観察、EELS測定、EDS測定 概要： 照射系球面収差補正装置を搭載し、超高分解能（STEM-HAADF：78pm（200ｋV))での観察を実現させるとともに、高いエネルギー分解能のEELS測定が可能。大気非曝露搬送対応。 　装置仕様 電子銃   電子銃 冷陰極電界放出形電子銃 加速電圧 60,80,200kV 分解能   走査透過暗視野像 78pm（加工電圧200kV） 透過像（点分解能） 190pm（加速電圧200kV） 倍率   走査透過像 x200～x150,000,000 透過像 x50～x2,000,000 その他   収差補正装置 照射系球面収差補正装置 分析器 ・エネルギー分散型X線分析装置（EDS） ・電子線エネルギー損失分光器（EELS） 試料ホルダー 雰囲気遮断（二軸）、クライオ雰囲気遮断（二軸） 試料搬送 大気非曝露搬送対応 　使用上の注意   ・ 超高真空機器につき、揮発成分により装置内を汚染する可能性のある試料は原則測定できません。揮発成分のある試料につきましては事前にご相談下さい。（硫化物を含む試料は測定不可）

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装置番号：A30　装置名：FIB 105室

メーカー名： JEOL 型式： JIB-4501 用途： FIB加工およびSEM観察、SEM/TEM試料作製 概要： 熱電子銃形SEMと高性能イオンカラムを搭載した複合ビーム加工観察装置。加工ステージの冷却対応にて、低ダメージのFIB加工が可能。メッシュへのサンプリングはグローブボックス内で実施。大気非曝露搬送対応。 　装置仕様 FIB（集束イオンビーム）   イオン源 Ga　液体金属イオン源 加速電圧 1～30kV 倍率 ・x30（視野探し用） ・x100～300,000 像分解能 5nm（30kV時） 最大ビーム電流 60nA（30kV時） SEM（電子ビーム）   ビーム源 LaB6 加速電圧 0.3～30kV 倍率 x5～300,000 像分解能 2.5nm（30kV時） 最大ビーム電流 1μA（30kV時） その他   試料ステージ 冷却可能（液体窒素） 試料搬送 大気非曝露搬送対応。付属のグローブボックス内でサンプルピックアップが可能。 　使用上の注意   ・ 超高真空機器につき、揮発成分により装置内を汚染する可能性のある試料は原則測定できません。揮発成分のある試料につきましては事前にご相談下さい。（硫化物を含む試料は測定不可）

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装置番号：A31　装置名：FIB-SEM 108室

メーカー名： Hitachi High-Tech Science 型式： SMF2000 用途： FIB加工およびSEM/STEM観察、3D再構築,EDS測定,SEM/TEM試料作製 概要： FIBとSEMの鏡筒が直角配置され、FIB加工と観察を繰り返すことにより3D再構築が可能。クライオホルダーを用いることにより低ダメージでの加工/観察が可能。EDS測定、STEM観察が可能。大気非曝露搬送対応。 　装置仕様 FIB（集束イオンビーム）   イオン源 Ga　液体金属イオン源 加速電圧 1,2,3kV及び5～30kV（5kVステップ） 観察視野 0.5μmｘ0.5μm～φ2mm 像分解能 4.0nm（30kV） 最大ビーム電流 90nA SEM（電子ビーム）   電子銃 熱電界放出型電子銃（ZrO/W） 加速電圧 0.1～30kV（10kVステップで設定可能） 観察視野 0.125μmｘ0.125μm～2mmｘ2mm（10kV） 像分解能 1.1nm（20kV）,1.5nm（10kV）,2.5nm（1kV） STEM分解能 0.8nm（30kV） 最大ビーム電流 10nA 検出器 STEM検出器,BSE検出器 低加速Arイオンビーム   イオン源 PIG型ガスイオン源 加速電圧 0.5～1kV 最大ビーム電流 10nA その他   分析器 エネルギー分散型X線分析装置（EDS） 試料ホルダー クライオ雰囲気遮断（一軸） 試料搬送 大気非曝露搬送対応 　使用上の注意   ・ 超高真空機器につき、揮発成分により装置内を汚染する可能性のある試料は原則測定できません。揮発成分のある試料につきましては事前にご相談下さい。（硫化物を含む試料は測定不可）

