イベント

ナノインデンテーション関連装置開発の世界的なリーディング企業である 米国Hysitron社からDr. Douglas Staufferをお招きして、セミナーを開催いたします。 ナノインデンテーション技術に関する最新情報について、特に試料表面から 数nm深さの測定技術をコーティングに応用した例などについてご紹介いただきます。
事前申し込みの必要はありませんので、お気軽にお越し下さい。

1．日時
平成27年5月20日（水）　13：30～14：30

2．場所
国立研究開発法人　物質・材料研究機構　千現地区　8F中セミナー室

3．演題
Limits of the nanoindentation area function: ultra-shallow testing and strain rate effects, Probing ultrathin protective coatings

4.講演者
Dr. Douglas Stauffer (Hysitron, Inc.)

米国Hysitron社のDouglas Stauffer博士をお招きし、ナノインデンテーション技術による最新の成果について講演いただきました。表面から数nm以下の深さにおけるヤング率の測定、ひずみ速度急変測定の応用、連続部分除荷手法による硬さ測定などの例が紹介されました。また、ナノインデンテーション関連技術として、電気伝導度の同時測定に関する技術も紹介されました。講演会には院生を中心に多くの参加者があり、最新技術について活発な議論がなされました。