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装置番号：A32　装置名：SEM 108室

メーカー名： JEOL 型式： JSM-7800F 用途： SEM観察、EDS測定、WDS測定、EBSD測定 概要： 静磁場と静電場を重畳させた対物レンズを備え、低加速電圧（0.01～30kV）で高分解能（0.8nm（15ｋV）/1.2nm（1kV））な観察が可能。軟X線分光器を搭載しており、50eVからの検出が可能であるためLi-K発光（54eV）の計測が可能。EDS,EBSD測定可能。大気非曝露搬送対応。 　装置仕様   分解能 0.8nm（15kV）,1.2nm（1kV）,3.0nm（15kV、5nA、WD10mm） 倍率 x25～x1,000,000 加速電圧 0.01kV～30kV ビーム電流 数pA～200nA 検出器 上方検出器（UED）,下方検出器（LED） ジェントルビーム 組込み デジタル画像 1,280x960画素、800x600画素 分析器 ・エネルギー分散型X線分析装置（EDS） ・波長分散型X線分析装置（WDS) ・軟X線発光分析システム ・結晶方位解析装置（EBSD） 試料ステージ 冷却可能 試料搬送 大気非曝露搬送対応 　使用上の注意   ・ 超高真空機器につき、揮発成分により装置内を汚染する可能性のある試料は原則測定できません。揮発成分のある試料につきましては事前にご相談下さい。（硫化物を含む試料は測定不可）

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装置番号：A33　装置名：走査型オージェ電子分光装置 108室

メーカー名： ULVAC-PHI 型式： PHI710 用途： 固体表面の元素・組成分析。化学結合状態の分析。 概要： この装置では、試料に集束された電子線を照射し、オージェ過程を経て放出された電子の運動エネルギーを検出することで、元素組成および化学結合状態を分析することが可能である。最小分解能8 nm、最大拡大倍率50万倍での低ドリフト測定が可能である。試料は専用のトランスファーベッセルを利用して、大気非暴露搬送が可能である。 　装置仕様   SEM像分解能 ≤ 3nm（25kV） AES空間分解能 ≤ 8nm（20kV,1nA） 感度 700kcps（CuLMM）（10kV,10nA） エネルギー分解能 0.5%以下（HRモード 0.1～0.5%） 到達真空度 6.7ｘ10-8Pa以下 試料ステージ 冷却対応 試料搬送 大気非曝露搬送対応 　使用上の注意   ・ 冷却ステージ設置のため高分解能モードは使用不可です。 ・ 超高真空機器につき、揮発成分により装置内を汚染する可能性のある試料は原則測定できません。揮発成分のある試料につきましては事前にご相談下さい。（硫化物を含む試料は測定不可）

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装置番号：A34　装置名：クロスセクションポリッシャ（CP） 108室

メーカー名： JEOL 型式： IB-09020CP 用途： 大気非曝露での断面SEM観察用試料作製 概要： Ar+イオンビームと遮蔽板を用いて試料の断面を加工する断面試料作製装置。断面加工モニター用カメラを搭載し、加工状況がリアルタイムに確認可能。試料ステージ冷却可能。大気非曝露搬送対応。 　装置仕様   イオン加速電圧 2～8kV イオンビーム径 500㎛（半値幅） ミリングスピード 300㎛/h以上（8kV） 試料移動範囲 X軸:±10mm Y軸:±3mm 試料角度調整範囲 ±5° 試料加工スイング角 ±30° 試料搬送 大気非曝露搬送対応 　使用上の注意   ・ 超高真空機器につき、揮発成分により装置内を汚染する可能性のある試料は原則測定できません。揮発成分のある試料につきましては事前にご相談下さい。（硫化物を含む試料は測定不可）

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〒305-0044 　茨城県つくば市並木1-1　　 TEL：029-860-4941（代表） FAX：029-860-4981 Email：Battery-PF(a)nims.go.jp ※ （a）を「@」に変換してください。